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公开(公告)号:CN115380038A
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202180027605.8
申请日:2021-03-31
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C07F15/06 , C07F7/22 , H01L21/285 , C23C16/18
Abstract: 本发明提供下述通式(1)所示的脒基化合物或其二聚体化合物、以及将所述化合物用作原料的薄膜的制造方法。(式中,R1和R2各自独立地表示碳原子数1~5的烷基,R3表示氢原子或碳原子数1~5的烷基,M表示金属原子或硅原子,n表示M所示的原子的价数,其中,R1~R3中的至少一个氢原子被氟原子取代。)
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公开(公告)号:CN107428677B
公开(公告)日:2022-04-05
申请号:CN201680013777.9
申请日:2016-02-12
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C07C251/08 , C23C16/18 , C07F15/06
Abstract: 由下述通式(I)表示的二氮杂二烯基化合物。(式中,R1和R2各自独立地表示碳数1~6的直链或支化状的烷基,R3表示氢原子或碳数1~6的直链或支化状的烷基,M表示金属原子或硅原子,n表示由M表示的金属原子或硅原子的价数。)
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公开(公告)号:CN111344294A
公开(公告)日:2020-06-26
申请号:CN201880072963.9
申请日:2018-07-27
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C07F15/00 , C23C16/18 , H01L21/28 , H01L21/285
Abstract: 本发明的目的在于提供一种蒸气压高、熔点比以往已知的化合物低的钌化合物、含有该化合物的薄膜形成用原料以及使用该原料形成含有钌的薄膜的薄膜的制造方法。为了实现上述目的,提供一种下述通式所示的钌化合物、含有该钌化合物的薄膜形成用原料以及使用了该薄膜形成用原料的薄膜的制造方法。(式中,R1~R3分别独立地表示碳原子数1~5的烷基。其中,在R1为甲基的情况下,R2与R3为不同的基团。)
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公开(公告)号:CN109923119A
公开(公告)日:2019-06-21
申请号:CN201780068589.0
申请日:2017-10-05
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C07F15/06 , C07C257/14 , C23C16/18
Abstract: 本发明涉及薄膜形成用原料,其含有下述通式(1)表示的化合物(式中,R1表示碳数1~5的直链或支链状的烷基,R2表示氢或碳数1~5的直链或支链状的烷基,R3和R4各自独立地表示碳数1~5的直链或支链状的烷基,A表示碳数1~4的链烷二基,M表示铜、铁、镍、钴或锰。)
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公开(公告)号:CN106660946A
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201580040201.7
申请日:2015-07-16
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C07C251/08 , C23C16/18 , H01L21/285 , C07F1/08 , C07F15/06
Abstract: 本发明的醇盐化合物的特征在于由下述通式(I)表示。
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