公开(公告)号：CN103348036B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201180066834.7

申请日：2011-12-20

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 松本克史 ,  中井淳一 ,  高木敏晃

IPC: C23C14/34 ,  C22C9/00 ,  C22C21/00 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C14/3407 ,  C22C1/02 ,  C22C9/00 ,  C22C21/00 ,  C23C14/3414

Abstract: 在将距Al基合金或Cu基合金溅射靶的最表面1mm以内的深度的溅射面法线方向的结晶方位 ±15°、 ±15°、 ±15°、 ±15°及 ±15°的合计面积率设为P值时，满足下述（1）及/或（2）的要件，由此可提高预溅射时以及接着进行的向基板等的溅射时的成膜速度，且能够抑制飞溅等溅射不良。其中，（1）相对于所述P值的 ±15°的面积率PA：40%以下，（2）相对于所述P值的 ±15°和 ±15°的合计面积率PB：20%以上。

公开(公告)号：CN102102183B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN201010597854.4

申请日：2010-12-16

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 高木敏晃 ,  松本克史 ,  岩崎祐纪 ,  长尾护 ,  莳野秀忠

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14

Abstract: 提供一种Al基合金溅射靶，其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升)，可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其中，以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时，算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下，以及最大高度Rz为10μm以下，并且，将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q，跨越基准长度100mm，依次计数P和Q时，P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。

公开(公告)号：CN102051504A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010529527.5

申请日：2010-10-28

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 高木敏晃 ,  松本克史 ,  岩崎祐纪 ,  莳野秀忠

IPC: C22C21/02 ,  C22C21/00 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明提供一种Al基合金溅射靶，其对于形成低布线电阻和抗小丘性优异的金属薄膜有用，优选还能够抑制溅射时的飞溅发生。本发明涉及Al基合金溅射靶，其含有Fe为0.0010～0.4质量％和Si为0.0010～0.50质量％。