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公开(公告)号：CN114229474A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202210005576.1
申请日：2017-08-07
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , B65H20/02 , B65H23/188 , B65H26/00 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
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公开(公告)号：CN109791280B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201780061771.3
申请日：2017-09-04
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 描绘单元(Un)具备使经角度可变的多面镜(PM)的反射面(RP)偏向的加工用光束(LBn)入射，并使加工用光束(LBn)于基板(P)聚光为点光(SP)的fθ透镜系统(FT)，且根据多面镜(PM)的反射面(RP)的角度变化而使点光(SP)进行扫描。描绘单元(Un)具备：光束送光部(60a)，其将用以检测多面镜(PM)的反射面(RP)成为既定角度的原点的光束(Bga)投射至多面镜(PM)的反射面(RP)；反射镜(MRa)，其使于反射面(RP)反射的光束(Bgb)入射，并反射向反射面(RP)；及检测部(60b)，其基于在反射面(RP)再次反射的光束(Bgd)输出原点信号(SZn)。
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公开(公告)号：CN109844645B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201780061760.5
申请日：2017-09-14
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种图案描绘装置(EX)，其包括：光束切换部，具有多个选择用光学构件(OSn)，为了使光源装置(LS)射出的光束选择性地供给至多个描绘单元(Un)的其中之一，所述光学构件被设置成能依照顺序的引导光源装置(LS)射出的光束通过，且藉由电气控制使光束射向描绘单元(Un)；以及控制部(250)，在调整自多个描绘单元(Un)中特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度时，在对应于特定的描绘单元(Un)的光束强度调整部的可调整范围内调整投射向基板(P)的光束的强度，并以使自特定的描绘单元(Un)以外的其他各个描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度，与自特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度一致的方式，控制对应于其他各个描绘单元(Un)的前述光束强度调整部。
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公开(公告)号：CN109154784B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201780030933.7
申请日：2017-04-17
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是将具有可挠性的长条片状基板(P)的一部分沿圆筒状的外周面的圆周方向卷绕而加以支承的转筒(DR)，包括：圆筒体(50)，其具有距中心轴(AXo)为固定半径的圆筒状外周面；光电感测器(PDi)，其输出与朝向圆筒体(50)的外周面投射并射入至形成于圆筒体(50)的外周面的一部分的开口部(50n)的光束(LBn)的强度对应的信号；及感测器电路基板(60)，其输入来自光电感测器(PDi)的信号，以进行用以测量光束(LBn)的强度变化或光束位置的信号处理。
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公开(公告)号：CN107908083B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201711078129.4
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107209461B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201680006570.9
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
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公开(公告)号：CN107255913B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201710536605.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN106933066B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201611264164.0
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN106133610B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201580017855.8
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/24 , G03F9/00 , G03F9/7088
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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