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公开(公告)号:CN111316423A
公开(公告)日:2020-06-19
申请号:CN201880072662.6
申请日:2018-11-12
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L21/8242 , H01L21/336 , H01L27/108 , H01L27/1156 , H01L29/788 , H01L29/792
Abstract: 提供一种工作速度得到提高的半导体装置。半导体装置包括写入字线、读出字线、写入位线、读出位线、第一布线及存储单元。存储单元包括具有相同导电型的第一至第三晶体管及电容器。第一至第三晶体管的栅极分别与写入字线、电容器的第一端子、读出字线电连接。电容器的第二端子与读出位线电连接。第一晶体管的源极和漏极中的一个与写入位线电连接,另一个与第二晶体管的栅极电连接。第二晶体管与第三晶体管在读出位线和第一布线间串联电连接。第一至第三晶体管的沟道形成区域例如包括金属氧化物层。