一种含锂SiOx粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN111900366B

    公开(公告)日:2023-01-06

    申请号:CN202010629154.2

    申请日:2020-07-02

    Abstract: 本发明公开了一种含锂SiOx粉体的制备方法。所述含锂SiOx粉体中的x为0.9<x<1.1,主要成分为SiO、Si、SiO2和含锂化合物,该制备方法包括以下步骤:(1)原料的混合:将高纯Si粉和SiO2粉按一定配比称量,添加一定量的金属锂或者含锂化合物,采用球磨的方法进行混合;(2)含锂SiOx的制备:采用单源蒸发或双源蒸发化学气相沉积法制备含锂SiOx块体;(3)粉体整形:将含锂SiOx块体通过球磨或者气流破碎法进行粉体整形,得到目标含锂SiOx粉体。采用该方法制备SiOx粉体能够有效的实现SiOx材料的预锂化,并能够有效的避免SiOx材料在预锂化过程中的歧化反应。

    一种含锂SiOx粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN111900366A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN202010629154.2

    申请日:2020-07-02

    Abstract: 本发明公开了一种含锂SiOx粉体的制备方法。所述含锂SiOx粉体中的x为0.9<x<1.1,主要成分为SiO、Si、SiO2和含锂化合物,该制备方法包括以下步骤:(1)原料的混合:将高纯Si粉和SiO2粉按一定配比称量,添加一定量的金属锂或者含锂化合物,采用球磨的方法进行混合;(2)含锂SiOx的制备:采用单源蒸发或双源蒸发化学气相沉积法制备含锂SiOx块体;(3)粉体整形:将含锂SiOx块体通过球磨或者气流破碎法进行粉体整形,得到目标含锂SiOx粉体。采用该方法制备SiOx粉体能够有效的实现SiOx材料的预锂化,并能够有效的避免SiOx材料在预锂化过程中的歧化反应。

    一种纳米片状氧化亚硅及其复合负极材料

    公开(公告)号:CN111969196B

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN202010780626.4

    申请日:2020-08-05

    Abstract: 本发明公开了一种纳米片状氧化亚硅及其复合负极材料。该纳米片状氧化亚硅的化学式为SiOx,其中0.9<x<1.1;并且具有纳米片状颗粒形貌;其由激光粒度仪测试的中位粒径(D50)为100‑1000nm,由氮吸附测试的比表面积为50‑150m2/g。该纳米片状氧化亚硅颗粒平面方向的平均直径为100‑1000nm,厚度为10‑50nm,且所述颗粒平面方向的平均直径与颗粒厚度的比值大于5。所述复合负极材料包含所述纳米片状氧化亚硅及添加剂,其中纳米片状氧化亚硅在复合负极材料中的质量分数为5‑50%。本发明的纳米片状氧化亚硅具有电子、离子传输距离短的优势,在电极充放电过程中能够保持导电结构稳定。基于该纳米片状氧化亚硅的复合负极材料,可以减少导电组分的用量,在提高导电性和改善循环性能的同时保持高容量。

    一种纳米片状氧化亚硅及其复合负极材料

    公开(公告)号:CN111969196A

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN202010780626.4

    申请日:2020-08-05

    Abstract: 本发明公开了一种纳米片状氧化亚硅及其复合负极材料。该纳米片状氧化亚硅的化学式为SiOx,其中0.9<x<1.1;并且具有纳米片状颗粒形貌;其由激光粒度仪测试的中位粒径(D50)为100-1000nm,由氮吸附测试的比表面积为50-150m2/g。该纳米片状氧化亚硅颗粒平面方向的平均直径为100-1000nm,厚度为10-50nm,且所述颗粒平面方向的平均直径与颗粒厚度的比值大于5。所述复合负极材料包含所述纳米片状氧化亚硅及添加剂,其中纳米片状氧化亚硅在复合负极材料中的质量分数为5-50%。本发明的纳米片状氧化亚硅具有电子、离子传输距离短的优势,在电极充放电过程中能够保持导电结构稳定。基于该纳米片状氧化亚硅的复合负极材料,可以减少导电组分的用量,在提高导电性和改善循环性能的同时保持高容量。

    一种镀膜用氧化铈颗粒的制备方法

    公开(公告)号:CN111393165B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202010234167.X

    申请日:2020-03-27

    Abstract: 本发明公开了一种镀膜用氧化铈颗粒的制备方法,包括以下步骤:(1)以高纯氧化铈粉体为原料,向其中添加去离子水并进行造粒处理,得到结合紧密的氧化铈片状物;(2)将得到的片状物研磨破碎,并筛分出<0.1mm的预处理粉体;(3)将所得预处理粉体装入胶套中进行冷等静压成型为坯体。(4)将所得坯体按照如下烧结工艺进行烧结:2‑3小时升温到300‑400℃保温1h‑2h,2小时升到600℃‑800℃保温1h‑2h,4小时升温到1000℃‑1200℃保温1h‑2h,4小时升温到1300℃保温1h‑2h,2小时升温至1400℃保温1‑2h,1小时升温到1450‑1550℃保温3h‑5h;(5)冷却得到氧化铈烧结坯料,将坯料进行破碎和筛分得到镀膜用氧化铈颗粒。该方法生产的氧化铈颗粒具有高纯度、高密度、低喷溅等优点。

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