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公开(公告)号：CN101827686B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200980000302.6
申请日：2009-06-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法，其减少了研磨步骤之后在玻璃衬底上产生的斑点。本发明的研磨玻璃衬底的方法包括在玻璃衬底的最终研磨步骤中注入二氧化硅研磨剂和高沸点溶剂。所述高沸点溶剂优选为分子量300以下且沸点150℃以上的溶剂。作为分子量300以下且沸点150℃以上的高沸点溶剂的实例，包括乙二醇、丙二醇和丙三醇。
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公开(公告)号：CN101909816B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200980101730.8
申请日：2009-09-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C01F17/0043 , C01G25/02 , C01P2002/54 , C01P2004/64 , C01P2006/22 , C03C19/00 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供在采用氧化铈结晶微粒或氧化铈-氧化锆固溶体结晶微粒时也可以高速地研磨玻璃基板主表面的研磨浆料的制造方法。一种pH为2～7的研磨浆料的制造方法，其特征在于，制成包含由氧化铈粒子或氧化铈-氧化锆固溶体粒子形成的研磨颗粒、由2-吡啶羧酸或谷氨酸形成的分散剂、水的研磨浆料原液，以研磨颗粒的微晶径的减少比例在10％以下的条件对该研磨浆料原液的研磨颗粒进行分散，然后加水，再添加与所述分散剂相同的材料。
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公开(公告)号：CN101827686A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200980000302.6
申请日：2009-06-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法，其减少了研磨步骤之后在玻璃衬底上产生的斑点。本发明的研磨玻璃衬底的方法包括在玻璃衬底的最终研磨步骤中注入二氧化硅研磨剂和高沸点溶剂。所述高沸点溶剂优选为分子量300以下且沸点150℃以上的溶剂。作为分子量300以下且沸点150℃以上的高沸点溶剂的实例，包括乙二醇、丙二醇和丙三醇。
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公开(公告)号：CN104979184A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201510176570.0
申请日：2012-10-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/205 , C09K3/14 , C30B29/36 , C30B33/10
CPC classification number: C09G1/04 , C30B29/36 , C30B33/00 , H01L21/02024 , H01L29/1608 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及碳化硅单晶基板，其具备具有包含来源于结晶结构的原子台阶和平台的原子台阶-平台结构的主面，所述原子台阶-平台结构中，所述原子台阶的前端线部的平均线粗糙度相对于所述原子台阶的高度的比例为20％以下。
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公开(公告)号：CN103857765A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201280049471.0
申请日：2012-10-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C09K3/14 , C30B29/36 , C30B33/10 , H01L21/205 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/04 , C30B29/36 , C30B33/00 , H01L21/02024 , H01L29/1608 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及碳化硅单晶基板，其具备具有包含来源于结晶结构的原子台阶和平台的原子台阶-平台结构的主面，所述原子台阶-平台结构中，所述原子台阶的前端线部的平均线粗糙度相对于所述原子台阶的高度的比例为20%以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103782370A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201280043222.0
申请日：2012-08-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/30625 , H01L29/1608
Abstract: 本发明以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨，得到平滑的表面。本发明提供一种研磨剂，其中含有氧化还原电位为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、平均二次粒径为0.2μm以下的二氧化硅粒子、分散介质；所述氧化剂的含有比例为0.25质量％以上5质量％以下，且所述二氧化硅粒子的含有比例为0.01质量％以上且小于20质量％。
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公开(公告)号：CN103503118A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280020737.9
申请日：2012-05-28
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00
CPC classification number: C09G1/02 , H01L21/02024 , H01L21/0475 , H01L21/30625
Abstract: 本发明提供一种用于以高研磨速度对碳化硅单晶基板等非氧化物单晶基板进行研磨、得到平滑的表面的研磨剂。该研磨剂的特征在于，含有氧化还原电位为0.5V以上的含过渡金属的氧化剂、氧化硅粒子和氧化铈粒子以及分散介质，所述氧化硅粒子的含量和所述氧化铈粒子的含量的质量比的值为0.2～20。
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公开(公告)号：CN103443224A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201280013816.7
申请日：2012-03-22
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C09D201/00 , C09D1/00
CPC classification number: C03C17/326 , C03C17/008 , C03C2217/445 , C03C2217/476 , C03C2217/74 , C08K3/22 , C08K5/3475 , C08K5/34926 , C08L63/00 , C09D5/027 , C09D5/32 , C09D7/48 , C09D7/61 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供能形成在具有足够的紫外线吸收功能和红外线吸收功能的同时确保无色透明性、而且耐候性也优异的被膜的液状组合物及其制造方法，以及具备在具有足够的紫外线吸收功能和红外线吸收功能的同时确保无色透明性、而且耐候性也优异的被膜的玻璃物品。本发明是一种液状组合物，该液状组合物是含有红外线吸收剂、紫外线吸收剂、具有酸值和/或胺值的分散剂、粘合剂成分和液状介质的被膜形成用的液状组合物，其中，所述红外线吸收剂选自掺锡氧化铟、掺锑氧化锡和复合钨氧化物，所述紫外线吸收剂选自二苯酮类化合物、三嗪类化合物和苯并三唑类化合物；其中，以分散剂的酸值和胺值的总和(mgKOH/g)与分散剂相对于红外线吸收剂的质量比之积为2～30(mgKOH/g)的含量含有分散剂。
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公开(公告)号：CN102421862A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201080020925.2
申请日：2010-05-14
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C09D183/06 , C03C17/30
CPC classification number: C03C17/30 , C03C2217/74 , C08G77/14 , C09D183/06
Abstract: 本发明提供用于形成具有耐磨损性等机械耐久性且长期使用而引起的紫外线吸收能力下降少的紫外线吸收膜的涂布液以及具备使用该涂布液形成的具有耐磨损性等机械耐久性且长期使用而引起的紫外线吸收能力下降少的紫外线吸收膜的紫外线吸收用玻璃物品。包含来源于含环氧基的有机氧基硅烷化合物的成分、来源于含羟基的二苯酮类化合物和含环氧基的有机氧基硅烷化合物的反应生成物的成分、来源于除所述两种有机氧基硅烷化合物以外的有机氧基硅烷化合物的成分的紫外线吸收膜形成用涂布液，以及使用该涂布液得到的紫外线吸收用玻璃物品。
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公开(公告)号：CN101909816A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200980101730.8
申请日：2009-09-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C01F17/0043 , C01G25/02 , C01P2002/54 , C01P2004/64 , C01P2006/22 , C03C19/00 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供在采用氧化铈结晶微粒或氧化铈-氧化锆固溶体结晶微粒时也可以高速地研磨玻璃基板主表面的研磨浆料的制造方法。一种pH为2～7的研磨浆料的制造方法，其特征在于，制成包含由氧化铈粒子或氧化铈-氧化锆固溶体粒子形成的研磨颗粒、由2-吡啶羧酸或谷氨酸形成的分散剂、水的研磨浆料原液，以研磨颗粒的微晶径的减少比例在10％以下的条件对该研磨浆料原液的研磨颗粒进行分散，然后加水，再添加与所述分散剂相同的材料。
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