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公开(公告)号：CN102419461B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201110294172.0
申请日：2011-09-26
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , G02B6/1221 , G02B6/1228 , G02B2006/1215
Abstract: 本发明提供一种能够减小光耦合损失的连接器用光波导路。在该连接器用光波导路中以交叉图案、分支图案或者直线图案形成芯部(2A、2B)后，以覆盖该芯部(2A、2B)的方式形成上包层形成用的感光性树脂层(3A)。然后，通过在70℃～130℃的范围内进行加热处理，从而使上述芯部(2A、2B)和上述感光性树脂层(3A)的交界部分形成为适当的混合层(4)。如上所述，通过形成上述混合层(4)能够制作光耦合损失较小的连接器用光波导路。
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公开(公告)号：CN102193143B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201110056278.7
申请日：2011-03-09
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B6/3897 , G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B6/3885
Abstract: 本发明涉及光连接器用光波导路、采用该光波导路的光连接器以及光连接器用光波导路的制作方法，该光连接器用光波导路在插入并固定在插芯的光波导路固定用贯通孔中时，能够准确地定位芯体的宽度方向位置从而降低连接时的光耦合损失的、且价格便宜。光连接器用光波导路包括：芯体(1)、下覆层(2)以及上覆层(3)，带状的长度方向的端部固定在设于光连接器的插芯的规定的贯通孔中，在下覆层上侧，利用光刻法形成芯体，且以该芯体的位置或定位用对准标记为基准并利用光刻法形成上覆层。上覆层(3)包覆芯体且以包覆下覆层(2)的包含宽度方向端面(2a、2a’)在内部分的方式包覆下覆层，上覆层的宽度与插芯的光波导路固定用孔大致同宽。
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公开(公告)号：CN101928398B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201010211053.X
申请日：2010-06-23
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C08G73/0273 , C08G73/1075 , C08L79/02 , C08L79/08 , G02B6/12
Abstract: 本发明涉及新型的聚酰亚胺化合物及制法以及由其获得的光学薄膜和光波导，所述聚酰亚胺化合物能通过旋转涂布法等成膜，且线膨胀系数小。所述聚酰亚胺化合物具有下述通式(1)所示的结构单元，通式(1)中，X是共价单键、-CH2-、-C(CF3)2-、-CR(R’)-；R、R’各自为碳数1～6的烷基、芳基，可彼此相同或不同；A、B各自是羟基、卤素基团、碳数1～4的烷基，可彼此相同或不同；a、b表示对应的A和B的取代基数，为0～2的整数；o、p、q为1～5的整数。
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公开(公告)号：CN101957475B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201010230603.2
申请日：2010-07-15
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B6/138
Abstract: 本发明提供一种在基板的表面上形成光波导路的情况下、能够与该基板的种类无关地减小光在光波导路的芯中的传播损失的光波导路装置的制造方法。在使用金属制基板(11)等情况下，芯形成用照射线(L)因该金属制基板(11)等而产生不规则反射，芯(3)的侧面(3a)形成为粗糙面。但是，之后，用非溶剂类的感光性树脂组合物形成上敷层形成用(第2)的感光性树脂层(4A)，通过在曝光之前加热，将芯(3)和感光性树脂层(4A)之间的界面部分形成混合层(5)。由于该混合层(5)的形成，光很少在形成为粗糙面的芯(3)的侧面(3a)部分传播，所以传播的光受芯(3)的侧面(3a)的粗糙面的影响很小，光的传播损失小。
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公开(公告)号：CN102262269A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN201110129636.2
申请日：2011-05-18
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B6/30
Abstract: 本发明提供能够简单且自动地使光纤和光波导路芯之间的光轴对齐的光连接构造和高效且高尺寸精度的该光连接构造用的光波导路的制法。光波导路(11)的上包层(3)的一端侧沿长度方向延伸、形成为延伸设置部(4)，在该延伸设置部(4)的芯(2)的延长线上同轴线地形成朝向延伸设置部(4)的一端侧端面开口的光纤固定用槽(5)，光纤嵌合固定在该光纤固定用槽(5)中。此外，在光纤固定用槽(5)的另一端侧封闭部和芯(2)之间形成有由上述上包层的一端侧部分构成的边界壁部(6)，嵌合于光纤固定用槽(5)中的光纤的光轴与光波导路芯(2)的光轴成为隔着该边界壁部(6)对齐的状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104097362B
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201410146172.X
申请日：2014-04-11
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , B32B9/00 , B32B15/04 , B32B2307/412 , B32B2605/006 , G02B5/0875 , G02B5/26
Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜。红外线反射薄膜（100）在透明薄膜基材（10）上依次具备红外线反射层（20）和透明保护层（30）。红外线反射层（20）从透明薄膜基材（10）侧起具备第一金属氧化物层（21）、由含有96～99.9重量%的银的银合金形成的金属层（25）和第二金属氧化物层（22），第一金属氧化物层（21）和第二金属氧化物层（22）分别与金属层（25）直接接触。在透明薄膜基材（10）与红外线反射层（20）之间以及红外线反射层（20）与透明保护层（30）之间均不具有金属层。本发明的红外线反射薄膜优选可见光透射率为65%以上，遮蔽系数小于0.60，自透明保护层侧测得的修正放射率为0.20以下。
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公开(公告)号：CN102540722B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201110339913.2
申请日：2011-11-01
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , G03F7/038 , G03F7/0388
Abstract: 本发明提供光波导用树脂组合物以及使用其的光波导，所述光波导用树脂组合物容易通过碱显影液形成芯图案，能抑制此时碱显影液的劣化并期待生产率的提高。光波导用树脂组合物以具有下述通式(1)所示的结构单元的碱可溶性树脂为主要成分，并含有用于其固化的光聚合引发剂。光波导具有基板(1)和形成于该基板(1)上的包层(2)，在上述包层(2)中形成有传输光信号的芯部(3)，由上述光波导用树脂组合物形成上述芯部(3)。在下述式(1)中，R1、R2、R3是氢原子或甲基，彼此可以相同也可以不同；另外，R5、R6是氢原子或甲基，彼此可以相同也可以不同；另外，R4是而且，m+n+p＝1，并且m＞0，n＞0，p＞0。
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公开(公告)号：CN104097362A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410146172.X
申请日：2014-04-11
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B5/208 , B32B9/00 , B32B15/04 , B32B2307/412 , B32B2605/006 , G02B5/0875 , G02B5/26
Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜。红外线反射薄膜（100）在透明薄膜基材（10）上依次具备红外线反射层（20）和透明保护层（30）。红外线反射层（20）从透明薄膜基材（10）侧起具备第一金属氧化物层（21）、由含有96～99.9重量%的银的银合金形成的金属层（25）和第二金属氧化物层（22），第一金属氧化物层（21）和第二金属氧化物层（22）分别与金属层（25）直接接触。在透明薄膜基材（10）与红外线反射层（20）之间以及红外线反射层（20）与透明保护层（30）之间均不具有金属层。本发明的红外线反射薄膜优选可见光透射率为65%以上，遮蔽系数小于0.60，自透明保护层侧测得的修正放射率为0.20以下。
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公开(公告)号：CN104081230A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201380007366.5
申请日：2013-01-30
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层的红外线反射薄膜。该保护层为包含特定的高分子的层，保护层表面的动摩擦因数为0.001～0.45。
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公开(公告)号：CN103987522A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201280062240.3
申请日：2012-12-13
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B5/085 , B32B7/02 , B32B27/30 , B32B2605/006
Abstract: 一种红外线反射薄膜，其为在基材一侧的面上依次层叠了反射层和保护层的红外线反射薄膜，保护层为含有包含下述化学式I的重复单元A、B和C之中至少任意两者以上的重复单元的高分子的层，该保护层的压痕硬度为1.2MPa以上。(R1：H或甲基，R2～R5：H、碳数为1～4的烷基或链烯基)
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