公开(公告)号：CN115079412A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202210650112.6

申请日：2018-05-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗伯特·简·维瑟 ,  阿维舍克·古什

IPC: G02B27/01 ,  G02B1/00 ,  G02B5/18 ,  G02F1/00 ,  G02F1/01 ,  B82Y20/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/52

Abstract: 本文描述的实施方式涉及显示设备，例如，虚拟现实和扩增实境显示器和应用。在一个实施方式中，平面的基板具有：形成于其上的阶梯特征和形成于数个特征中的每一特征上的发射器结构。封装层设置在该基板上，并且多个均匀的介电纳米结构形成于该封装层上。由本文公开的设备产生的虚拟图像通过减小在图像平面处的色差来提供改善的图像清晰度。

公开(公告)号：CN114152594A

公开(公告)日：2022-03-08

申请号：CN202110948257.X

申请日：2021-08-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 托德·J·伊根 ,  阿维舍克·古什 ,  爱德华·W·布迪亚图 ,  赵国衡

IPC: G01N21/55

Abstract: 公开的实施方式描述了一种光学检验装置，包括：光源，用来将光束引导到晶片的表面上的部位，所述晶片正在从处理腔室运输，其中所述光束用来产生反射光；光学传感器，用来收集表示第一反射光的方向的第一数据，收集表示多个值的第二数据，所述多个值表征在多个波长中的对应一个波长处的反射光的强度；和处理装置，与所述光学传感器通信，用来使用所述第一数据确定所述晶片的表面的位置；检索校准数据；和使用所述晶片的表面的位置、所述第二数据和所述校准数据，确定表示晶片的质量的特征。

公开(公告)号：CN112041977A

公开(公告)日：2020-12-04

申请号：CN201980028939.X

申请日：2019-03-29

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 阿维舍克·古什 ,  普莉娜·松特海利亚·古拉迪雅 ,  罗伯特·简·维瑟

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本公开内容的实施方式涉及对经受真空处理的基板的检查。在一个实施方式中，处理腔室包括：第一观察口、第二观察口、电磁辐射发射器及检测器，第一观察口使电磁辐射的发射器能够照射处理腔室中的基板，第二观察口使检测器能够检测从基板散射的电磁辐射。