公开(公告)号：CN106463365A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580035762.8

申请日：2015-06-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 贾勒帕里·拉维 ,  松下智治 ,  阿拉维德·米亚尔·卡马斯 ,  袁晓雄 ,  振雄·马修·蔡 ,  曼朱纳塔·科普帕

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/455 ,  C23C16/4586

Abstract: 本文提供基板支撑件的实施方式。在一些实施方式中，基板支撑件包含：第一板，用以支撑基板，第一板的背侧上具有多个净化气体通道；第二板，设置于第一板下方并支撑第一板；及边缘环，环绕第一板并设置于第二板上方，其中多个净化气体通道从第一板的中央部分中的单一入口延伸至第一板的边缘处的多个出口，且其中多个气体净化通道具有实质相等的流导。

公开(公告)号：CN308496320S

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202230438293.7

申请日：2022-07-11

Applicant: 应用材料公司

Designer： 梁志修 ,  迈克尔·斯特林·杰克逊 ,  吕疆 ,  振雄蔡 ,  松下智治 ,  黄祖滨

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的基板支撑件。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于基板处理腔室的支撑件，例如在
微电子器件和薄膜制造中使用的用于基板处理腔室的支撑件。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
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公开(公告)号：CN308962345S

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202330664597.X

申请日：2022-07-11

Applicant: 应用材料公司

Designer： 梁志修 ,  迈克尔·斯特林·杰克逊 ,  吕疆 ,  振雄蔡 ,  松下智治 ,  黄祖滨

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的基板支撑件。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于基板处理腔室的支撑件，例如在微电子器件和薄膜制造中使用的用于基板处理腔室的支撑件。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：视图中的虚线代表不要求保护的环境，并且不构成所要求保护的设计的部分。

公开(公告)号：CN308638578S

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202230438294.1

申请日：2022-07-11

Applicant: 应用材料公司

Designer： 梁志修 ,  迈克尔·斯特林·杰克逊 ,  吕疆 ,  振雄蔡 ,  松下智治 ,  黄祖滨

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板支撑件的上部。
2.本外观设计产品的用途：用于基板处理腔室的支撑件，例如在微电子器件和薄膜制造中使用的用于基板处理腔室的支撑件。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：视图中的虚线代表不要求保护的环境，并且不构成所要求保护的设计的部分。