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公开(公告)号：CN101443711B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200680054628.3
申请日：2006-05-16
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/04 , G11B7/0065 , G11B7/1378
CPC classification number: G03H1/04 , G03H1/0465 , G03H1/265 , G03H2222/35 , G11B7/0065 , G11B7/00772 , G11B7/08564 , G11B7/128 , G11B7/1392
Abstract: 全息记录装置(A)对于全息记录介质(B)，经由空间光调制器(2)以向预定方向倾斜的状态构成预定入射角地照射记录光(S)，同时以向与记录光(S)相反的方向倾斜的状态与记录光构成预定的交叉角地照射参考光(R)，并利用记录光(S)与参考光(R)之间的干涉在全息记录介质(B)上记录全息图，其中包括光束调制装置(1)，光束调制装置(1)将强度分布呈高斯分布形状的高斯光束转换成强度分布趋于均匀的平行光，并使所述平行光作为记录光(S)向空间光调制器(2)前进，并且高斯光束的中心轴(Gs)偏离光束调制装置(1)的光轴(1A)，该偏离方向包含与记录光(S)相对于全息记录介质(B)所倾斜的方向相同的方向或者其反方向上的分量。
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公开(公告)号：CN101501580A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200680055439.8
申请日：2006-07-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26 , G11B7/0065 , G11B7/125 , G11B7/135
Abstract: 一种全息记录装置(A1)，包括：光源(1)，发出激光；分光器(3)，将来自所述光源(1)的激光分离成记录光(S)和参考光(R)；空间光调制器(5)，根据应记录的信息来调制记录光(S)；记录光学系统，向全息记录介质(B)的预定部位照射被调制了的记录光(S)；以及参考光学系统，在使相对于全息记录介质(B)的入射角变化的情况下照射参考光(R)，以使参考光(R)在预定部位以各种角度与记录光(S)干涉；通过记录光(S)与参考光(R)的干涉而将全息图多重记录在预定部位，全息记录装置(A1)还包括：光量调节单元(8)，根据相对于全息记录介质(B)的入射角来可变地调节从分光器(3)射出后的参考光(R)的光量，以使预定部位上的参考光(R)的照度成为预定的稳定水平。
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公开(公告)号：CN101473280A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200680055125.8
申请日：2006-06-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26 , G11B7/0065 , G11B7/135
CPC classification number: G03H1/26 , G03H1/265 , G11B7/0065 , G11B7/1362
Abstract: 一种全息记录装置，向该全息记录介质(B)照射记录光(S)，并在可变地控制对全息记录介质(B)的入射角的情况下向记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(R)，通过上述记录光(S)和参考光(R)之间的干涉在照射部位(p)复用记录全息图，所述全息记录装置包括在预定的角度范围内可变地控制参考光(R)的入射角的入射角可变控制单元，全息记录介质(B)具有随着入射光量增大而记录灵敏度降低的特性，并且入射角可变控制单元使参考光(R)的入射角从较大的角度向较小的角度变化来构成。
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公开(公告)号：CN102096368A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010623317.2
申请日：2006-07-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26 , G11B7/0065 , G11B7/125 , G11B7/135
Abstract: 一种全息记录装置(A1)，包括：光源(1)，发出激光；分光器(3)，将来自所述光源(1)的激光分离成记录光(S)和参考光(R)；空间光调制器(5)，根据应记录的信息来调制记录光(S)；记录光学系统，向全息记录介质(B)的预定部位照射被调制了的记录光(S)；以及参考光学系统，在使相对于全息记录介质(B)的入射角变化的情况下照射参考光(R)，以使参考光(R)在预定部位以各种角度与记录光(S)干涉；通过记录光(S)与参考光(R)的干涉而将全息图多重记录在预定部位，全息记录装置(A1)还包括：光量调节单元(8)，根据相对于全息记录介质(B)的入射角来可变地调节从分光器(3)射出后的参考光(R)的光量，以使预定部位上的参考光(R)的照度成为预定的稳定水平。
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公开(公告)号：CN101479675A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200780024011.1
申请日：2007-05-30
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26 , G11B7/135 , G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/26 , G03H1/265 , G11B7/0065 , G11B7/083 , G11B7/1362
Abstract: 一种全息记录装置，其向全息记录介质(B)中的记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(R)，并通过上述记录光(S)和参考光(R)之间的干涉而在照射部位(p)上复用记录全息图，所述全息记录装置包括：记录用的参考光反射单元(10)，将参考光(R)导向照射部位(p)；以及摆动单元，使记录用的参考光反射单元(10)绕预定的轴(x)摆动，以此改变反射后的参考光(R)对全息记录介质(B)的入射角(θr)，记录用的参考光反射单元(10)与预定的光路交错地配置，另外，摆动单元中的预定的轴(x)被配置为，即使通过记录用的参考光反射单元(10)摆动而反射后的参考光(R)的入射角(θr)发生了变化，也能够使该反射后的参考光(R)指向照射部位(p)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101443711A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200680054628.3
申请日：2006-05-16
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/04 , G11B7/0065 , G11B7/135
CPC classification number: G03H1/04 , G03H1/0465 , G03H1/265 , G03H2222/35 , G11B7/0065 , G11B7/00772 , G11B7/08564 , G11B7/128 , G11B7/1392
Abstract: 全息记录装置(A)对于全息记录介质(B)，经由空间光调制器(2)以向预定方向倾斜的状态构成预定入射角地照射记录光(S)，同时以向与记录光(S)相反的方向倾斜的状态与记录光构成预定的交叉角地照射参考光(R)，并利用记录光(S)与参考光(R)之间的干涉在全息记录介质(B)上记录全息图，其中包括光束调制装置(1)，光束调制装置(1)将强度分布呈高斯分布形状的高斯光束转换成强度分布趋于均匀的平行光，并使所述平行光作为记录光(S)向空间光调制器(2)前进，并且高斯光束的中心轴(Gs)偏离光束调制装置(1)的光轴(1A)，该偏离方向包含与记录光(S)相对于全息记录介质(B)所倾斜的方向相同的方向或者其反方向上的分量。
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公开(公告)号：CN101390020A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200680053412.5
申请日：2006-02-23
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G03H1/26
CPC classification number: G11B7/0065 , G03H1/16 , G03H1/26 , G11B7/1372
Abstract: 全息记录装置(A1)构成为能够使物镜(8)与靠近该物镜(8)的中继镜(7b)之间的光学距离改变。由此，能够利用到达记录介质(B1)的激光的状态的变化来进行散焦多重记录。
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公开(公告)号：CN101310226A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200680039911.9
申请日：2006-06-30
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G03H1/12 , G03H1/02 , G03H2001/0224 , G03H2001/2675 , G03H2223/13 , G03H2225/31 , G03H2225/55 , G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/1362
Abstract: 一种全息记录装置，将从光源射出的相干光分离为信号光和参考光，将一方的信号光由空间光调制器调制后对全息记录介质进行照射，并且将另一方的参考光向所述全息记录介质与所述信号光重叠地照射，由此在该全息记录介质上记录全息图，所述全息记录装置包括：光相位调制装置，包括多个光学元件(20p，20p’)，并在这些光学元件(20p，20p’)的每一个上产生规定的相位差0、π，所述光学元件可取如下两种状态：使所述参考光向朝向所述全息记录介质的规定方向透过或者反射的打开模式以及将所述参考光导向所述规定的方向以外或者遮挡所述参考光的关闭模式；以及相位调制控制装置，控制每个所述光学元件(20p，20p’)以使每个所述光学元件成为打开模式或者关闭模式，并将所述参考光调制为形成规定的相位图案的光。
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公开(公告)号：CN1886790A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200380110863.4
申请日：2003-12-19
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G11B11/105
CPC classification number: G11B11/10582 , G11B11/10578 , G11B11/10584 , G11B11/10586
Abstract: 本发明的光磁记录介质(X1)具有层积结构，该层积结构包括：基板(S1)、具有垂直磁各向异性并承担记录功能的记录层、以及所述基板和所述记录层之间的至少一个功能层(12)。所述基板(S1)和所述至少一个功能层(12)中的至少一个的、所述记录层一侧的表面包括细微凹凸面(10b、10c)，该细微凹凸面(10b、10c)具有0.3～1.5nm的表面粗糙度和1～20nm的凹凸周期。
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公开(公告)号：CN1582474A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN01823910.2
申请日：2001-12-25
Applicant: 富士通株式会社
IPC: G11B11/105
CPC classification number: G11B11/10584 , G11B11/1058 , G11B11/10589
Abstract: 本发明是一种磁光记录介质，其特征在于至少包含在基底上依序形成的软磁层、保护层、上有伺服图案的树脂层、反射膜、下部电介质材料膜、记录膜、上部电介质材料膜和覆盖层。
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