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公开(公告)号：CN101758666A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN201010003175.X
申请日：2007-04-17
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2/055 , B41J2002/14459 , B41J2202/11 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供了一种用于制造液滴喷射头的方法，该方法包括：将用于喷嘴的板和流径构件板接合；进行第一成形，该第一成形通过在所述流径构件板的至少一个中蚀刻预定图案而形成流径构件和阻尼部，所述流径构件具有供液路径，所述阻尼部位于所述用于喷嘴的板上的对应于所述供液路径的区域的至少一部分中，所述阻尼部减小所述液滴的喷射量的波动以能够稳定地喷射；以及进行第二成形，该第二成形通过在所述用于喷嘴的板上从所述流径构件侧进行激光加工而形成喷嘴板，从而形成所述喷嘴。
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公开(公告)号：CN100522621C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200610164560.6
申请日：2006-12-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/1606 , B41J2/1433 , B41J2/162 , B41J2/1626 , B41J2/1634 , B41J2/1642 , B41J2202/03 , B41J2202/11
Abstract: 本发明提供了一种液滴喷射头、其制造方法以及液滴喷射装置，所述液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体，所述液滴喷射头包括：喷嘴板，其具有用于喷射液滴的喷嘴；设置在该喷嘴板上的四面体非晶碳膜；以及设置在该四面体非晶碳膜上的疏水膜。
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公开(公告)号：CN101100129A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710096396.4
申请日：2007-04-17
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2/055 , B41J2002/14459 , B41J2202/11 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供了一种用于喷射液滴的装置、液滴喷射头及其制造方法。该液滴喷射头包括：喷嘴板，该喷嘴板具有多个喷射液滴的喷嘴；流径构件，该流径构件包括与所述喷嘴连通的压力产生腔室以及供液路径，液体通过该供液路径供应至所述压力产生腔室；以及阻尼部，该阻尼部布置在所述喷嘴板上与所述供液路径相对应的区域的至少一部分上，所述阻尼部减小所述液滴的喷射量的波动以能够稳定地喷射。
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公开(公告)号：CN101054019A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200610164560.6
申请日：2006-12-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/1606 , B41J2/1433 , B41J2/162 , B41J2/1626 , B41J2/1634 , B41J2/1642 , B41J2202/03 , B41J2202/11
Abstract: 本发明提供了一种液滴喷射头、其制造方法以及液滴喷射装置，所述液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体，所述液滴喷射头包括：喷嘴板，其具有用于喷射液滴的喷嘴；设置在该喷嘴板上的四面体非晶碳膜；以及设置在该四面体非晶碳膜上的疏水膜。
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公开(公告)号：CN108621581A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201711282907.1
申请日：2017-12-07
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16535
Abstract: 本发明提供擦拭装置及排出装置。该擦拭装置包括：接触构件，此接触构件具有顶端部与基端部，所述顶端部构造成用来接触喷嘴表面；支撑构件，此支撑构件沿所述喷嘴表面朝一侧相对移动，并且支撑所述接触构件的所述基端部，使得所述接触构件能朝所述一侧以及与所述一侧相反的另一侧摇摆；以及复位构件，此复位构件设置在所述支撑构件处，并且通过借助所述复位构件的复位力沿朝所述一侧的摇摆方向推动或者牵拉所述接触构件而将所述接触构件的所述顶端部按压至所述喷嘴表面。
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公开(公告)号：CN102848736B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201210151081.6
申请日：2012-05-15
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/19
Abstract: 本发明公开了一种除气器和图像形成装置，除气器包括气室、除气单元以及阻力施加单元。所述气室通过透过部件而与液体流动路径分隔，所述透过部件能够透过溶解在所述液体流动路径中的液体中的气体。所述除气单元经由排出路径排出所述气室中的气体使得所述气室中的压力为负，从而从所述液体中排出溶解在所述液体中的气体。所述阻力施加单元对流入所述排出路径的大气施加流入阻力，从而使得在所述排出路径始终通向大气的状态下所述气室维持在这样的压力：在利用所述除气单元排气时可以对所述液体除气。
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公开(公告)号：CN103223771A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201210596324.7
申请日：2012-11-15
IPC: B41J2/01 , B41J29/377
CPC classification number: B41J29/12 , B41J2/14233 , B41J2/175 , B41J2/195 , B41J29/377 , B41J29/38
Abstract: 一种液体喷射装置：包括：气体腔，围绕喷墨打印头中的压电元件；以及干燥气体供应设备，配置成在开始向所述喷墨打印头供应电力之前开始向所述气体腔供应干燥气体，在继续向所述喷墨打印头供应电力时继续供应所述干燥气体，在停止向所述喷墨打印头供应电力之后停止供应所述干燥气体。当所述干燥气体供应设备停止向所述气体腔供应所述干燥气体时，干燥气体供应流通道开关设备关闭以断开所述干燥气体供应设备和所述气体腔的连接，并且气体回流通道开关设备关闭以断开所述气体腔和所述外部空气的连接。
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公开(公告)号：CN102848736A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210151081.6
申请日：2012-05-15
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/19
Abstract: 本发明公开了一种除气器和图像形成装置，除气器包括气室、除气单元以及阻力施加单元。所述气室通过透过部件而与液体流动路径分隔，所述透过部件能够透过溶解在所述液体流动路径中的液体中的气体。所述除气单元经由排出路径排出所述气室中的气体使得所述气室中的压力为负，从而从所述液体中排出溶解在所述液体中的气体。所述阻力施加单元对流入所述排出路径的大气施加流入阻力，从而使得在所述排出路径始终通向大气的状态下所述气室维持在这样的压力：在利用所述除气单元排气时可以对所述液体除气。
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公开(公告)号：CN102485488A
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201110153883.6
申请日：2011-06-09
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/175
CPC classification number: B41J2/175
Abstract: 本发明公开了一种缓冲装置、液体供给装置以及液滴排出装置。该缓冲装置包括：弹性隔膜，其用作位于储存单元和液滴排出单元之间的供给管路的一部分的壁，该储存单元容纳液体，该液滴排出单元以液滴的形式排出液体；壁部，其设置在供给管路的外部，以便在该壁部和弹性隔膜之间形成气体室；以及阻碍单元，其设置在壁部上并且提供通气并产生阻碍弹性隔膜移动的阻力。
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