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公开(公告)号：CN107554096B
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201710075882.1
申请日：2017-02-13
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供一种图像形成装置，该图像形成装置包括：多个液滴喷射部件，其与正被传送的连续片材相对，沿片材传送方向排列，并且将液滴喷射在连续片材上；移动限制部件，其对连续片材的与液滴喷射部件相对的部分在片材宽度方向上的一个端部沿片材宽度方向的移动进行限制；以及张力施加部件，在连续片材的与液滴喷射部件相对的部分沿片材宽度方向的移动被移动限制部件限制的状态下，该张力施加部件对连续片材的与液滴喷射部件相对的部分施加沿片材宽度方向的张力。
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公开(公告)号：CN107554096A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710075882.1
申请日：2017-02-13
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供一种图像形成装置，该图像形成装置包括：多个液滴喷射部件，其与正被传送的连续片材相对，沿片材传送方向排列，并且将液滴喷射在连续片材上；移动限制部件，其对连续片材的与液滴喷射部件相对的部分在片材宽度方向上的一个端部沿片材宽度方向的移动进行限制；以及张力施加部件，在连续片材的与液滴喷射部件相对的部分沿片材宽度方向的移动被移动限制部件限制的状态下，该张力施加部件对连续片材的与液滴喷射部件相对的部分施加沿片材宽度方向的张力。
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公开(公告)号：CN106079901A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610031617.9
申请日：2016-01-18
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16517 , B08B3/12 , B41J2/16552 , B41J2002/16567 , B41J2002/16502
Abstract: 本发明提供了一种清洁装置和液滴喷射装置，清洁装置包括：接触单元，其包括形成有开口的容器，所述容器容纳对喷射单元的形成面进行清洁的清洗液，在所述形成面上形成有喷射口，所述喷射口喷射液滴；以及超声波振子，其设置在所述容器处，并使容纳在所述容器中的所述清洗液振动，其中，在所述容器的所述开口面向所述形成面的状态下，所述接触单元使所述清洗液与所述形成面接触。
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公开(公告)号：CN107856418A
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201710333496.8
申请日：2017-05-12
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16535 , B41J2/16508 , B41J2/16517 , B41J2/1652 , B41J2/16538 , B41J2/16552 , B41J2/16585 , B41J2002/16558 , B41J2/16505
Abstract: 本发明提供了一种擦拭装置和喷射装置，该擦拭装置包括：浸渍部件，其浸渍有液体，具有接触表面，该接触表面具有长度，该长度在喷射喷射液体的喷射头的喷嘴形成表面的纵向方向上以及在与该纵向方向交叉的横向方向上比喷嘴形成表面的长度长，并且使接触表面与喷嘴形成表面接触而润湿喷嘴形成表面；以及擦拭部件，其擦拭被浸渍部件润湿的喷嘴形成表面。
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公开(公告)号：CN106079901B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610031617.9
申请日：2016-01-18
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16517 , B08B3/12 , B41J2/16552 , B41J2002/16567
Abstract: 本发明提供了一种清洁装置和液滴喷射装置，清洁装置包括：接触单元，其包括形成有开口的容器，所述容器容纳对喷射单元的形成面进行清洁的清洗液，在所述形成面上形成有喷射口，所述喷射口喷射液滴；以及超声波振子，其设置在所述容器处，并使容纳在所述容器中的所述清洗液振动，其中，在所述容器的所述开口面向所述形成面的状态下，所述接触单元使所述清洗液与所述形成面接触。
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