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公开(公告)号：CN119644611A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202411618941.1
申请日：2024-11-13
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种偏轴反射系统主次镜装调方法、装置、设备及存储介质，所述方法包括：根据干涉仪和第一全息图检具位置的设置，将主镜放置于检测光路中并进行位置确定；根据位置确定的结果，将第二全息图检具放置于检测光路中以使第二全息图检具与主镜的定位基准保持一致；利用第二全息图检具对次镜进行定位，并通过检测光路调整次镜的位置和姿态，以使次镜与主镜位置达到要求。本申请旨在解决现有技术中主次镜装调需要补偿器，使得成本高且装调过程中容易积累误差，装调效果不佳，影响装调周期的技术难题，通过使用CGH技术，降低了补偿器的加工制作成本，提高检测和对准精度，整个过程操作简单，提高装调周期。
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公开(公告)号：CN115609450B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202211206757.7
申请日：2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光大口径的单晶碳化硅的抛光装置，该抛光装置包括：夹具、机器人，磨盘和抛光部；夹具用于固定大口径的单晶碳化硅；机器人具有移动部；磨盘与移动部连接，移动部带动磨盘移动，用于对大口径的单晶碳化硅的曲面进行打磨；抛光部对应于大口径的单晶碳化硅的平面设置，抛光部能够转动用于对大口径的单晶碳化硅的平面进行打磨，且抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积。本发明技术方案中，机器人带动磨盘对大口径的单晶碳化硅的曲面打磨，抛光部转动对大口径的单晶碳化硅的平面打磨，能够满足双面抛光；同时抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积能够满足对大口径的单晶碳化硅的打磨条件。
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公开(公告)号：CN119260527A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411787886.9
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光设备领域，公开了一种抛光机，包括：机架；工件调位机构，其设置于机架上，工件调位机构具有可自转的加工台，加工台顶侧设置有工件定位槽，加工台还可相对机架沿水平方向的轴线转动；加工机构，其设置于机架上，加工机构具有可三维活动的连接主轴；抛光头，包括主杆、压电促动器与抛光盘，主杆连接于连接主轴，压电促动器连接于主杆，压电促动器具有可上下活动的移动端，移动端传动连接抛光盘，本发明利用压电促动器对抛光盘的微动控制，可实现快速、准确地控制抛光盘活动，并且对于离轴非球面、自由曲面的光学镜片亦同样适用，提高了抛光机的加工效率、质量以及对不同形状光学镜片的适用性。
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公开(公告)号：CN119246023A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411767249.5
申请日：2024-12-04
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种非球面反射镜的光轴检测装置及方法，涉及光学测量技术领域，所述非球面反射镜光轴的检测装置包括固定座、干涉仪、激光跟踪仪以及信息处理设备；固定座用以固定待检测的非球面反射镜，固定座固定非球面反射镜时，非球面反射镜的轴线沿左右向延伸；干涉仪设置于固定座的侧方，且沿上下向、左右向以及前后向活动设置，干涉仪的光源件朝向固定座设置，以朝非球面反射镜发出测量波；激光跟踪仪包括靶球，靶球能够在干涉仪与固定座之间沿上下向、左右向以及前后向活动，并能与非球面反射镜的周侧面相抵；本发明的技术方案能在不损伤镜面的前提下快速方便地确定大口径非球面反射镜的光轴位置。
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