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公开(公告)号：CN1930000A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200480038878.9
申请日：2004-11-29
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: B41J2/06
CPC classification number: B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/14233
Abstract: 具备：液体喷射头(26)，具有对基体材料喷射带了电的溶液的液滴的内部直径小于等于15〔μm〕的喷嘴(21)；喷射电压施加单元(25)，对喷嘴内的溶液施加喷射电压；凸状弯液面形成单元(40)，形成喷嘴内的溶液从该喷嘴隆起为凸状的状态；以及工作控制单元(50)，控制驱动凸状弯液面形成单元的驱动电压的施加和喷射电压施加单元的喷射电压的施加，同时在与作为喷射电压施加单元的喷射电压的脉冲电压的施加重叠的时刻施加凸状弯液面形成单元的驱动电压。
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公开(公告)号：CN1684832A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03822740.1
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/06 , B41J2002/14395
Abstract: 一种用于将带电的液体溶液的液滴喷射到基材上的液体喷射装置(20)，包括：喷嘴(21)，其中该喷嘴的边缘部分被配设成面对基材K，该基材具有用于接收喷射液滴的接收表面，液滴被从其中喷射的边缘部分的内径不大于30μm；一液体溶液供给部(29)，用于将液体溶液供给到喷嘴(21)中；一喷射电压施加部(25)，用于对喷嘴(21)中的液体溶液施加喷射电压；和一凸状弯液面形成部(40)，用于形成一种状态，其中，喷嘴(21)中的液体溶液从喷嘴边缘部分凸出。
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公开(公告)号：CN102970829A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210117647.3
申请日：2004-09-10
Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 , 播磨化成株式会社 , SIJ技术株式会社
CPC classification number: B05D1/007 , B32B3/266 , B32B15/08 , H01L21/4867 , H01L2924/0002 , H05K3/125 , H05K3/245 , H05K3/4061 , H05K3/4647 , H05K2201/0367 , H05K2203/013 , H05K2203/105 , H05K2203/1131 , H05K2203/1476 , Y10T428/24322 , H01L2924/00
Abstract: 制备衬底的方法，包括通过利用精细喷墨方法在衬底的指定位置(1)将金属微粒淀积为柱形，然后烧结产物以形成金属柱(2)的步骤。
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公开(公告)号：CN101386226B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200810210282.2
申请日：2004-07-29
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
Abstract: 一种液体喷射设备，包括：具有用于从尖端部分喷射带电溶液的小滴的喷嘴(51)的液体喷射头(56)；被提供在所述液体喷射头上的喷射电极(58)，对其施加电压以产生电场从而喷射所述小滴；电压施加单元(35)，用于对所述喷射电极施加电压；包括绝缘材料的载体K，用于接收喷射的小滴；以及喷射气氛调节单元(70)，用于保持经受液体喷射头的喷射的气氛为9℃或9℃以上并且小于水的饱和温度的露点。
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公开(公告)号：CN100528569C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200480025744.3
申请日：2004-07-29
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: B41J2/06
Abstract: 一种液体喷射设备，包括：具有用于从尖端部分喷射带电溶液的小滴的喷嘴(51)的液体喷射头(56)；被提供在所述液体喷射头上的喷射电极(58)，对其施加电压以产生电场从而喷射所述小滴；电压施加单元(35)，用于对所述喷射电极施加电压；包括绝缘材料的载体K，用于接收喷射的小滴；以及喷射气氛调节单元(70)，用于保持经受液体喷射头的喷射的气氛为9℃或9℃以上并且小于水的饱和温度的露点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101352963A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810210286.0
申请日：2004-07-29
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
Abstract: 一种液体喷射设备，包括：具有用于从尖端部分喷射带电溶液的小滴的喷嘴(51)的液体喷射头(56)；被提供在所述液体喷射头上的喷射电极(58)，对其施加电压以产生电场从而喷射所述小滴；电压施加单元(35)，用于对所述喷射电极施加电压；包括绝缘材料的载体K，用于接收喷射的小滴；以及喷射气氛调节单元(70)，用于保持经受液体喷射头的喷射的气氛为9℃或9℃以上并且小于水的饱和温度的露点。
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公开(公告)号：CN1849215A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200480025744.3
申请日：2004-07-29
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: B41J2/06
Abstract: 一种液体喷射设备，包括：具有用于从尖端部分喷射带电溶液的小滴的喷嘴(51)的液体喷射头(56)；被提供在所述液体喷射头上的喷射电极(58)，对其施加电压以产生电场从而喷射所述小滴；电压施加单元(35)，用于对所述喷射电极施加电压；包括绝缘材料的载体K，用于接收喷射的小滴；以及喷射气氛调节单元(70)，用于保持经受液体喷射头的喷射的气氛为9℃或9℃以上并且小于水的饱和温度的露点。
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公开(公告)号：CN102970829B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201210117647.3
申请日：2004-09-10
Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 , 播磨化成株式会社 , SIJ技术株式会社
CPC classification number: B05D1/007 , B32B3/266 , B32B15/08 , H01L21/4867 , H01L2924/0002 , H05K3/125 , H05K3/245 , H05K3/4061 , H05K3/4647 , H05K2201/0367 , H05K2203/013 , H05K2203/105 , H05K2203/1131 , H05K2203/1476 , Y10T428/24322 , H01L2924/00
Abstract: 制备衬底的方法，包括通过利用精细喷墨方法在衬底的指定位置(1)将金属微粒淀积为柱形，然后烧结产物以形成金属柱(2)的步骤。
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公开(公告)号：CN100595064C
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200810210286.0
申请日：2004-07-29
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
Abstract: 本发明公开了一种液体喷射设备及其方法、用于形成电路板的布线图案的方法。该液体喷射设备包括：液体喷射头，其具有用于从尖端部分喷射带电溶液的小滴的喷嘴；被提供在所述液体喷射头上的喷射电极，对其施加电压以产生电场从而喷射所述小滴；以及电压施加单元，用于对所述喷射电极施加一种信号波形的电压，所述信号波形的电压值至少部分地满足下面表达式(A)中的Vs(V)，其中接收喷射的小滴的绝缘载体的表面电位的最大值由Vmax(V)表示，最小值由Vmin(V)表示：Vs≤Vmid-V|max-min|，Vmid+V|max-min|≤Vs(A)其中，V|max-min|(V)由下式(B)确定，Vmid(V)由下式(C)确定：V|max-min|＝|Vmax-Vmin| (B)；Vmid＝(Vmax+Vmin)/2 (C)。
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公开(公告)号：CN101623954A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200910166780.6
申请日：2005-12-09
Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所
Inventor： 村田和广
CPC classification number: B41J2/1637 , B41J2/162 , B41J2/1628 , B41J2/1632 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2/1646
Abstract: 本发明提供一种能够整体转印图案的具有细喷嘴孔的喷嘴板，以及制造其的方法。而且，提供在基片上以所需形状、在所需位置处形成细喷嘴孔的方法，以及由该方法获得的喷墨喷嘴板。而且，提供整体转印喷墨喷嘴板能够具有高成像效率，并能够通过简化喷嘴控制器而减少成本；以及制造其的方法。本发明中，在凝固材料的板中的细喷嘴孔由以下形成：基于计算机中的数据，根据细喷墨工艺在基片上形成三维结构，在除形成三维结构的部分之外的部分涂覆凝固材料，并且然后硬化并且去除凝固材料。
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