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公开(公告)号：CN111708258B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202010640570.2
申请日：2020-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测装置及调整方法，涉及全息光栅制作领域。解决现有全息光栅扫描光刻曝光量工艺参数控制性差，光栅制作效率低，且采用静态监测方法，无法满足使用要求等问题，监测光源发出的监测激光用于曝光量监测，电控光闸控制监控激光入射到潜像光栅上，形成监测光斑；监控激光经由潜像光栅产生一级潜像衍射光，一级潜像衍射光经过滤光片，进入光电探测器；位移速度测量系统获取工作台Y向位移及速度，作为对曝光量进行控制的参数；控制器控制电控光闸的打开和关闭，控制同一触发信号同步采集位移速度测量系统和光电探测器的输出数据。本发明可实现全息光栅扫描光刻过程中曝光量的有效监测，保证曝光量工艺参数可控性。
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公开(公告)号：CN111679428B
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202010596688.X
申请日：2020-06-28
Applicant: 吉林大学
Abstract: 基于近轴像差理论的多光路光学系统初始结构搜索方法，涉及光学仪器领域。解决现有多光路复合光学系统在设计与优化过程中，选取的初始结构对后续优化结果影响较大，且现有方法只能对单个系统的初始结构计算，无法实现多个光路的焦距分配与像差校正等问题，本发明利用主反射镜、薄透镜和平行平板的相关像差理论，完成了折反光路和两反光路的近轴像差公式的推导。建立了由光学系统结构布局约束条件、光焦度分配、近轴像差组成的多光路复合光学系统目标函数，并求解目标函数最优解的问题。实现初始结构的快速搜索。本发明的搜索方法具有良好的轴上像差校正特性，光机结构参数合理紧凑，适合多光路多焦距复合光学系统初始结构的建立和光学优化。
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公开(公告)号：CN118567691A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410718837.3
申请日：2024-06-05
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种安全的相机主控单机Boot程序在轨升级方法，涉及Boot程序在轨升级的技术领域，解决现有相机主控单机Boot程序不能满足任务需求，在轨升级存在风险且升级失败导致应用程序无法启动等问题，本方法对相机主控单机上电，SOC处理器中的ARM运行存储在eNVM中的Boot程序，Boot程序根据启动代码选择相应的应用程序，Boot程序将应用程序从eNVM中拷贝到ARM中的eSRAM中，然后运行应用程序；在运行应用程序的过程中，可对eNVM中的Boot程序代码进行升级。本发明的在轨升级方法，即使Boot程序升级失败，也可通过本方法对Boot程序进行初始程序的代码恢复，保证Boot程序升级安全可靠。
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公开(公告)号：CN117075446A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202311167654.9
申请日：2023-09-12
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种扫描干涉光刻光学系统，涉及微纳结构扫描干涉光刻的技术领域，解决现有扫描干涉光刻光学系统的组成复杂，参数调节存在耦合，控制难度大，增加了系统设计以及装调和研制的成本等问题，包括光学平台，固定在光学平台上的光学组件单元，精密转台以及控制系统；光学平台按照与精密转台旋转平面垂直的方向固定在精密转台上，光学系统主光轴为Z坐标轴且通过精密转台的回转中心；光学平台及光学组件单元跟随精密转台绕主光轴旋转；直角反射棱镜直角边镀有高反射膜层，直角反射棱镜的直角平分线沿着主光轴方向，精密平移台运动轴平行于主光轴方向，可带动直角反射棱镜沿主光轴平移。本发明对提升扫描干涉光刻系统研制及工艺水平，具有重要意义。
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公开(公告)号：CN114740557A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210041105.6
申请日：2022-01-14
Applicant: 吉林大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 消像差变栅距光栅扫描光刻条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出消像差变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设计函数，变化干涉条纹的线密度，最终得到的变周期光栅刻槽密度满足光栅刻槽密度目标函数的要求。按照本方法可设计光刻干涉条纹的线密度变化规律。提高变栅距光栅的刻槽密度的精度，保证曝光对比度工艺参数的可控性，对提升变栅距光栅扫描光刻制作水平，提高光栅制作成功率具有重要意义。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114415278A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210041023.1
申请日：2022-01-14
Applicant: 吉林大学
Abstract: 平面变栅距光栅扫描光刻干涉条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出平面变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设计函数，变化干涉条纹的线密度，最终得到的变周期光栅刻槽密度满足光栅刻槽密度目标函数的要求。按照本方法可设计光刻干涉条纹的线密度变化规律。提高变栅距光栅的刻槽密度的精度，保证曝光对比度工艺参数的可控性，对提升变栅距光栅扫描光刻制作水平，提高光栅制作成功率具有重要意义。
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公开(公告)号：CN112099227A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN202010972914.X
申请日：2020-09-16
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种含有振镜的高保偏正交反射镜组角度公差分配方法，涉及光学仪器领域，解决现有偏振探测系统在装调过程中，存在安装误差或相对位置偏移，当振镜出现摆的情况下，使反射镜组出现不是正交状态，进而导致入射圆偏振光在传输过程中改变为椭圆偏振光，改变入射信号光的偏振特性，影响系统的探测或通信性能等问题，本发明建立了正交反射镜组的偏振光线几何模型，采用三维偏振光线追迹算法来分析圆偏振信号光在传输过程中偏振态的变化，推导了正交反射镜组关于安装误差角和侧摆角的偏振态传输矩阵，完成了出射光偏振态的计算仿真，建立了正交反射镜组安装公差分配与振镜工作振幅确定方法。本发明提高了设计与装调方案的可行性。
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公开(公告)号：CN118467004A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410718799.1
申请日：2024-06-05
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种相机主控单机程序在轨升级方法，涉及计算机软件应用技术领域，解决现有相机主控单机在轨程序升级难题。该方法可采用两种程序升级方式，即：对SOC处理器程序全面升级或对SOC处理器进行部分升级两种方法；用户根据实际需求，可自主选择采取何种方式对相机主控单机的SOC处理器进行程序升级。另外，如果相机主控单机在轨运行过程中，SOC处理器内的程序遭到了破坏，系统无法启动，借助于本方法，还可对SOC处理器进行编程恢复操作，极大地提高了系统的可靠性。通过对磁保持继电器进行信号控制，可靠地控制SOC处理器处于编程工作模式或正常工作模式。部分升级方法只对ARM程序进行升级，提高了可靠性。
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公开(公告)号：CN111708257B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010640565.1
申请日：2020-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测及控制方法，涉及全息光栅制作技术领域，解决现有全息光栅扫描光刻技术存在曝光时间长，制作效率低，以及采用静态曝光监测方法无法满足使用要求等问题，本发明无需在曝光前进行大量样片的制作和测试。在一次全息光栅正式曝光前，进行用于监测曝光量的预曝光，并对扫描运动速度进行优化选择。在扫描运动速度确定后，直接进入全息光栅的正式曝光。曝光量监测控制及后续光刻过程可实现自动化，使光栅制作效率提高，同时根据不同光栅基底上光刻胶涂层参数变化调整曝光量，有效保证了曝光量工艺参数可控性，对提升全息光栅扫描光刻制造工艺水平，提高光栅制造效率，保证大面积全息光栅制作成功率。
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公开(公告)号：CN112208795A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN202010794121.3
申请日：2020-08-10
Applicant: 吉林大学
IPC: B64G1/24
Abstract: 一种敏捷卫星非沿迹曲线成像的姿态轨迹规划方法，涉及卫星姿态控制领域，本发明从整星姿态调偏流的角度，根据地物目标点与卫星位置的几何关系及坐标变换原理，进行卫星在轨对地面非沿迹曲线条带中若干特征目标点成像时精确指向的三轴姿态计算。以此姿态指向为约束，基于建立的敏捷卫星控制模型，采用伪谱法设计非沿迹曲线成像精确指向的姿态最优轨迹。本发明适用于地面成像目标条带与星下点轨迹不平行的情况。本发明方法可为卫星对地面曲线成像目标条带的一次过境获取提供三轴姿态信息参考值，为姿态控制系统的设计提供依据。
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