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公开(公告)号：CN211334585U
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201921468943.1
申请日：2019-09-05
Applicant: 厦门理工学院
IPC: B29C64/112 , B29C64/209 , B33Y30/00
Abstract: 本实用新型公开了一种多喷嘴喷头，包括主体、芯轴、电机及多喷嘴结构；该芯轴安装在该主体的中空腔内，在该主体与芯轴之间设有若干间隔设置的环槽，各环槽之间互不相通；该主体的外壁内设有溶液流入孔；该芯轴内设有溶液流出孔；所述电机的旋转轴与所述芯轴相连接；所述的多喷嘴结构固定安装在所述芯轴下方，该多喷嘴结构内设有若干喷嘴通道；所述溶液流入孔、环槽、溶液流出孔及喷嘴通道的数量相同，且依序相通，并组成若干溶液通道。这种多喷嘴喷头各喷嘴均设置独立的材料供给口及溶液通道，实现了多材料的喷射，且该结构简化了传统多喷头机构的复杂性，又可避免传统多喷头装置在喷头转换过程中出现的溶液供给管扭管和定位不准等诸多问题。
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公开(公告)号：CN214214762U
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202022813514.2
申请日：2020-11-28
Applicant: 厦门理工学院
IPC: B29C64/159 , B29C64/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00
Abstract: 本实用新型公开了一种气溶胶喷射印刷装置，其包括气溶胶发生组件和气溶胶喷印组件，气溶胶发生组件包括相互联通的雾化组件和雾滴分选组件，气溶胶喷印组件通过文丘里管联通雾滴分选组件，经分选的小粒径雾滴进入气溶胶喷印组件，气溶胶喷印组件包括位于中心的气溶胶供应通道，气溶胶供应通道周围设有气溶胶聚焦件，气溶胶聚焦件对气溶胶进行聚焦并在气溶胶喷出时对其进行保护，本实用新型提高了气溶胶的密度稳定性，同时还可有效避免气溶胶射出后扩散，提高了气溶胶喷射印刷的精细度，进而避免过喷现象的发生。
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公开(公告)号：CN215203540U
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202120537174.7
申请日：2021-03-15
Applicant: 厦门理工学院
IPC: B29C69/02 , B29C64/20 , B29C64/209 , B29C64/106 , B29C67/04 , B29C64/314 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/10 , B29L31/34
Abstract: 本实用新型公开了一种纳米颗粒气溶胶喷印装置，其包括依次联通的粉末气溶胶发生器、文丘里管和气溶胶喷头，靠近气溶胶喷头设有加热装置；文丘里管位于粉末气溶胶发生器上方，文丘里管出口端通过气管与气溶胶喷头连接；其中气溶胶喷头在喷射印刷时对气溶胶采用双鞘气保护以提高气溶胶稳定性，保证喷印的精细度，避免气溶胶回流对喷嘴产生损坏；同时，利用加热装置在喷印时直接同步激光烧结，不仅提高了喷印工艺的效率，还加强了纳米材料与衬底间的结合。
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公开(公告)号：CN209478956U
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201920115446.7
申请日：2019-01-23
Applicant: 厦门理工学院
IPC: B29C64/112 , B29C64/20 , B29C64/209 , B29C64/232 , B29C64/236 , B29C64/295 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/02
Abstract: 本实用新型公开了一种基于热释电效应的电场驱动式微滴喷射装置，包括喷射喷头、供料装置、电源、二维运动平台、Z向运动平台、工作平台、基板工作台及控制单元；喷射喷头固定于Z向运动平台上并与供料装置相通且与电源连接；运动平台均固定在工作平台上，基板工作台设置于二维运动平台上；所述喷射喷头包括储料筒、喷嘴、环形结构的热释电晶体环、加热环及壳体；该储料筒下方设置有喷嘴，该热释电晶体环安装在壳体上且位于喷嘴的正下方；加热环位于热释电晶体环的外周；壳体套固在所述储料筒外侧。本实用新型可避免直接施加外电场所需的高电压和复杂电路引起的诸多问题，还可解决由热释电晶体和喷射装置之间间隙大小对喷印过程稳定性影响的问题。
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