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公开(公告)号:CN115829977A
公开(公告)日:2023-03-21
申请号:CN202211584133.9
申请日:2022-12-09
IPC: G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/72 , G06V10/774 , G06V10/82 , H04N23/70 , H04N23/75
Abstract: 本发明涉及曝光技术领域,特别涉及一种基于微透镜阵列曝光工艺的质量检测方法及参数调节方法。质量检测方法包括步骤:建立可识别出每一曝光点图案类别的曝光图案检测模型;图案类别包括合格图案及不合格图案;设定初始曝光参数并获取经MLA曝光工艺得到的曝光图像;将曝光图像输入至曝光图案检测模型中以生成每一曝光点对应图案类别的数据信息集;根据数据信息集判断曝光点的图案类别并统计曝光图像中合格图案与不合格图案的曝光点数量,以得到合格图案的曝光点数量占全部曝光点数量的比例。通过上述设置,能够自动识别合格图案与不合格图案,从而自动化得到MLA曝光质量的合格率,有效提升质量检测精度和速度。
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公开(公告)号:CN114429929A
公开(公告)日:2022-05-03
申请号:CN202210074403.5
申请日:2022-01-21
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本申请公开了一种基片转运装置,包括真空发生器、气体吹送器、转运机构和吹扫器;转运机构包括托架;托架适于平移,其设有用于承载基片的承载面;承载面设有若干吸附孔;各吸附孔均连通真空发生器;吹扫器安装于托架且设有吹气通道;吹气通道连通气体吹送器,其相对承载面倾斜朝上延伸且出气口朝向承载面所在一侧;吹气通道的出气口的下端设有倾斜朝下的第一导风面;第一导风面所在平面与承载面所在平面的交线相对吸附于承载面上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道的出气口。采用上述技术方案的基片转运装置能够可靠地对基片进行转运,降低基片受损风险,以及保证基片及其表面上的光刻胶的清洁度。
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公开(公告)号:CN216871006U
公开(公告)日:2022-07-01
申请号:CN202220190994.8
申请日:2022-01-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种桌面便携式无掩膜曝光机,其特征在于:包括壳体和安装在所述壳体内的激光系统、微透镜阵列模块、移动平台及电源,所述的微透镜阵列模块设在激光系统与移动平台之间,所述的移动平台承载加工基片,激光系统发出的激光束照射到微透镜阵列模块上被分束和聚焦后投射到移动平台上的加工基片进行曝光。它具有如下优点:实现无掩膜光刻,加工效率高,尤其适用周期性图案的曝光加工,小型化、便于移动和携带。
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公开(公告)号:CN216938970U
公开(公告)日:2022-07-12
申请号:CN202220176207.4
申请日:2022-01-21
IPC: B23K26/362 , B23K26/16 , B23K26/70
Abstract: 本申请公开了一种基片承载及吹扫装置。基片承载及吹扫装置包括真空发生器、气体吹送器和载台;载台顶端设有气流槽;气流槽的槽壁设有朝向气流槽的吹扫孔;吹扫孔连通气体吹送器,以接入气流并朝向气流槽内吹出气体;气流槽的槽底设有承载槽;承载槽与基片匹配;承载槽的槽底设有若干支承基片的凸起部和沿竖直方向贯通的通孔;凸起部的顶端设有吸附孔;各凸起部沿通孔的周向布设;吸附孔连通真空发生器,各吸附孔内的空气由真空发生器进行抽吸且能够处于真空状态;基片支承于凸起部上时,其上表面低于或齐平于气流槽的槽底。采用上述技术方案的基片承载及吹扫装置,其能够灵活地对基片进行装载,对基片的定位准确,基片损伤风险小且清洁度高。
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公开(公告)号:CN208390571U
公开(公告)日:2019-01-18
申请号:CN201820324394.X
申请日:2018-03-09
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本实用新型公开了一种激光清洗实时监测系统,包括由激光电源和光纤激光腔构成的激光器,由光纤、手柄和扫描振镜组成的光导系统,由摄像头和计算机组成的实时监控系统;所述扫描振镜和摄像头设置在所述手柄上;所述计算机与所述激光电源相连接以控制所述激光器的工作电源;所述计算机与所述光纤激光腔相连接以控制激光打开并设定激光功率、频率、扫描速度和扫描次数;所述激光器通过光纤与所述手柄相连接,所述光纤激光腔发射的光源穿过手柄内部照射到所述扫描振镜上;所述摄像头与所述计算机相连接以定时拍摄清洗图片并发送至计算机进行分析处理。本实用新型能够实时采集激光清洗过程中的图像,并通过分析图像判断激光清洗表面的进程。
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