基于微透镜阵列曝光工艺的质量检测方法及参数调节方法

    公开(公告)号:CN115829977A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211584133.9

    申请日:2022-12-09

    Abstract: 本发明涉及曝光技术领域,特别涉及一种基于微透镜阵列曝光工艺的质量检测方法及参数调节方法。质量检测方法包括步骤:建立可识别出每一曝光点图案类别的曝光图案检测模型;图案类别包括合格图案及不合格图案;设定初始曝光参数并获取经MLA曝光工艺得到的曝光图像;将曝光图像输入至曝光图案检测模型中以生成每一曝光点对应图案类别的数据信息集;根据数据信息集判断曝光点的图案类别并统计曝光图像中合格图案与不合格图案的曝光点数量,以得到合格图案的曝光点数量占全部曝光点数量的比例。通过上述设置,能够自动识别合格图案与不合格图案,从而自动化得到MLA曝光质量的合格率,有效提升质量检测精度和速度。

    一种基片转运装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114429929A

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN202210074403.5

    申请日:2022-01-21

    Abstract: 本申请公开了一种基片转运装置,包括真空发生器、气体吹送器、转运机构和吹扫器;转运机构包括托架;托架适于平移,其设有用于承载基片的承载面;承载面设有若干吸附孔;各吸附孔均连通真空发生器;吹扫器安装于托架且设有吹气通道;吹气通道连通气体吹送器,其相对承载面倾斜朝上延伸且出气口朝向承载面所在一侧;吹气通道的出气口的下端设有倾斜朝下的第一导风面;第一导风面所在平面与承载面所在平面的交线相对吸附于承载面上的基片的任意部位均较靠近于吹气通道的出气口。采用上述技术方案的基片转运装置能够可靠地对基片进行转运,降低基片受损风险,以及保证基片及其表面上的光刻胶的清洁度。

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