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公开(公告)号：CN103245991A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310112736.3
申请日：2013-04-02
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本发明公开了一种倍频光栅空间频率的方法，包括：步骤1，制备涂覆有光致抗蚀剂层的记录干版；步骤2，将记录干版放置在两束对称入射的相干平行光的干涉光场中进行第一次曝光，经显影后得到基频光栅；步骤3，将基频光栅放置在一束垂直入射的单色平行光的光场中进行第二次曝光，经显影后得到倍频光栅。它具有如下优点：只比原有的干涉光刻技术多了一次单光束曝光和显影，且无需特殊辅助装置，与原有的干涉光刻技术有着良好的兼容性，能产生如下技术效果：制作工艺简单、易实现、成本低。
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公开(公告)号：CN102798930A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201210332492.5
申请日：2012-09-07
Applicant: 厦门大学
Abstract: 基于全息干涉术的光子晶体制造装置，涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板；激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上，经全息光学元件产生四束相干的干涉光束，1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后，入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值，四束光重叠射在光刻胶板上，在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光，经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°～23.5°。
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公开(公告)号：CN101464542A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200910110903.4
申请日：2009-01-14
Applicant: 厦门大学
Abstract: 全息光栅型1×2波导分波器及其制造方法，涉及一种应用于光通信的1×2分波器。提供一种双信道，同时具有分波器和耦合器作用，成本低、生产速率高、体积小、隔离度大的全息光栅型1×2波导分波器及其制造方法。全息光栅型1×2波导分波器设有一波导基底，基底上设有一层具有全息光栅结构的记录材料。其制造方法是在基底表面涂布记录材料；用两束平面波对称入射；经曝光、显影处理。其制造装置设有激光器；1个反射镜和1个分光镜，分光镜将反射光分成2束，分别送两干涉光的产生装置；产生装置设有全反射镜、扩束滤波器和准直透镜，干涉光经全反射镜后再经扩束滤波和透镜准直后，到达记录材料；另一束干涉光产生装置完全相同。
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公开(公告)号：CN110967785B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN201911280940.X
申请日：2019-12-13
Applicant: 厦门大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种采用全息干涉记录手段进行二次曝光制备小占宽比全息光栅的新方法。其步骤为：用两相干平行光对记录材料进行第一次曝光，然后在不改变记录光束的情况下，用步进电机调整记录材料位置，进行第二次曝光，二次曝光完成后进行显影。该方法比离子刻蚀方法更易实现，只比一般全息光栅的制备过程多一次记录材料的移动和曝光过程，可以利用原有制备一般全息光栅的设备进行二次曝光制备小占宽比全息光栅。与已有的方法比，所增加的曝光工序较简单，不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要额外的设备和特殊元件。这种方法制备过程简单，制备速度快，且制备成本低。
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公开(公告)号：CN106547190A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201710071587.9
申请日：2017-02-09
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种三维效果的全息实时显示方法，涉及计算全息实时显示。采用三维效果的全息实时显示系统，所述显示系统设有输入单元、载体单元和输出单元；所述输入单元包括电脑制作的计算全息图；所述载体单元包括激光器、空间光滤波器、透镜和空间光调制器；所述输出单元包括屏幕、CCD和CCD的显示屏。具体方法：将轴测法以及阴影处理法加入到matlab软件编码二维全息图过程当中，通过matlab软件制作出计算全息图；把产生的计算全息图加载到可刷新频率的空间光调制器；按显示系统的摆放光路即可达到显示出三维效果全息图的目的，在屏幕、CCD和CCD的显示屏组成的显示系统即可显示出效果图。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103245991B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201310112736.3
申请日：2013-04-02
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本发明公开了一种倍频光栅空间频率的方法，包括：步骤1，制备涂覆有光致抗蚀剂层的记录干版；步骤2，将记录干版放置在两束对称入射的相干平行光的干涉光场中进行第一次曝光，经显影后得到基频光栅；步骤3，将基频光栅放置在一束垂直入射的单色平行光的光场中进行第二次曝光，经显影后得到倍频光栅。它具有如下优点：只比原有的干涉光刻技术多了一次单光束曝光和显影，且无需特殊辅助装置，与原有的干涉光刻技术有着良好的兼容性，能产生如下技术效果：制作工艺简单、易实现、成本低。
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公开(公告)号：CN102162908A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110125640.1
申请日：2011-05-13
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种基于塔尔博特效应的新型全息光镊系统，涉及激光全息光镊。提供一种结构简单，可操作性强的基于塔尔博特效应的新型全息光镊系统。设有激光器、第1透镜、第2透镜、反射镜、全息元件、倒置显微镜、CCD图像传感器和计算机；2个透镜依次前后设于激光器的激光光束输出端与反射镜之间，激光器和2个透镜同光轴，2个透镜的初始位置使焦点重合，通过微调2个透镜之间的距离以控制激光光束聚焦点的位置，使激光光束聚焦点落于全息元件上；微粒置于倒置显微镜的置物台上，通过调整倒置显微镜的置物台与全息元件的距离，使微粒落于全息元件的塔尔博特自成像的位置上；CCD图像传感器的信息输出端接计算机，用于图像的分析和处理。
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公开(公告)号：CN101252155A
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：CN200810070747.9
申请日：2008-03-14
Applicant: 厦门大学
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 多晶硅太阳能电池织构层的制备方法，涉及一种太阳能电池，尤其是涉及一种利用激光全息法并结合湿法刻蚀方法的多晶硅太阳能电池织构减反层制造工艺。提供一种快速制作大面积周期性微结构、成本低廉、减反效果良好的多晶硅太阳能电池织构层的制备方法。多晶硅硅片的预处理；在预处理后的多晶硅硅片表面的光刻胶材料上进行全息记录，制作二维周期性微结构；以光刻胶为结构模版，采用酸性腐蚀液将结构制作到硅材料中。
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公开(公告)号：CN1388669A
公开(公告)日：2003-01-01
申请号：CN02124993.8
申请日：2002-06-26
Applicant: 厦门大学
Abstract: 涉及一种密集波分复用器,设有薄玻璃,玻璃上设具离轴Fresnel透镜结构的记录材料。其制造方法是在玻璃片上涂布记录材料;用球面波和平面波;经曝光、显影处理。其制造装置设有激光器;1个分光镜和1个反射镜,分光镜将反射光分为2束,分别送物光和干涉光产生装置;物光产生装置设有全反射镜和滤波器,物光经全反射镜后再经滤波器,到达记录介质;干涉光产生装置设有全反射镜和滤波器,由分光镜分给干涉光产生装置的另1束光经全反射镜后再经滤波器,到达记录介质与物光干涉。通道容量大,信道数量多;插入损耗小;同时具有解复用和耦合器的作用;相对于将来大容量光纤的扩容,具有成本低、插入损耗小、生产速率高的特点。
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公开(公告)号：CN110967785A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201911280940.X
申请日：2019-12-13
Applicant: 厦门大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种采用全息干涉记录手段进行二次曝光制备小占宽比全息光栅的新方法。其步骤为：用两相干平行光对记录材料进行第一次曝光，然后在不改变记录光束的情况下，用步进电机调整记录材料位置，进行第二次曝光，二次曝光完成后进行显影。该方法比离子刻蚀方法更易实现，只比一般全息光栅的制备过程多一次记录材料的移动和曝光过程，可以利用原有制备一般全息光栅的设备进行二次曝光制备小占宽比全息光栅。与已有的方法比，所增加的曝光工序较简单，不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要额外的设备和特殊元件。这种方法制备过程简单，制备速度快，且制备成本低。
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