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公开(公告)号:CN1956167A
公开(公告)日:2007-05-02
申请号:CN200610163549.8
申请日:2006-09-29
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 熊谷稔
CPC classification number: H01L27/3246 , H01L51/0004 , H01L51/5228 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供在显示像素的像素形成区域上形成膜厚较均一的载流子输送层的显示装置及其制造方法。具备有载流子输送层的发光元件的显示装置的制造方法具有以下工序:抗液性膜形成工序,在基板上设置的多个隔壁的表面上形成抗液性膜;涂敷工序,在配置在上述多个隔壁间的像素电极上,涂敷包含载流子输送层材料的含载流子输送材料酸性液;干燥工序,在惰性气体环境下,干燥上述含载流子输送材料酸性液。
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公开(公告)号:CN101615659A
公开(公告)日:2009-12-30
申请号:CN200910149686.X
申请日:2009-06-19
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Abstract: 本发明提供一种发光装置及发光装置的制造方法,实现发光特性优良的EL面板及EL面板的制造方法。其中,在第一电极和第二电极之间夹有至少1层以上载体输送层的发光装置的制造方法中,将围着上述第一电极至少一边的周围的隔壁的表层去除厚度50nm以上,与上述隔壁相接并且在上述第一电极上形成包含过渡性金属氧化物的上述载体输送层。
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公开(公告)号:CN100511645C
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200710142101.2
申请日:2007-05-10
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 熊谷稔
CPC classification number: H01L27/3246 , H01L51/0012 , H01L51/5228 , H01L51/56
Abstract: 在由突出配置在一面侧的隔壁(18)划定各显示像素(PIX)的形成区域(Rpx)的绝缘性基板(11)中,在利用UV臭氧处理等赋予亲液性之后,浸渍在酸性水溶液中实施软刻蚀来除去形成在隔壁(18)表面上的氧化膜,之后,浸渍在疏液处理溶液中,从而在隔壁(18)表面上形成疏液膜而赋予疏液性,由此,在绝缘性基板(11)上形成同时存在呈现亲液性的区域和呈现疏液性的区域的亲疏水图形。
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公开(公告)号:CN101393889A
公开(公告)日:2009-03-25
申请号:CN200810215085.X
申请日:2008-09-18
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 熊谷稔
CPC classification number: H01L51/0004 , H01L27/3246 , Y10T29/49155
Abstract: 一种显示装置的制造方法,该显示装置具有多个显示像素,该多个显示像素包含具有载流子传输层的发光元件,该显示装置的制造方法的特征在于,包括以下工序:第1亲液化工序,使电极的表面亲液化,该电极形成在上述多个显示像素的形成区域上,上述多个显示像素的形成区域是由设在基板上的隔壁所围成的;防液化工序,使上述隔壁的表面防液化;以及第2亲液化工序,通过在惰性气体环境中实施等离子处理,使上述电极的表面再次亲液化。
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公开(公告)号:CN100447983C
公开(公告)日:2008-12-31
申请号:CN200610163549.8
申请日:2006-09-29
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 熊谷稔
CPC classification number: H01L27/3246 , H01L51/0004 , H01L51/5228 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供在显示像素的像素形成区域上形成膜厚较均一的载流子输送层的显示装置及其制造方法。具备有载流子输送层的发光元件的显示装置的制造方法具有以下工序:抗液性膜形成工序,在基板上设置的多个隔壁的表面上形成抗液性膜;涂敷工序,在配置在上述多个隔壁间的像素电极上,涂敷包含载流子输送层材料的含载流子输送材料酸性液;干燥工序,在惰性气体环境下,干燥上述含载流子输送材料酸性液。
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公开(公告)号:CN101090093A
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200710142101.2
申请日:2007-05-10
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 熊谷稔
CPC classification number: H01L27/3246 , H01L51/0012 , H01L51/5228 , H01L51/56
Abstract: 在由突出配置在一面侧的隔壁(18)划定各显示像素(PIX)的形成区域(Rpx)的绝缘性基板(11)中,在利用UV臭氧处理等赋予亲液性之后,浸渍在酸性水溶液中实施软刻蚀来除去形成在隔壁(18)表面上的氧化膜,之后,浸渍在疏液处理溶液中,从而在隔壁(18)表面上形成疏液膜而赋予疏液性,由此,在绝缘性基板(11)上形成同时存在呈现亲液性的区域和呈现疏液性的区域的亲疏水图形。
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