公开(公告)号：CN116850893A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202311027972.5

申请日：2023-08-15

Applicant: 华中科技大学 ,  华中科技大学无锡研究院

Inventor： 陈蓉 ,  弋戈 ,  刘潇 ,  向俊任 ,  苏宇

IPC: B01J2/00 ,  B01J2/16 ,  B01J2/18 ,  B01J19/10

Abstract: 本申请涉及一种粉体包覆设备。粉体包覆设备包括流化机构、气体分布机构、进气管道与出料装置，流化机构设有流化腔。气体分布机构设有气体分布腔，气体分布机构设于流化机构内。气体分布机构与流化机构之间形成气室。气体分布机构上设有通风孔，通风孔连通气室与气体分布腔。进气管道与气室连通。出料装置与流化机构连接，出料装置上设有与气体分布腔连通的出料口。本申请中气体分布机构设于流化机构内部，出料装置设于流化机构的一端，使得流化后的粉末可以从出料装置流出。与出料装置与气体分布机构共用同一区域的方案相比，将出料装置与气体分布机构分离，可使气体分布机构上的通风孔不会限制出料的面积，从而以提高出料装置的出料效率。

公开(公告)号：CN115198252A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210303352.9

申请日：2022-03-25

Applicant: 华中科技大学 ,  华中科技大学无锡研究院

Inventor： 陈蓉 ,  曹坤 ,  严谨 ,  单斌 ,  李易诚 ,  胡嘉成

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/04

Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积设备及原子层沉积薄膜的制备方法。本发明提供的原子层沉积设备包括：反应室，其具有反应腔，所述反应腔中设置有第一基片承载台和电极板，所述第一基片承载台用于承载基片，所述电极板位于所述第一基片承载台的上方；电源系统，其第一电极与所述第一基片承载台电连接，第二电极与所述电极板电连接，所述电源系统用于在所述第一基片承载台和所述电极板之间形成电场，以诱导用于在所述基片上沉积出的薄膜的生长取向。

公开(公告)号：CN306012252S

公开(公告)日：2020-08-25

申请号：CN202030175345.7

申请日：2020-04-24

Applicant: 华中科技大学无锡研究院

Designer： 陈蓉 ,  闫占奎 ,  刘潇 ,  单斌

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。
2.本外观设计产品的用途：用于对纳米粉末颗粒的表面进行原子层沉积，实现纳米粉末材料的修饰和改性。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。