-
公开(公告)号：CN1807540A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200610001059.8
申请日：2006-01-18
Applicant: 北京工业大学
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明属于化学机械抛光领域。现有日本的几种抛光液产品主要为金刚石磨料的碱性溶液，由于其中磨粒粒径大小不均匀，不能很好的解决机械作用造成的损伤和应力的问题，无法达到光滑镜面的目的。本发明提供的一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液，包括磨料二氧化铈和腐蚀剂有机碱三乙醇胺，重量百分比含量为二氧化铈0.5％～5％、三乙醇胺为0.05～1.0％，其余为H2O。本发明的抛光液中还可包含0.25％～1.0％的氧化剂铁氰化钾。上述抛光液在加入氧化剂铁氰化钾还可同时加入重量百分含量为5％～15％过氧化氢。本发明的抛光液用于单晶硅片表面抛光，克服了使用现有抛光液中磨料硬度高造成的表面划伤和选择其他种类腐蚀介质带来的缺陷，获得了理想的光滑镜面抛光效果。
-
公开(公告)号：CN112142088A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010671309.9
申请日：2020-07-13
Applicant: 四川瑞驰拓维机械制造有限公司 , 北京工业大学
IPC: C01F17/235 , C01F17/10 , C09G1/02
Abstract: 一种焙烧法制备二氧化铈抛光粉的方法属于微米级晶型、粒径可控粉体制备领域。碳酸铈原料放入刚玉坩埚中，置入马弗炉中以2‑10℃/min的升温速率升温到400℃‑1050℃，而后保温2‑8小时，自然降至室温即得到二氧化铈抛光粉体。采用碳酸铈原料焙烧法制备二氧化铈，通过改变焙烧温度、升温速率、保温时间等因素制备微米级可控晶型、可控粒径二氧化铈抛光粉的方法，其制备方法可操作性强，焙烧工艺简单，焙烧温度、保温时间、升温速率控制精确，可获得从原料碳酸铈到可控晶型、可控粒径的微米级CeO2抛光粉的不同工艺方法产品。
-
公开(公告)号：CN107841371A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201711084537.0
申请日：2017-11-07
Applicant: 北京工业大学
IPC: C10M173/02 , C10N30/04 , C10N30/06 , C10N30/12 , C10N30/18
Abstract: 一种全合成水晶切削液，属于切削液行业，特别是人造水晶切削液的生产技术领域。本发明所提供的切削液主要由清洗剂十二烷基苯磺酸钠、防腐剂三乙醇胺硼酸酯、润滑剂甘油、防锈剂三乙醇胺、消泡剂二甲基硅油及去离子水组成。本发明切削液呈碱性，主要由大量的纯水和多种超强功能助剂经科学复合配合而成，不含对人体有致癌作用的亚硝酸钠，具有在切削过程中始终保持pH值不变的功效，单组份直接使用，无毒无污染，适用于多种工艺的半自动、自动磨削生产线，工艺简单，操作方便，润滑性优，切削质量好，切削效率高，泡沫生成少，可以达到极好的表面光洁度。与国内外同类产品相比，用量少，寿命长，可以节约成本1/6-1/8。
-
公开(公告)号：CN101892132B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010237834.6
申请日：2010-07-23
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种太阳能硅片清洗剂，属于电子工业用清洗技术领域。本发明所提供的清洗剂主要由氢氧化钠、碳酸钠、硅酸钠、乙二胺四乙酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、琥珀酸二辛酯磺酸钠、聚乙二醇、吐温-80、OP-10、三乙醇胺、无水乙醇或正丁醇或异丙醇或其组合物及去离子水组成。本发明清洗剂呈碱性，不含硫、磷添加剂，单组份使用，具有良好的去污、清洗性能，返片率低，使用周期长，对硅片无腐蚀性，使用过程中操作性要求不高，处理后的废油和污水容易处理，适用于多种工艺的手动、半自动及全自动超声波清洗生产线。其洗净效果可达99％以上，返片率几乎为0，成本仅为传统清洗工艺的1/10～1/20。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1762819A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200510098336.7
申请日：2005-09-09
Applicant: 北京工业大学
IPC: C01F17/00
Abstract: 本发明属于稀土粉体材料的化学制备技术领域。前驱体的形貌与最终粒子的形貌在煅烧过程中具有遗传继承性。目前制备CeO2粒子方法问题是：一步法合成的CeO2粒子的形貌比较单一，均为球形；多步法中不同形貌的CeO2微粒的合成未见报道。步骤如下：将固体的三价铈盐溶于蒸馏水中配成0.05～0.5mol/L溶液；将尿素加入到铈盐溶液中，均匀混合，配成Ce3+∶尿素摩尔比＝1∶20－1∶50的澄清母液；加入重量百分比为0.1～1％的表面活性剂到混合溶液中；放入70～95℃的恒温水浴中连续搅拌，使反应充分进行，并得到沉淀；将沉淀分离、收集、洗涤、干燥，得到各种形貌的Ce2O(CO3)2·H2O粉体。本发明的Ce2O(CO3)2·H2O粉体，具有斜方晶系的单晶结构，尺寸为微米级的多种形貌微粒，且表面活性剂的加入使晶体的晶化程度提高。
-
公开(公告)号：CN103553111B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201310518291.9
申请日：2013-10-28
Applicant: 北京工业大学
IPC: C01F17/00
Abstract: 本发明涉及一种微米粉体的制备方法，尤其是一种湿法球磨与低温干燥耦合法制备微米级CeO2的方法。其特征在于步骤如下：称取200g钢球，放入球磨罐中，然后根据球料质量比10:1～20:1的比例，称取碳酸铈粉末10-20g置于球磨罐中，再倒入50～70ml去离子水，将罐加满进行湿法球磨；设定球磨机电压为80～110V，球磨罐转速470～700r/min，球磨30min～360min；将球磨后的悬浮液浆料倒于坩埚中，放置于200℃的干燥箱内，干燥时间10min～6h，自干燥10min起每隔10min取样一次，直到6h为止；用XRD表征分析200℃低温干燥30min，40min，50min，60min，70min方法中发生的物相转变；得到不同干燥时间的产物，获得微米级氧化铈粉体的制备过程。
-
公开(公告)号：CN102515241B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201110434845.8
申请日：2011-12-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种W/O型微乳液制备纳米CeO2粒子的方法，属于纳米材料的制备领域。本发明步骤：微乳液区域的确定：由表面活性剂2-乙基己基膦酸单2-乙基己基酯，以下简称P507，油相磺化煤油，有机溶剂正庚烷及水相氢氧化钠溶液组成；乳化剂由表面活性剂P507和有机溶剂正庚烷组成；乳化剂∶磺化煤油∶氢氧化钠溶液中的NaOH三者质量比例范围为9.85～93.08∶2.39～88.67∶1.48～10.85；搅拌作用下将铈盐溶液加入到上述微乳液区域中，得到负载有机相；在负载有机相中加入沉淀剂草酸溶液得到前驱物；在250℃～750℃焙烧前驱物1.5～6.5h后所得到的粉末形貌为10～20nm的纳米CeO2球状颗粒。本发明制备出无明显颗粒团聚的、粒径分布均匀的纳米CeO2粒子。
-
公开(公告)号：CN103880296A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410025946.3
申请日：2014-01-20
Applicant: 北京工业大学
IPC: C03C15/02
Abstract: 一种软材质光学玻璃锆基抛光液，属于高档光学仪器加工领域。本发明所提供的抛光液主要由锆源磨料、红粉磨料、助磨剂、抗凝剂、pH值调节剂及去离子水组成。本发明抛光液呈酸性，具有抛光速度快，抛光效果好，抛光后的玻璃表面干净，光亮，对抛光玻璃表面不产生划伤，玻璃镜片表面不产生“阿拉比”现象，抛光后玻璃表面无斑点、污渍残留。本发明抛光液使用过程中操作性要求不高，抛光成本低，对环境无毒或低毒，绿色环保，不产生新污染，不造成过多的资源消耗，使用安全。本发明抛光液抛光效率高，其抛光率达95%以上，可用于代替进口ZOX－N氧化锆抛光液，成本仅为进口抛光液的1/3～1/5。
-
公开(公告)号：CN100360631C
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200610001059.8
申请日：2006-01-18
Applicant: 北京工业大学
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明属于化学机械抛光领域。现有日本的几种抛光液产品主要为金刚石磨料的碱性溶液，由于其中磨粒粒径大小不均匀，不能很好的解决机械作用造成的损伤和应力的问题，无法达到光滑镜面的目的。本发明提供的一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液，包括磨料二氧化铈和腐蚀剂有机碱三乙醇胺，重量百分比含量为二氧化铈0.5%～5%、三乙醇胺为0.05～1.0%，其余为H2O。本发明的抛光液中还可包含0.25%～1.0%的氧化剂铁氰化钾。上述抛光液在加入氧化剂铁氰化钾还可同时加入重量百分含量为5%～15%过氧化氢。本发明的抛光液用于单晶硅片表面抛光，克服了使用现有抛光液中磨料硬度高造成的表面划伤和选择其他种类腐蚀介质带来的缺陷，获得了理想的光滑镜面抛光效果。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
19
records
(took 0.02 seconds)
