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公开(公告)号：CN117264600A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311219029.4
申请日：2016-05-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304 , B24B37/00
Abstract: 本发明是一种研磨组合物，其包含二氧化锆作为磨粒，所述研磨组合物的特征在于，pH值是11.0以上且未满12.5；前述二氧化锆中所包含的钠、镁、铝、钾、钙、钛、铬、铁、锰、镍、铜、锌、铅及钴的元素浓度各自未满1ppm。由此，提供一种研磨组合物，其可生产性良好地获得一种半导体基板，所述半导体基板不仅内周部的平坦性高，外周部的平坦性也高，并且由金属杂质所造成的污染少。
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公开(公告)号：CN110546233B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201880024428.6
申请日：2018-03-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其含有研磨颗粒及水而成，其特征在于，所述研磨颗粒以二氧化硅颗粒为母体颗粒，在该母体颗粒的表面担载有铈与选自除铈以外的其他三价稀土元素中的至少一种稀土元素的复合氧化物颗粒。由此，可提供一种具有高研磨速度且能够充分降低因研磨导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用研磨剂。
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公开(公告)号：CN107532066B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201680026694.3
申请日：2016-03-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明是一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其包含研磨磨料、研磨促进剂及水，所述合成石英玻璃基板用研磨剂的特征在于，前述研磨磨料是湿式氧化铈粒子，前述研磨促进剂是聚磷酸或其盐、偏磷酸或其盐、以及钨酸或其盐中的任一种。据此，提供一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其具有高研磨速度，并且能够充分减少由于研磨而产生缺陷的情况。
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公开(公告)号：CN103708839A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310460141.7
申请日：2013-09-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C04B35/50 , C04B35/505 , C04B35/622
CPC classification number: C04B35/50 , C04B35/505 , C04B35/62675 , C04B35/638 , C04B35/6455 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3229 , C04B2235/3244 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/5463 , C04B2235/5481 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6567 , C04B2235/661 , C04B2235/72 , C04B2235/762 , C04B2235/77 , C04B2235/9653 , C09K11/7769 , H01J5/04 , H01J9/247 , H01J61/302 , H01S3/1685
Abstract: 本发明提供一种制造透明倍半氧化物烧结体的方法以及通过该方法制造的透明倍半氧化物烧结体，通过该方法可以稳定的方式制造质量在实用水平的透明的M2O3型倍半氧化物烧结体。制备包括至少一种选自Y、Sc和镧系元素的稀土元素的氧化物颗粒和Zr氧化物颗粒的粉末作为原料粉末，其中在稀土元素氧化物颗粒的粒径分布中，或在稀土元素氧化物颗粒聚集形成二次颗粒的情况下的二次颗粒的粒径分布中，粒径D2.5为180nm-2000nm，包括端点，在粒径D2.5，从最小粒径侧积累的颗粒量是基于总颗粒量的2.5％。将原料粉末压制成型为预定形状，之后进行烧结，由此制造透明的M2O3型倍半氧化物烧结体（M是至少一种选自Y、Sc和镧系元素的稀土元素）。
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公开(公告)号：CN120019329A
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202380071191.8
申请日：2023-09-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F2/44 , C08F292/00 , G02B5/20 , G03F7/038 , G03F7/075 , H10H20/851
Abstract: 本发明提供一种光敏树脂组合物，其特征在于，包含：(A)具有酚羟基的有机硅树脂、(B)光致产酸剂及(C)量子点，所述量子点具有含有硅氧烷的表面包覆层。由此，可提供能够容易形成具有高光刻分辨率、良好的发光特性的覆膜的光敏树脂组合物，使用该光敏树脂组合物获得的光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用它们的图案形成方法、以及使用所述光敏树脂组合物获得的发光元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119998695A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380070954.7
申请日：2023-09-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种含量子点组合物，其为使通过激发光发出荧光的量子点分散于树脂组合物而得到的含量子点组合物，其特征在于，所述量子点具有配位于其表面的配体与同所述配体键合并含有硅氧烷键的表面包覆层，所述表面包覆层含有所述树脂组合物中包含的高分子所具有的取代基、能够与所述树脂组合物中包含的高分子聚合的取代基、或者具有与所述高分子相同的骨架结构的化合物中的至少一种以上。由此，可提供一种维持了量子点的特性，同时提升了稳定性且改善了与高极性溶剂和光敏树脂组合物的相容性的含量子点组合物及其制备方法。
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公开(公告)号：CN115698780A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180036783.7
申请日：2021-04-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G02B5/20 , C09K11/00 , C09K11/02 , C09K11/08 , C09K11/56 , C09K11/70 , C09K11/88 , B82Y20/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及一种含量子点的聚合物，其是含有通过激发光而发出荧光的量子点的含量子点的聚合物，其中，该含量子点的聚合物为在最表面配位有具有反应性取代基的配体的所述量子点与具有可聚合的取代基的有机硅化合物的聚合物。由此，可通过温和的条件而提供一种稳定化的含量子点的聚合物。
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公开(公告)号：CN110546233A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880024428.6
申请日：2018-03-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为一种合成石英玻璃基板用研磨剂，其含有研磨颗粒及水而成，其特征在于，所述研磨颗粒以二氧化硅颗粒为母体颗粒，在该母体颗粒的表面担载有铈与选自除铈以外的其他三价稀土元素中的至少一种稀土元素的复合氧化物颗粒。由此，可提供一种具有高研磨速度且能够充分降低因研磨导致的缺陷的产生的合成石英玻璃基板用研磨剂。
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公开(公告)号：CN106103637B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201580012677.X
申请日：2015-02-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 野岛义弘
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L21/3212
Abstract: 本发明提供一种研磨组合物，其包含结晶性的金属氧化物颗粒作为磨粒，所述研磨组合物的特征在于，所述金属氧化物颗粒在粉末X射线衍射图案中的衍射强度达到最大的峰部分的半宽度不足1°。由此，提供一种研磨组合物及研磨方法以及研磨组合物的制造方法，所述研磨组合物在半导体基板的研磨步骤、特别是具有钨等金属层的半导体基板的化学机械研磨步骤中，具有高研磨速度，并且可抑制产生会导致半导体装置的可靠性降低的划痕和碟型凹陷等缺陷。
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