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公开(公告)号：CN102033421A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010501578.7
申请日：2010-09-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/14
Abstract: 本发明提供一种防尘薄膜组件框架及包含该防尘薄膜组件框架的光刻用防尘薄膜组件的制造方法，即使将防尘薄膜组件贴附于曝光原版，也可将起因于防尘薄膜组件框架的变形所造成的曝光原版的变形尽量减小。本发明的方法为包含在施加负载于设置在平坦面上的防尘薄膜组件框架的状态下进行加热处理的步骤的防尘薄膜组件框架的制造方法，可有效率地获得平坦度在15μm以下的防尘薄膜组件框架。另外，本发明的特征为：预先在既定温度进行加热处理，以使光刻步骤时的温度变化所造成的框架变形实质上不发生。较理想的情况为：温度变化所造成的框架变形为平坦度3μm以下、该加热处理温度为140至250℃、而该框架由杨氏模量为1至80GPa的材料所构成。
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公开(公告)号：CN102033419A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010235003.5
申请日：2010-07-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光刻用防尘薄膜组件，即使将该防尘薄膜组件贴合在曝光原版上，也能够尽可能降低因为该防尘薄膜组件框架的变形所导致的曝光原版的变形。为了达成上述目的，本发明提供一种光刻用防尘薄膜组件，其特征为，在防尘薄膜组件框架的一端面上张设防尘薄膜，在另一端面上设置粘合层，该粘合层是由凝胶组成物所构成，该凝胶组成物的ASTM(American Society for Testing and Materials，美国材料及试验协会)D-1403标准所规定的针入度宜在50以上。
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公开(公告)号：CN101930167A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010214092.5
申请日：2010-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 英特尔公司
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；及提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有包含曲线的凹陷部的形状。
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公开(公告)号：CN101349873A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200810125314.9
申请日：2008-06-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种光刻用防护薄膜组件，其目的在于达到即使在掩模上粘贴防护薄膜组件，掩模也不会产生应变的效果。在本发明的光刻用防护薄膜组件中，用来将防护薄膜组件粘贴于掩模上的掩模黏着剂具有平坦面，且该面的平坦度在15μm以下。
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公开(公告)号：CN101930167B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201010214092.5
申请日：2010-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 英特尔公司
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；及提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有包含曲线的凹陷部的形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102759852A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210127226.9
申请日：2012-04-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供一种可以减低将防尘薄膜组件贴附于曝光原版时的曝光原版的变形的光刻用防尘薄膜组件。用包括自重的0.008至5kgf的光刻用防尘薄膜组件贴附负荷贴附于曝光原版时，具有不发生空隙的粘着层。上述粘着层的杨氏模量为0.01至0.10MPa，拉伸粘接强度为0.02至0.10N/mm2，表面的平坦度为0至15μm。
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公开(公告)号：CN102096322A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010569594.X
申请日：2010-12-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/09 , C09J7/02 , C09J127/12 , C09J171/00
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 平版印刷胶片包括胶片膜(1)，胶片框(3)和PSA层(4)。胶片膜(1)横跨在胶片框(3)上拉伸并在其顶端处安装到胶片框(3)上。PSA层(4)置于框(3)的底端且能固定框(3)到基底(5)上。由含具有全氟结构主链的全氟化合物的可固化组合物制成的内部PSA层(8)置于框(3)的内壁上。
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公开(公告)号：CN102081299A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN201010575683.5
申请日：2010-11-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/14
Abstract: 光刻用防尘薄膜组件10，具有防尘薄膜组件框架3和贴附于防尘薄膜组件框架3的一个端面的防尘薄膜1以及形成在防尘薄膜组件框架3的另一端面的粘接层4。并且，粘接层4是通过固化含有在主链上具有全氟结构的直链全氟化合物的固化组成物而形成的。由此构成的防尘薄膜组件10，即使长期使用，所发生的分解气体的量也很少，能够防止在光掩模5的图案区域内析出固体异物。同时，能够抑制将光掩模5固定在防尘薄膜组件框架3上的粘接层中所含粘接剂的老化。此外，这种防尘薄膜组件10能够容易地从光掩模5上剥离下来，更换新的防尘薄膜组件10。
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公开(公告)号：CN101930166A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010214029.1
申请日：2010-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 英特尔公司
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。
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公开(公告)号：CN101876786A
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN201010133578.6
申请日：2010-03-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
IPC: G03F1/14
Abstract: 本发明提供一种光罩，其在使用后能够很轻易的除去防尘薄膜组件。本发明的光罩在透明基板的图案区域的外周围的防尘薄膜组件框架装设区域上形成遮光膜。该光罩宜为负型光致抗蚀剂用光罩。又，在该光罩的该防尘薄膜组件框架装设区域上所形成的遮光膜宜与该透明基板直接接触。又，该光罩的该透明基板宜为石英玻璃基板。
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