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公开(公告)号：CN105383178A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510510859.1
申请日：2015-08-19
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/04563 , B41J2/04528 , B41J2/04586 , B41J13/0009 , B41J13/0018
Abstract: 本发明提供喷墨记录装置及喷墨记录方法。在记录之间的时间相对长的第一记录模式中，在记录之间停止加热，而在记录之间的时间相对短的第二记录模式中，在记录之间继续进行加热。
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公开(公告)号：CN105383174A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510526415.7
申请日：2015-08-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/11
CPC classification number: B41J2/04551 , B41J2/04513 , B41J2/04515 , B41J2/04536 , B41J2/04545 , B41J2/04568 , B41J2/1752 , B41J2/17566 , B41J2/2054 , B41J2/2132 , B41J29/02 , B41J29/38
Abstract: 本发明提供一种喷墨记录装置及喷墨记录方法。如果墨能够被用尽，并且针对一个单位区域的喷墨量大，则通过增大的扫描次数来进行在单位区域上的记录。
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公开(公告)号：CN116974145A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202310451335.4
申请日：2023-04-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供一种有利于提高被照明面处的照度均匀性的技术。一种照明光学系统，使用来自光源的光束对被照明面进行照明，该照明光学系统具备：积分器，包括在第1方向上周期性地排列的多个第1光学元件，由来自所述光源的光束形成多个二次光源；透镜，用于使用来自所述多个二次光源的光束对所述被照明面进行照明；及光发散构件，包括在第2方向上周期性地排列的多个第2光学元件，配置于所述光源与所述积分器之间的光路上，以利用所述多个第2光学元件的各个使来自所述光源的光束发散而入射到所述积分器，所述第1方向和所述第2方向所成的角度比0度大且比45度小。
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公开(公告)号：CN115309001A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210471767.7
申请日：2022-04-29
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小林大辅
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法。本发明提供了一种用于照亮物体的照明光学系统，包括：第一透光构件和第二透光构件，以及被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。
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公开(公告)号：CN111381455B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN201911333037.5
申请日：2019-12-23
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法，提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统包括：生成部，使来自光源的光衍射，将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面；光学积分器，配置于生成部与被照明面之间的光路上；及光透射部件，配置于生成部与光学积分器之间的光路上，多个种类的光强度分布包括光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布和第2光强度分布，光透射部件包括在第1光强度分布生成时和第2光强度分布生成时光共同地透射的第1区域和第1区域以外的第2区域，第1区域包括光的发散程度比第2区域高的发散部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114303101A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080060934.8
申请日：2020-07-21
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小林大辅
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供一种曝光装置，该曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动，一边对所述基板进行曝光，其特征在于，具有利用来自光源的光对所述原版的被照明面进行照明的照明光学系统，所述照明光学系统包括：第1遮光部，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧离开的位置；第2遮光部，配置于从所述共轭面向所述被照明面侧离开的位置；以及遮蔽部，配置于所述第1遮光部与所述第2遮光部之间，划定所述被照明面的照明范围，沿着所述照明光学系统的光轴的方向上的所述共轭面与所述第1遮光部之间的第1距离以及沿着所述光轴的方向上的所述共轭面与所述第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下，所述第1遮光部以及所述第2遮光部被配置成所述第1距离和所述第2距离不同。
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公开(公告)号：CN114286966A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202080060758.8
申请日：2020-08-05
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 在进行基板的扫描曝光的曝光装置中，利用来自光源(1)的光对原版(24)的被照明面进行照明的照明光学系统具有：衍射光学元件(6)，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源(1)的光束的光强度分布；第1遮光部(18)，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及第2遮光部(20)，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置。所述衍射光学元件(6)具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部(18)和所述第2遮光部(20)在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。
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公开(公告)号：CN105383178B
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201510510859.1
申请日：2015-08-19
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/04563 , B41J2/04528 , B41J2/04586 , B41J13/0009 , B41J13/0018
Abstract: 本发明提供喷墨记录装置及喷墨记录方法。在记录之间的时间相对长的第一记录模式中，在记录之间停止加热，而在记录之间的时间相对短的第二记录模式中，在记录之间继续进行加热。
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公开(公告)号：CN114286966B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202080060758.8
申请日：2020-08-05
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 在进行基板的扫描曝光的曝光装置中，利用来自光源(1)的光对原版(24)的被照明面进行照明的照明光学系统具有：衍射光学元件(6)，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源(1)的光束的光强度分布；第1遮光部(18)，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及第2遮光部(20)，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置。所述衍射光学元件(6)具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部(18)和所述第2遮光部(20)在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。
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公开(公告)号：CN114303101B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202080060934.8
申请日：2020-07-21
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小林大辅
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供一种曝光装置，该曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动，一边对所述基板进行曝光，其特征在于，具有利用来自光源的光对所述原版的被照明面进行照明的照明光学系统，所述照明光学系统包括：第1遮光部，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧离开的位置；第2遮光部，配置于从所述共轭面向所述被照明面侧离开的位置；以及遮蔽部，配置于所述第1遮光部与所述第2遮光部之间，划定所述被照明面的照明范围，沿着所述照明光学系统的光轴的方向上的所述共轭面与所述第1遮光部之间的第1距离以及沿着所述光轴的方向上的所述共轭面与所述第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下，所述第1遮光部以及所述第2遮光部被配置成所述第1距离和所述第2距离不同。
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