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公开(公告)号:CN105948519B
公开(公告)日:2019-02-22
申请号:CN201610306938.5
申请日:2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供了一种熔石英激光损伤的无热残余应力修复方法,该方法通过截取激光器输出脉冲的峰值段,获得高峰值功率矩形激光脉冲;聚焦高峰值功率矩形激光脉冲,获得甚高峰值功率密度单激光脉冲;使用单激光脉冲瞬间气化剥离熔石英基底上的单点的损伤部位材料;控制单激光脉冲间隔,使基底充分冷却;利用单激光脉冲重复进行气化剥离,直至去除损伤部位全部材料。本发明方法有效控制了熔石英基底发生高温结构弛豫,获得了无热残余应力的熔石英损伤修复,提升了熔石英光学元件损伤点的抗损伤能力,抑制了熔石英光学元件表面损伤及其增长,延长了熔石英光学元件使用寿命,具有修复时间短、过程简洁高效、工艺稳定性好、可控性强、重复性高的优点。
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公开(公告)号:CN106932844B
公开(公告)日:2018-12-18
申请号:CN201710354588.4
申请日:2017-05-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明专利公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法,包括:从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光;对二氧化碳激光进行聚焦;将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置;采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐照熔石英样片表面;然后放入氢氟酸溶液进行湿法刻蚀;对湿法刻蚀形成的熔石英微凹柱透镜阵列进行喷淋和超声清洗,得到熔石英微凹柱透镜阵列。本发明利用功率恒定的连续二氧化碳激光进行扫描辐照;简洁高效地直接在熔石英表面实现了一维的柱透镜阵列,例如平行微凹柱透镜阵列、正交微凹柱透镜阵列和螺旋微凹柱透镜阵列的制造,并且制造的微凹柱透镜阵列无实焦点,尤其适用于高功率光束整形等应用。
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公开(公告)号:CN106964893B
公开(公告)日:2018-11-06
申请号:CN201710339726.1
申请日:2017-05-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件的激光预处理装置及处理方法,包括:用于发出激光的激光光源;依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台;其中,激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统,光束整形系统对激光进行光束整形,将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑,最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本发明的激光预处理装置,形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀,并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸,进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。
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公开(公告)号:CN105948519A
公开(公告)日:2016-09-21
申请号:CN201610306938.5
申请日:2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供了一种熔石英激光损伤的无热残余应力修复方法,该方法通过截取激光器输出脉冲的峰值段,获得高峰值功率矩形激光脉冲;聚焦高峰值功率矩形激光脉冲,获得甚高峰值功率密度单激光脉冲;使用单激光脉冲瞬间气化剥离熔石英基底上的单点的损伤部位材料;控制单激光脉冲间隔,使基底充分冷却;利用单激光脉冲重复进行气化剥离,直至去除损伤部位全部材料。本发明方法有效控制了熔石英基底发生高温结构弛豫,获得了无热残余应力的熔石英损伤修复,提升了熔石英光学元件损伤点的抗损伤能力,抑制了熔石英光学元件表面损伤及其增长,延长了熔石英光学元件使用寿命,具有修复时间短、过程简洁高效、工艺稳定性好、可控性强、重复性高的优点。
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公开(公告)号:CN104941961A
公开(公告)日:2015-09-30
申请号:CN201510376011.4
申请日:2015-07-01
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: B08B7/0042 , B08B9/049 , B08B15/04
Abstract: 本发明提供了一种采用激光清洗金属管道的机器人,所述的机器人包括轮式小车、连接部件、机柜。轮式小车包含激光输出部件、摄像部件、吸尘机构;连接部件包含光纤、电缆、数据线、吸尘管;机柜包含激光器、光纤耦合器、电源驱动部件、水冷机、吸尘器、工业计算机。激光从激光器输出,经光纤耦合器耦合进光纤,通过光纤传输至轮式小车搭载的激光输出部件中的光纤准直系统后,再通过激光输出部件中的扫描振镜及旋转辅助部件从而输出可360°旋转的线形光斑。利用线形光斑360°旋转扫描金属管道内壁,达到清洗管道的目的。本发明用于对金属管道进行在线洁净处理,从而实现对金属管道的在线洁净维持。
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公开(公告)号:CN116297479A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202310175409.6
申请日:2023-02-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法,包括对大口径光学元件进行固定的装调组件,还包括设置在待测大口径光学元件侧面,以提供损伤检测光源的照明模块;其中,所述照明模块通过相配合的线缆、接插件与装调组件上的供电模块电性连接。本发明提供一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置及方法,该装置无需单独外接有线电源,从而极大地扩展了大口径光学元件损伤观测的使用场景,观测时侧照明LED灯条可均匀辐照于整个大口径光学元件,根据观测距离和角度的不同,可分辨出表面或体内损伤。
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公开(公告)号:CN112355488B
公开(公告)日:2021-12-03
申请号:CN202011220524.3
申请日:2020-11-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/362 , B23K26/70 , B23K26/073
Abstract: 本发明公开了一种抗激光损伤的软边光阑制备方法,按照以下步骤进行:S1:调试聚焦CO2激光脉冲的功率和脉宽,利用聚焦CO2激光脉冲辐照熔石英表面,形成无裂纹的烧蚀凹坑点;S2:利用光弹法检测烧蚀凹坑点的残余应力是否为0;S3:利用凹坑点排列密度调控光的透射率,使软边光阑边缘CO2激光相爆炸烧蚀凹坑点的密度朝着靠近软边光阑边缘的方向逐渐增加。采用以上技术方案,制备的软边光阑激光损伤阈值高且经济高效,克服了超短激光脉冲制备软边光阑成本高昂的问题,解决了CO2激光制备软边光阑的热应力问题,不仅可以制备传统的圆孔、方孔和矩形孔软边光阑,并且可以灵活方便地制备圆环、方形环以及中心透射率调制的软边光阑等。
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公开(公告)号:CN113340504A
公开(公告)日:2021-09-03
申请号:CN202110788340.5
申请日:2021-07-13
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种从熔石英假想温度分布获取残余应力分布的方法,按照以下步骤进行:S1:构建熔石英的假想温度分布;S2:作出初始冻结状态曲线以及体积变化曲线;S3:计算各个位置的体积收缩量;S4:获得相对体积应变量的分布;S5:求解获得熔石英的残余应力分布。采用以上技术方案,简洁准确,易于实现,克服了现有方法评估残余应力复杂繁琐的技术问题,并解决了目前玻璃假想温度状态只表征其结构状态而不能通过其分布获取残余应力的难题;本方法不仅可以获得CO2激光作用后熔石英的残余应力分布,而且可以方便灵活地获得石英光纤的残余应力,在熔石英加工领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号:CN109277372B
公开(公告)日:2020-08-14
申请号:CN201811337942.3
申请日:2018-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种道路交通标线的激光清洗方法,该方法包括:对激光清洗机进行预热,调节所述激光清洗机输出激光的平均功率、重复频率和脉冲宽度;调节作用于道路交通标线上的激光光斑直径和激光光斑线长;将吸尘器的吸气嘴倾斜放置于距离激光作用点5cm‑10cm处;打开所述激光清洗机光闸,打开所述吸尘器,沿垂直于光斑线长方向同时水平移动所述激光清洗机输出头和所述吸尘器吸气嘴。本发明具有在不损伤路基的前提下有效去除道路交通标线,且清洗后的产物便于收集,对环境污染小的优点。
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公开(公告)号:CN111229541A
公开(公告)日:2020-06-05
申请号:CN202010184859.8
申请日:2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器,储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,结构新颖,设计巧妙,不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势,而且制备流程简单,操作方便,效率高,同时,对于非平板结构的元件,可以根据涂膜对象的形状特征,对储液器的形状进行适应性地调整,使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补,从而可以在储液器匀速升降的情况下,保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的,大幅提高涂膜的均匀性,简化升降控制机构的逻辑控制。
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