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公开(公告)号：CN111406128A
公开(公告)日：2020-07-10
申请号：CN201880076400.7
申请日：2018-11-13
Applicant: 东洋铝株式会社
Abstract: 本发明的铝合金层叠体(10)具备：具有第一面(1A)的铝基材(1)；与第一面(1A)相接而形成，并具有在与第一面(1A)交叉的方向上位于远离第一面(1A)的位置的第二面(2A)的阳极氧化皮膜(2)。铝基材(1)的含有第一面(1A)的表层，含纯度99.9质量％以上的铝，和0.001质量％以上且0.052质量％以下的铁。阳极氧化皮膜(2)的第二面(2A)的表面粗糙度(Ra)为20nm以下。阳极氧化皮膜(2)的第二面(2A)的平均凹凸间距(RSm)低于30μm。阳极氧化皮膜(2)的交叉的方向的厚度为9μm以上且26μm以下。铝层叠体(1)的所述交叉的方向的整体的厚度的值(T1)(单位：μm)，和阳极氧化皮膜(2)的所述交叉的方向的厚度的值(T2)(单位：μm)，满足关系式T1+10×T2≤450。
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公开(公告)号：CN108778540A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201680083442.4
申请日：2016-12-27
Applicant: 东洋铝株式会社
Abstract: 本发明提供一种紫外线反射材用铝箔，其相比现有的铝箔，对于波长区域250nm～400nm的紫外线具有85％以上的高反射率，对于波长区域254nm～265nm的深紫外线具有80％以上的高反射率。压入或附着在预定的表面积的区域的铝粒子的总表面积，相对于该区域的表面积为0.05％以下。存在于上述区域内的晶化物的总表面积，相对于上述区域的表面积为2％以下。每一个晶化物的平均表面积为2μm2以下。上述区域的表面粗糙度Ra低于20nm。
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公开(公告)号：CN105451903A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480043547.8
申请日：2014-08-01
Applicant: 东洋铝株式会社
CPC classification number: C22C21/00 , B21B1/40 , B21B3/00 , B21B27/021 , B21B2003/001 , B21B2261/14 , B21B2265/14 , B21B2267/10 , C22C21/06 , C22C21/08
Abstract: 本发明提供一种铝箔，其中，存在于预先确定的表面积中的结晶物的总表面积的比例为2％以下，每1个结晶物的平均表面积为2μm2以下，与轧制方向垂直的方向的表面粗糙度Rz为40nm以下，并且表面粗糙度Ra为10nm以下。通过使用表面粗糙度Ra为40nm以下的轧制辊在压下率为35％以上的条件下对铝箔进行最终冷轧而制造可见光反射材料用铝箔。
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公开(公告)号：CN103687320A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310424403.4
申请日：2013-09-17
Applicant: 东洋铝株式会社
IPC: H05K3/06
Abstract: 本发明提供通过凹版印刷，不限定印刷部的取向和长度，而能够再现比以往更精密的印刷线的方法，以及通过将防焊油墨层作为掩模蚀刻金属箔，能够制造以具有精密金属电路图形的RFID用输入天线为代表的电路结构的方法。本发明的电路结构的制造方法，其依次具有下述工序：工序一，用凹版印刷版通过涂敷防焊油墨，在金属箔的正面上印刷电路图形的防焊油墨层，及工序二，将所述防焊油墨层作为掩模，蚀刻所述金属箔，由此在所述含树脂基材上形成金属电路图形；在将所述电路图形的线宽设为Wmm，将所述凹版印刷版的网格线数设为L的情况下，满足（i）200≤L≤400及（ii）L≥35.92/W关系式。
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公开(公告)号：CN102017298B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN200980116512.1
申请日：2009-04-28
Applicant: 东洋铝株式会社
IPC: H01Q1/38 , G06K19/07 , G06K19/077 , H01Q7/00
CPC classification number: H01Q7/00 , G06K19/07749 , H01Q1/38 , H05K1/162 , H05K1/165 , H05K3/4685 , H05K2201/0116 , H05K2201/0355 , H05K2201/0382
Abstract: 本发明提供一种通过降低构成基材的树脂薄膜的介电常数从而提高Q值的用于IC卡/标签的天线电路构造体及IC卡，用于IC卡/标签的天线电路构造体(10)具有：由树脂薄膜构成的基材(11)；形成在基材(11)的两个面上的铝箔构成的电路图案层(131和132)，电路图案层(131)含有线圈状的图案层，介于彼此相对的电路图案层(131和132)的一部分与电路图案层(131、132)的一部分之间的基材(11)的一部分，构成电容，电路图案层(131和132)通过压接部(13a、13b)导通地电连接，基材(11)含有多个孔状空气层，基材(11)相对树脂密度的相对密度为0.9以下，孔状空气层的平均体积为2μm3以上90μm3以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119816611A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202380065981.5
申请日：2023-10-24
Applicant: 东洋铝株式会社
IPC: C22C21/10 , C22C21/00 , C23C28/00 , B32B15/08 , B32B15/20 , C23C26/00 , C22F1/00 , C22F1/04 , C22F1/053
Abstract: 本发明其目的在于，提供铝合金箔、使用铝合金箔的层叠体及其制造方法，弱酸环境下的化学溶解性和酸性环境下的均匀溶解性优异。根据本发明，提供一种含有Fe、Ni和Zn，余量包含Al和不可避免的杂质的铝合金箔，其中，将铝合金箔中的Fe、Ni和Zn的含量以质量%计分别设为［Fe］、［Ni］和［Zn］时，［Zn］为0.4以上且5.1以下，［Fe］＋［Ni］为0.4以上且4.8以下，而且［Fe］＋［Ni］＋2×［Zn］为2.5以上，以及提供使用了铝合金箔的层叠体等。
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公开(公告)号：CN110678584B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN201880036305.4
申请日：2018-05-28
Applicant: 东洋铝株式会社
Abstract: 铝层叠体(10)具备铝基材(1)和阳极氧化覆膜(2)，所述铝基材(1)具有第一面(1A)，所述阳极氧化覆膜(2)与第一面(1A)接触地形成，且具有在与第一面(1A)相交的方向上处于远离第一面(1A)的位置的第二面(2A)。铝基材(1)的包括第一面(1A)在内的表层中包含纯度为99.9质量％以上的铝以及纯度为0.001质量％以上且0.052质量％以下的铁。阳极氧化覆膜(2)的第二面(2A)的表面粗糙度Ra为20nm以下。阳极氧化覆膜(2)的第二面(2A)的平均凹凸间距离RSm小于30μm。阳极氧化覆膜(2)的相交的方向的厚度为9μm以上且26μm以下。
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公开(公告)号：CN113574191A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202080021561.3
申请日：2020-03-17
Applicant: 东洋铝株式会社
Abstract: 铝合金箔(1)是具有第一面(1A)的铝合金箔。铝合金箔(1)包含铝、硅、0.4质量％以上且3.04质量％以下的锰、0.03质量％以上且0.08质量％以下的铁、0.00001质量％以上且0.03质量％以下的锌、0.00001质量％以上且0.02质量％以下的铜、以及0.00001质量％以上且0.01质量％以下的镁。在铝合金箔(1)中，硅和铁的含量的合计为0.1质量％以下。在铝合金箔(1)中，锰的质量相对于硅和铁的合计质量的比率为7.0以上。在第一面(1A)中，当量圆直径为1.5μm以上的第二相粒子的面积率为0.1％以下。
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公开(公告)号：CN108778540B
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN201680083442.4
申请日：2016-12-27
Applicant: 东洋铝株式会社
Abstract: 本发明提供一种紫外线反射材用铝箔，其相比现有的铝箔，对于波长区域250nm～400nm的紫外线具有85％以上的高反射率，对于波长区域254nm～265nm的深紫外线具有80％以上的高反射率。压入或附着在预定的表面积的区域的铝粒子的总表面积，相对于该区域的表面积为0.05％以下。存在于上述区域内的晶化物的总表面积，相对于上述区域的表面积为2％以下。每一个晶化物的平均表面积为2μm2以下。上述区域的表面粗糙度Ra低于20nm。
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公开(公告)号：CN111727277A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201980013622.9
申请日：2019-01-31
Applicant: 东洋铝株式会社
Abstract: 本发明的铝层叠体(10)具备：具有第一面(1A)的铝基材(1)；和与第一面(1A)相接而形成，且具有在与第一面(1A)交叉的方向上位于远离第一面(1A)的位置的第二面(2A)的阳极氧化皮膜(2)。铝基材(1)的包含第一面(1A)的表层含有纯度99.9质量％以上的铝和0.001质量％以上且0.02质量％以下的铁。阳极氧化皮膜(2)的第二面(2A)的表面粗糙度Ra为15nm以下。阳极氧化皮膜(2)在交叉的方向上的厚度为2μm以上且20μm以下。铝层叠体(1)在所述交叉的方向上的整体厚度的值T1(单位：μm)、与阳极氧化皮膜(2)在所述交叉的方向上的厚度的值T2(单位：μm)满足关系式T1+10×T2≤230。第一阳极氧化皮膜(2)的封孔度导纳Y值小于100μS。
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