公开(公告)号：CN303918957S

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201630060249.1

申请日：2016-03-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 锦户修一 ,  篠原英隆 ,  久留巢健人 ,  天野嘉文

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：基板清洗具。2．本外观设计产品的用途：本物品是用于清洗半导体基板、液晶基板等基板的表面的基板清洗工具。3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图。5．省略视图：设计1右视图和设计1左视图对称，因此省略设计1右视图。设计1仰视图与设计1俯视图对称，因此省略设计1仰视图。6．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN308759761S

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202330649539.X

申请日：2023-10-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 久留巢健人 ,  三牧劝大 ,  笠井康成 ,  福田喜辉

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板清洗具的研磨部。
2.本外观设计产品的用途：本产品的整体用途是用于与半导体、液晶基板等基板的表面接触而进行清洗的基板清洗具。
局部用途是基板清洗具的研磨部。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。
6.其他需要说明的情形：本外观设计产品的各设计请求局部外观设计保护，其中，实线所表示的部分是请求保护的部分，虚线所表示的部分是不请求保护的部分，点划线是请求保护的部分和不请求保护的部分之间的边界线。
如设计1参考图所示，利用研磨表面凹陷能够容易观察研磨模块的使用磨损程度。

公开(公告)号：CN308499817S

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN202130670462.5

申请日：2021-10-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 冈本芳树 ,  久留巢健人 ,  滝口靖史 ,  久保明广 ,  水野刚资 ,  宫原理

公开(公告)号：CN308747952S

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN202330649540.2

申请日：2023-10-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 久留巢健人 ,  久保明广 ,  中岛昇 ,  笠井康成

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：半导体制造装置用清洗刷的研磨部（带研磨模块）。
2.本外观设计产品的用途：本产品整体是用于去除基板反面上的突起和/或沉积物的清洗刷，局部是清洗刷的研磨部。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。
6.其他需要说明的情形其他说明：本外观设计产品的各设计请求局部外观设计保护，其中，实线所表示的部分是请求保护的部分，虚线所表示的部分是不请求保护的部分，点划线是请求保护的部分和不请求保护的部分之间的边界线。
如设计1 参考图1所示，利用研磨表面凹陷能够容易观察研磨模块的使用磨损程度。

公开(公告)号：CN304396977S

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：CN201730248387.7

申请日：2017-06-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 篠原英隆 ,  宫原理 ,  久留巢健人

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：用于半导体制造装置的带有研磨部的洗涤刷。
2．本外观设计产品的用途：本产品是一种刷子，该刷子在半导体制造装置中用于去除在对基板曝光等产生不良影响的基板内面形成的凸部或基板内面的附着物，其底面外周具有研磨部，其内侧具有洗涤部。
洗涤部由可弹性变形的合成树脂等形成。
将本产品按压于基板内面，在研磨部和洗涤部与基板内面相接触的状态下旋转本产品，由此能够去除基板内面的研磨和由研磨产生的研磨屑等。
3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。