公开(公告)号：CN1577738A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410055260.5

申请日：2004-06-26

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 岛井太 ,  河田茂

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板(W)，在显影液供给部(2)中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部(4)中回收显影液，之后在漂洗液供给·回收部(6)中进行清洗和清洗液回收，最后送至干燥部(8)。在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，于该处理部之前的待机部、例如该处理部是显影液回收部(4)的情况下，在其之前的待机部(3)中，使滚轮(10a)重复进行正反旋转，基板(W)往返移动。结果是，在基板(W)的背面，与滚轮(10a)接触的部分始终移动而不停止在一个部位上，基板的温度分布是均匀的。

公开(公告)号：CN1575870A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410055068.6

申请日：2004-06-30

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 岛井太 ,  河田茂

IPC: B08B3/12 ,  H01L21/304

Abstract: 提供一种基板清洗装置(方法)，可以不向基板表面的清洗水传送无用的超声波，高效率地进行清洗。从清洗液供给喷嘴(10)在与玻璃基板(W)的运送方向相反方向上供给到玻璃基板表面的清洗液流过玻璃基板(W)的表面，遍及基板全面。另一方面，配置在被运送的玻璃基板(W)下方的超声波振荡喷嘴(14)使超声波在玻璃板(W)上产生振荡时，将超声波传送到供给玻璃基板表面的清洗液，使清洗液振动，均匀高效率地清洗玻璃基板(W)的表面。