硬质合金基体复杂形状刀具金刚石涂层制备方法

    公开(公告)号:CN1528947A

    公开(公告)日:2004-09-15

    申请号:CN03151295.X

    申请日:2003-09-29

    Abstract: 一种硬质合金基体复杂形状刀具金刚石涂层制备方法。该方法针对复杂形状硬质合金刀具基体,采用微波化学复合预处理技术对刀具基体进行脱钴、脱碳及粗化处理,以提高涂层早期形核率和改善金刚石涂层的附着强度。再采用电子增强热丝CVD纳米金刚石复合涂层技术,通过改变工艺条件,在已经生长的结晶性好的金刚石涂层上再原位生长一层由微晶聚集而成的球状纳米级金刚石涂层,在获得高附着强度的同时,有效地降低了涂层表面粗糙度,从而极大地提高了涂层刀具的切削性能。该方法不受基体形状的限制,适用于任何复杂形状刀具基体的涂层制备,且操作简单、应用方便,产业化前景光明,因而具有显著的经济效益。

    金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺

    公开(公告)号:CN1140463C

    公开(公告)日:2004-03-03

    申请号:CN01126814.X

    申请日:2001-09-20

    CPC classification number: C02F1/725 C02F2001/46138

    Abstract: 一种金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺,采用性能优越、电位窗口较宽的CVD掺硼金刚石涂层电极作为电解处理废水的阳极或阴极,电极相互平行并垂直置于电解槽中,电解槽中铺上固体催化剂及溶液中添加电解质,以提高电流效率和导电性。本发明选用以抛光硅片为衬底的普通掺硼金刚石涂层电极或以金属钨、碳化硅为衬底的纳米掺硼金刚石涂层电极,利用其优越的性能,满足电化学法处理废水的需求,具有能耗低、电极寿命长、应用范围广的优点。

    金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺

    公开(公告)号:CN1336334A

    公开(公告)日:2002-02-20

    申请号:CN01126814.X

    申请日:2001-09-20

    CPC classification number: C02F1/725 C02F2001/46138

    Abstract: 一种金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺,采用性能优越、电位窗口较宽的CVD掺硼金刚石涂层电极作为电解处理废水的阳极或阴极,电极相互平行并垂直置于电解槽中,电解槽中铺上固体催化剂及溶液中添加电解质,以提高电流效率和导电性。本发明选用以抛光硅片为衬底的普通掺硼金刚石涂层电极或以金属钨、碳化硅为衬底的纳米掺硼金刚石涂层电极,利用其优越的性能,满足电化学法处理废水的需求,具有能耗低、电极寿命长、应用范围广的优点。

    特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN102140627A

    公开(公告)日:2011-08-03

    申请号:CN201110028847.7

    申请日:2011-01-27

    Abstract: 一种金刚石涂层技术领域的特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法,采用热丝化学气相沉积法在拉拔模的內孔表面依次进行直流正向偏流沉积、直流反向偏流沉积、直流还原沉积和优化沉积处理,得到特大孔径内孔金刚石平坦化涂层。本发明用三相整流的直流电源来替代单相交流电源,从而解決了大功率供电的三相平衡问题,同时既能保证金刚石涂层的质量,又能提高涂层的表面平整度,减少涂层抛光工作量,提高涂层模具的合格率和可靠性。

    碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN101318839A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200810040138.9

    申请日:2008-07-03

    Abstract: 本发明涉及一种镀覆技术领域的碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法,以碳化硅陶瓷为衬底,进行多次常规金刚石涂层沉积→等离子体抛光→纳米金刚石涂层沉积→机械抛光,使陶瓷模具原先内孔表面缺陷砂眼消失,在CVD金刚石沉积-抛光循环过程,采用常规金刚石涂层与纳米金刚石涂层相结合,等离子体抛光与机械抛光相结合,在沉积常规涂层与纳米涂层之间插入等离子体抛光,使生长纳米涂层后更适应机械抛光。本发明制备的模具可替代传统硬质合金产品,不仅能大幅度延长传统模具和器件的使用寿命,提高生产效率,显著改善相关产品的质量,有效节约原材料,且对于大幅度减少钨、钴资源的消耗,有效解决硬质合金行业面临资源危机意义重大。

    制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法

    公开(公告)号:CN1294293C

    公开(公告)日:2007-01-10

    申请号:CN200410067571.3

    申请日:2004-10-28

    Abstract: 一种镀覆技术领域的制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法,在热丝CVD沉积金刚石薄膜的基础上,增加一种辅助栅极,辅助栅极在热丝沉积初期,先行沉积一层金刚石薄膜,然后在栅极和热丝之间加上直流偏压,栅极为负,栅极表面的金刚石薄膜即发射电子而形成直流放电,其中正离子将轰击栅极,被轰击下来的金刚石原子和原子集团将溅落到衬底上,成为金刚石形核和生长驱动点,溅射对衬底上金刚石的高密度形核和二次形核起了关键作用,衬底表面沉积得到纳米金刚石薄膜。本发明能达到极高的形核密度,同时在生长过程中有很高的二次形核速率,能生长得到纳米级的金刚石薄膜,沉积后薄膜无须研磨抛光就能达到较高的光洁度,满足使用要求。

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