公开(公告)号：CN1213691A

公开(公告)日：1999-04-14

申请号：CN98117846.4

申请日：1998-07-21

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 洲崎诚 ,  香川晴治 ,  冲野进 ,  本城新太郎

IPC: C10K1/12 ,  B01D53/14 ,  B01D53/79 ,  B01D53/96

Abstract: 气体精制设备,相对于进行硫化物燃烧的燃烧室设有多个蓄热体122,这些蓄热体中任何一个特定的蓄热体与燃烧后的排烟E3接触,加热该特定的蓄热体,同时,其它蓄热体与燃烧前的再生气E2接触,加热再生气,这一操作通过顺次转换蓄热体连续进行,将蓄热体作介质,以由排烟E3中回收的热量加热再生产E2,并进行燃烧。

公开(公告)号：CN1206038A

公开(公告)日：1999-01-27

申请号：CN98115599.5

申请日：1998-07-06

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 越智英次 ,  洲崎诚 ,  香川晴治 ,  冲野进 ,  本城新太郎

IPC: C10K1/08

Abstract: 本发明涉及一种用于净化由煤或重油等气化而获得的合成煤气的煤气净化方法,提供了一种既能吸收合成煤气中的含硫化合物,又能对其他杂质进行除去处理的煤气净化方法。按照本发明,在将合成煤气A2导入脱硫塔之前,设置一个洗涤工序(洗涤塔7),在该工序中,使上述合成煤气A2与洗涤液B进行气液接触,从而至少吸收除去在合成煤气A2中所含的含氯化合物和/或含氮化合物。

公开(公告)号：CN1034555C

公开(公告)日：1997-04-16

申请号：CN91111880.2

申请日：1991-12-25

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 鹈川直彦 ,  冲野进 ,  高品徹 ,  鬼塚雅和 ,  井上健治

IPC: B01D35/06 ,  B01D53/14

CPC classification number: B03C1/035 ,  B01D53/501 ,  C02F1/488 ,  C02F2103/18

Abstract: 一种用来从废气脱硫装置中所用吸收液中分离出飞灰的吸收液处理装置，包括一个将含飞灰吸收液引入窄通道的收缩流动通道部分，一个安装于所述窄通道一侧外部的电磁铁，所述电磁铁装有定时器以间歇地从外部施加磁场，一个连接于所述窄通道出口的扩张流动通道部分，一个将所述扩张流动通道分成两个通道的分隔板，一个通道位于电磁铁侧，另一个通道在相对于电磁铁侧，和经过两个分成的通道将吸收液分别排出的出口。

公开(公告)号：CN113597347B

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN202080022341.2

申请日：2020-02-04

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 行本敦弘 ,  野间彰 ,  佐藤淳 ,  青木泰道 ,  山口大辉 ,  清木义夫 ,  小林一登 ,  冲野进 ,  涌井哲

IPC: B09B3/40 ,  B09B3/60

Abstract: 废弃物处理系统具备：对废弃物进行水热处理的第1水热处理装置、将第1水热处理装置中的第1反应物分离为固体和液体或浆料的第1固液分离装置、对第1反应物的固体进行水热处理的第2水热处理装置、将第2水热处理装置中的第2反应物分离为固体和液体或浆料的第2固液分离装置、和使第1反应物的液体或浆料和第2反应物的液体或浆料发酵的发酵装置。

公开(公告)号：CN111989169B

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN201980022450.1

申请日：2019-04-11

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 行本敦弘 ,  野间彰 ,  清木义夫 ,  青木泰道 ,  鹈饲展行 ,  河合一宽 ,  佐藤淳 ,  冲野进

IPC: B09B3/45 ,  B09B3/60 ,  C02F3/28 ,  C02F3/34 ,  C02F11/08 ,  F01K21/00 ,  B09B101/00

Abstract: 一种用于进行废弃物的水热处理的废弃物处理系统(100)，其具备用于通过向废弃物接触蒸气来进行水热处理的水热处理装置(10)、用于储存由水热处理的反应物制造的燃料的储存设备(8)、(9)、和用于产生供给于水热处理装置(10)的蒸气的排热回收锅炉(18)，排热回收锅炉(18)按照以下方式构成：利用通过储存设备(8)、(9)中储存的燃料的燃烧产生的燃烧能，使蒸气产生。

公开(公告)号：CN113597347A

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN202080022341.2

申请日：2020-02-04

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 行本敦弘 ,  野间彰 ,  佐藤淳 ,  青木泰道 ,  山口大辉 ,  清木义夫 ,  小林一登 ,  冲野进 ,  涌井哲

IPC: B09B3/00

Abstract: 废弃物处理系统具备：对废弃物进行水热处理的第1水热处理装置、将第1水热处理装置中的第1反应物分离为固体和液体或浆料的第1固液分离装置、对第1反应物的固体进行水热处理的第2水热处理装置、将第2水热处理装置中的第2反应物分离为固体和液体或浆料的第2固液分离装置、和使第1反应物的液体或浆料和第2反应物的液体或浆料发酵的发酵装置。

公开(公告)号：CN105408008B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201480041630.1

申请日：2014-12-08

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 上户龙 ,  冲野进 ,  江田昌之 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: B01D65/00 ,  C02F1/44 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14 ,  G01M99/00

CPC classification number: C02F5/00 ,  B01D61/022 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/10 ,  B01D61/12 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/08 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/246 ,  C02F1/008 ,  C02F1/441 ,  C02F1/66 ,  C02F2101/101 ,  C02F2301/046 ,  B01D2311/2642

Abstract: 本浓缩装置的水垢检测装置具备：作为浓缩装置的反渗透膜装置(13)，其具有作为滤膜的反渗透膜(13a)，该反渗透膜(13a)对至少包含石膏的被处理水(11)浓缩盐分，获得淡水(12)；以及水垢检测部(15)，其设置在从用于排出盐分被浓缩的浓缩水(14)的浓缩水管线(L13)分支出的分支管线(L14)上，具有对上述浓缩水(14)进一步浓缩盐分，获得检测用淡水(16)并且检测浓缩水(14)中有无析出水垢成分的检测膜(15a)。

公开(公告)号：CN105339313B

公开(公告)日：2017-12-22

申请号：CN201480036187.9

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。

公开(公告)号：CN105377771B

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201480038042.2

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统(100)具备：第二脱盐部(210a、210b)，其将包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子以及SO4离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第二脱盐部(210a、210b)的下游侧，具有使石膏从浓缩水中析晶的第二析晶槽(221a、221b)以及向第二析晶槽(221a、221b)供给石膏的晶种的晶种供给部；以及分离部，其在析晶部的下游侧将石膏从浓缩水中分离。

公开(公告)号：CN106659980A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201480081417.3

申请日：2014-09-03

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 樱井秀明 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂 ,  冲野进 ,  仙波范明 ,  杉山茂广 ,  江田昌之 ,  阿部飞太 ,  上户龙 ,  鹈饲展行

IPC: B01D65/10 ,  B01D65/06 ,  C02F1/44

CPC classification number: C02F1/44 ,  B01D61/12 ,  B01D65/02 ,  B01D65/06 ,  B01D65/08 ,  B01D65/10 ,  B01D2315/20 ,  B01D2321/16 ,  C02F1/008 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/445 ,  C02F1/447 ,  C02F2301/043 ,  C02F2303/22

Abstract: 本发明提供一种水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法。本发明的水处理装置的附着物监控装置具备：非透过水管路(L11)，从分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水(15)，所述分离膜装置从被处理水(11)通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水；第1附着物检测部(24A)，设置于从非透过水管路(L11)分支的非透过水分支管路(L12)，且具有第1检测用分离膜(21A)，所述第1检测用分离膜(21A)将分支的非透过水的一部分作为检测液(15a)并将该检测液(15a)分离为检测用透过水(22)和检测用非透过水(23)；附着条件变更装置，变更附着于第1检测用分离膜(21A)的附着物的附着条件；及第1检测用分离液流量测量装置，测量在第1检测用分离膜(21A)中分离的检测用透过水(22)或检测用非透过水(23)的任一者或两者的流量。