-
公开(公告)号:CN104968498B
公开(公告)日:2017-11-21
申请号:CN201380071861.2
申请日:2013-12-10
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: C08J7/047 , C08J2367/00 , C08J2367/02 , C08J2429/04 , C08J2433/08 , C08J2463/02 , C08J2467/02 , C08J2475/06 , Y10T428/31565
Abstract: 本发明提供成型同时转印等的转印用、柔性印刷布线板的制造用、塑料片材制造用的工艺纸用等各种工艺中使用的工艺用膜、且适于特别要求耐热性用途的脱模膜。一种脱模膜,其在聚酯膜的至少一个面具有由含有脱模剂和活性亚甲基嵌段异氰酸酯化合物的涂布液形成的涂布层。
-
公开(公告)号:CN111699092B
公开(公告)日:2023-03-28
申请号:CN201980012433.X
申请日:2019-02-27
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 提供一种新型聚酯薄膜,其为涉及具有经粗糙化的薄膜表面、且用于转印其表面状态的用途的聚酯薄膜,转印时的聚酯薄膜的可视性即识别性优异,而且即使形成脱模层,前述粗糙化状态也不会被平滑化,可以给对象物赋予期待的哑光感。提出了一种聚酯薄膜,其特征在于,其具备如下构成:在具备含有平均粒径为2.0μm以上的颗粒的含颗粒层的聚酯薄膜基材的前述含颗粒层表面形成脱模层而成的构成,所述聚酯薄膜的透射浓度OD值为0.10以上。
-
-
公开(公告)号:CN105492511B
公开(公告)日:2022-05-24
申请号:CN201580001542.3
申请日:2015-08-03
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布膜,其具有优异的表面硬度、耐磨耗性,并且聚酯膜与硬涂层的密合性良好。该涂布膜在聚酯膜的至少一面具有涂布层,该涂布层由含有(甲基)丙烯酸酯化合物、具有(甲基)丙烯酰基的反应性二氧化硅和异氰酸酯系化合物的涂布液形成。
-
公开(公告)号:CN107406729B
公开(公告)日:2021-01-26
申请号:CN201680001711.8
申请日:2016-04-12
Applicant: 三菱化学株式会社
Inventor: 川崎泰史
IPC: C09J7/25 , C09J133/06
Abstract: 本发明提供一种在各种表面保护膜用途等中使用的、鱼眼少、机械强度和耐热性优异、具有良好的粘接特性的粘接膜。该粘接膜在聚酯膜的至少一面具有含(甲基)丙烯酸树脂的粘接层,该(甲基)丙烯酸树脂含有20重量%以上的酯末端具有碳原子数为4以上的烷基的(甲基)丙烯酸酯单元,该粘接层与聚甲基丙烯酸甲酯板的粘接力在1mN/cm以上。
-
-
公开(公告)号:CN111699212B
公开(公告)日:2022-11-18
申请号:CN201980010704.8
申请日:2019-02-15
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 提供:制成柔性印刷电路板等的干膜抗蚀层工序中能作为基材薄膜使用的干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜。一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜,其特征在于,在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层,涂布层中的抗静电剂的含量为45质量%以下,在该涂布层中含有颗粒,相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计,粒径为30~80nm的颗粒AS的面积比率为60~99.9%的范围内,粒径为100~400nm的颗粒AL的面积比率为0.1~15%的范围内,实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
-
公开(公告)号:CN108367559B
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201680055504.0
申请日:2016-05-12
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: B32B27/36 , B32B27/06 , B32B33/00 , B05D7/04 , B05D7/24 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/30 , C08J7/044 , C09D125/06 , C09D129/04 , C09D133/00
Abstract: 本发明提供一种具有优异的防静电性并且防静电性的耐久性优异的涂布膜。该涂布膜在聚酯膜的至少一个面具有由涂布液形成的涂布层,该涂布液含有聚苯乙烯磺酸或其衍生物,还含有粘合剂树脂或交联剂。
-
公开(公告)号:CN111699212A
公开(公告)日:2020-09-22
申请号:CN201980010704.8
申请日:2019-02-15
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 提供:制成柔性印刷电路板等的干膜抗蚀层工序中能作为基材薄膜使用的干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜。一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜,其特征在于,在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层,涂布层中的抗静电剂的含量为45质量%以下,在该涂布层中含有颗粒,相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计,粒径为30~80nm的颗粒AS的面积比率为60~99.9%的范围内,粒径为100~400nm的颗粒AL的面积比率为0.1~15%的范围内,实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
-
公开(公告)号:CN111699092A
公开(公告)日:2020-09-22
申请号:CN201980012433.X
申请日:2019-02-27
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 提供一种新型聚酯薄膜,其为涉及具有经粗糙化的薄膜表面、且用于转印其表面状态的用途的聚酯薄膜,转印时的聚酯薄膜的可视性即识别性优异,而且即使形成脱模层,前述粗糙化状态也不会被平滑化,可以给对象物赋予期待的哑光感。提出了一种聚酯薄膜,其特征在于,其具备如下构成:在具备含有平均粒径为2.0μm以上的颗粒的含颗粒层的聚酯薄膜基材的前述含颗粒层表面形成脱模层而成的构成,所述聚酯薄膜的透射浓度OD值为0.10以上。
-
-
-
-
-
-
-
-
-