公开(公告)号：CN112979408A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN202011473598.8

申请日：2020-12-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范

IPC: C07C15/14 ,  C07C15/20 ,  C07C2/86 ,  C07C5/41 ,  C07C45/74 ,  C07C49/657 ,  C07C45/28 ,  C07C49/784 ,  G03F7/20 ,  G03F1/50

Abstract: 公开了一种化合物、所述化合物的合成方法、包括所述化合物的硬掩模组合物、以及使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。所述化合物具有：缩合或非缩合多环芳族核，具有40个或大于40个碳原子并且在所述核的末端具有多个取代基，其中所述取代基选自经取代或未经取代的C3到C20支链烷基、被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C6到C30芳基、被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C3到C30环烷基、被至少一个经取代或未经取代的C3到C20支链烷基取代的C3到C30杂环基及其组合。使用所述硬掩模组合物制备的硬掩模层对蚀刻气体表现出足够的耐蚀刻性，且因此改善了耐蚀刻性。

公开(公告)号：CN111315724A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201880071999.5

申请日：2018-06-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范

IPC: C07D235/02 ,  C08G73/10 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  C09D4/00 ,  C09D179/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 涉及包括由下述化学式1表示的部分以及取代或者未取代的C6至C30芳香环部分的单体、通过所述单体的缩聚反应形成的聚合物、包括所述单体和/或聚合物的有机膜组合物、以及使用所述有机膜组合物的图案形成方法。[化学式1]化学式1的定义与说明书中记载的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN111295409B

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN201880071469.0

申请日：2018-06-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范

IPC: C08G61/12 ,  C08G61/10 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033 ,  H01L21/02 ,  G03F7/09

Abstract: 涉及包括由下述化学式1表示的部分的聚合物、包括所述聚合物的有机膜组合物以及使用所述有机膜组合物的图案形成方法。在所述化学式1中，X以及Y独立地为包括至少一个杂原子的五边形环基团。#imgabs0#

公开(公告)号：CN111352300A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1] 在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN111295409A

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201880071469.0

申请日：2018-06-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范

IPC: C08G61/12 ,  C08G61/10 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033 ,  H01L21/02 ,  G03F7/09

Abstract: 涉及包括由下述化学式1表示的部分的聚合物、包括所述聚合物的有机膜组合物以及使用所述有机膜组合物的图案形成方法。在所述化学式1中，X以及Y独立地为包括至少一个杂原子的五边形环基团。

公开(公告)号：CN110713588A

公开(公告)日：2020-01-21

申请号：CN201910618657.7

申请日：2019-07-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  梁善暎 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信

IPC: C08G61/10 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物及溶剂，所述聚合物包括经取代的亚联苯基结构单元，其中所述经取代的亚联苯基结构单元包括具有羟基的C6到C30芳基以及具有羟基的C3到C30杂芳基中的至少一者。

公开(公告)号：CN108431691A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680072484.8

申请日：2016-09-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  林栽范 ,  许柳美 ,  姜善惠 ,  文秀贤

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  C08G61/10 ,  C08K5/00

Abstract: 本发明揭示一种有机膜组合物及使用所述有机膜组合物形成图案的方法，有机膜组合物包含有包含由化学式1表示的结构单元的聚合物、由化学式2表示的添加剂以及溶剂。化学式1及化学式2与实施方式中所定义相同。