公开(公告)号：CN107976830B

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN201710997049.2

申请日：2017-10-20

Applicant: 三星电子株式会社 ,  三星SDI株式会社

Inventor： 池尚洙 ,  宋善真 ,  安赞在 ,  崔诚原

IPC: G02F1/1333 ,  C09D183/06

Abstract: 公开塑料基板和包括其的显示装置。所述塑料基板包括：包括聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物的膜和设置在所述包括聚(酰胺‑酰亚胺)的膜的一个表面上的硬涂层，其中所述硬涂层包括通过其能交联的官能团交联的硅氧烷共聚物，并且所述塑料基板具有根据ASTM D3363在约1kg的竖直负荷下测量的大于或等于2H的铅笔划痕硬度、在约350nm‑约750nm波长区域中大于或等于约89％的透射率、和挠曲特性。

公开(公告)号：CN108727588A

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201810359556.8

申请日：2018-04-20

Applicant: 三星电子株式会社 ,  三星SDI株式会社

Inventor： 安赞在 ,  蔡贞厦 ,  张元硕 ,  曹雅罗 ,  池尚洙 ,  崔诚原

IPC: C08G73/14 ,  C08L79/08 ,  C08J5/18

CPC classification number: C08L79/08 ,  C08G73/1007 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/1078 ,  C08G73/14 ,  C08J5/18 ,  C08J2379/08 ,  C08L2203/16 ,  C08L2203/20

Abstract: 本发明涉及聚(酰胺-酰亚胺)共聚物、包括聚(酰胺-酰亚胺)共聚物的制品、和包括其的显示设备。根据实施方式，提供聚(酰胺-酰亚胺)共聚物，包括至少一种四羧酸二酐、至少一种二胺、和至少一种二羧酸或其衍生物的反应产物，其中所述至少一种四羧酸二酐包括由化学式1表示的四羧酸二酐，所述至少一种二胺包括由化学式2表示的二胺，和所述至少一种二羧酸或其衍生物包括由化学式3表示的二羧酸或其衍生物，其中，R1-R3、X1和X2与说明书中定义的相同。化学式1 化学式2NH2-R2-NH2化学式3

公开(公告)号：CN116217451A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211547889.6

申请日：2022-12-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  仁荷大学校产学协力团

Inventor： 安赞在 ,  金明雄 ,  郭允铉 ,  S.安

IPC: C07C329/00 ,  C08F220/18 ,  C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C07C41/52 ,  C07C43/303 ,  C07C381/12 ,  C07C315/00 ,  C07C317/14 ,  C07C303/32 ,  C07C309/12

Abstract: 基于缩醛的化合物、基于缩醛的预聚物、基于缩醛的聚合物、和包括其的光刻胶组合物，所述基于缩醛的化合物由式1表示。其中在式1中，R1‑R10、G、a、和b如详细描述中所定义的，且*表示连接位点。式1

公开(公告)号：CN119431638A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202410962622.6

申请日：2024-07-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  文桢皓 ,  安性炫 ,  安赞在 ,  李在俊 ,  林圭铉 ,  蔡贞厦 ,  崔诚原

IPC: C08F120/20 ,  C08F220/20 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004

Abstract: 提供聚合物、包括所述聚合物的含聚合物的组合物、以及通过使用所述含聚合物的组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元且具有50℃或更低的玻璃化转变温度，其中，在式1中，L11至L13、a11至a13、A11、R11、R12、b12和p1的描述在本说明书中提供。式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN119219812A

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202410841016.9

申请日：2024-06-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金范锡 ,  金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  安赞在 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  崔诚原

IPC: C08F112/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F8/00 ,  G03F7/004

Abstract: 提供聚合物、包括所述聚合物的抗蚀剂组合物、以及使用所述抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元，其中式1中的L11至L14、a11至a13、A11、X11、R11、R12、b12和p的描述提供在说明书中。式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN118259545A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311456231.9

申请日：2023-11-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  南煐敏 ,  安赞在 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  崔诚原 ,  韩盛现

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由下式1表示的有机金属化合物和由下式2表示的重复单元的聚合物。在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L24、a21‑a24、R21、R22、b22、p、和X21的描述参考说明书。 M11(R11)n(OR12)(4‑n) #imgabs0#。

公开(公告)号：CN117430743A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202310286918.6

申请日：2023-03-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金旻相 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  安赞在 ,  蔡贞厦 ,  崔诚原 ,  河旻永

IPC: C08F220/18 ,  C08F8/34 ,  C08F8/00 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供聚合物、包括其的光致抗蚀剂组合物、和使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的重复单元，其中式A111‑和中的B11R+11的细节提供、L11、a11、在本说明书中。式1

公开(公告)号：CN105269845A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510243855.1

申请日：2015-05-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋善真 ,  中岛浩 ,  孙炳熙 ,  安赞在 ,  洪性宇

IPC: B29D7/01

CPC classification number: B29C55/08 ,  B29C55/20 ,  B29C2793/0063

Abstract: 本公开提供了膜制造装置和膜制造方法。该膜制造装置，包括：材料供给单元，供给中间膜；预热单元，预热从材料供给单元供给的中间膜；拉伸单元，拉伸通过预热单元供给的中间膜并对中间膜进行第一热处理；加热处理单元，对从所述拉伸单元供给的所述被拉伸的中间膜进行第二热处理；夹持装置，夹持中间膜的横向端以传送中间膜并施加横向方向的张力到中间膜；切割装置，设置在拉伸单元和热处理单元的至少一个中，其中切割装置通过切割中间膜而将横向端与中间膜的在横向端之间的中心部分分离。