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公开(公告)号:CN103855219B
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201310628274.0
申请日:2013-11-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/78
CPC classification number: H01L29/0692 , B82Y10/00 , H01L21/823431 , H01L21/845 , H01L27/0886 , H01L27/1211 , H01L29/0649 , H01L29/0653 , H01L29/0847 , H01L29/1037 , H01L29/1608 , H01L29/161 , H01L29/165 , H01L29/41791 , H01L29/4966 , H01L29/517 , H01L29/66795 , H01L29/775 , H01L29/7848 , H01L29/785
Abstract: 一种半导体器件可以包括场绝缘层,该场绝缘层包括在第一和第二正交方向延伸的平面主表面和相对于第一和第二正交方向从主表面突出特定距离的突出部分;第一和第二多沟道有源鳍可以在场绝缘层上延伸并可以通过突出部分彼此分离。导电层可以从突出部分的最上表面延伸以横跨位于第一和第二多沟道有源鳍之间的突出部分。
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公开(公告)号:CN107248503A
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN201710212763.6
申请日:2014-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/8234 , H01L27/088
Abstract: 本发明提供一种半导体器件,其包括具有在第一方向上纵向对准的第一鳍、第二鳍和第三鳍的基板。第一沟槽在第一鳍和第二鳍之间延伸,第二沟槽在第二鳍和第三鳍之间延伸。场绝缘材料的第一部分设置在第一沟槽中,场绝缘材料的第二部分设置在第二沟槽中。场绝缘材料的第二部分的上表面在第二沟槽中在第二鳍和第三鳍的最上表面下面的水平处凹进。第一虚设栅极设置在场绝缘材料的第一部分的上表面上,第二虚设栅极至少部分地延伸到第二沟槽中至场绝缘材料的第二部分的上表面。
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