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公开(公告)号：CN102511019B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201080041077.3
申请日：2010-10-06
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09J123/10 , C08L23/10 , C08L23/142 , C08L23/145 , C08L23/18 , C08L2205/02 , C08L2666/06 , C08L2666/08 , C09J153/025 , G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有有适度的柔软度且从掩模剥离后的糊残留少、处理性良好的掩模粘接剂层的薄膜；尤其在于提供一种能够抑制双图案化时的图形的位置偏差的薄膜。本发明的薄膜是具有薄膜框、配置于前述薄膜框的一端面的薄膜的膜和配置于前述薄膜框的另一端面的掩模粘接剂层的薄膜，前述掩模粘接剂层含有相对于100质量份的苯乙烯系树脂(A)为35质量份以上170质量份以下的含有聚丙烯(b1)和丙烯系弹性体(b2)的硬度调整剂(B)，在前述掩模粘接剂层的电子显微镜照片中观察到苯乙烯系树脂(A)的连续相和硬度调整剂(B)的分散相的相分离结构。
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公开(公告)号：CN102971673A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201180033339.6
申请日：2011-06-29
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/48 , G03F1/62 , C09J133/00 , C09J153/00
CPC classification number: G03F1/62 , C08L23/20 , C08L57/02 , C08L91/06 , C08L2205/02 , C09J135/06 , C09J153/025 , G03F1/64
Abstract: 本发明的课题是提供一种具有在进行曝光的温度区域内特别容易塑性变形，自掩模剥离时几乎没有糊残留，操作性良好的掩模粘接剂层，且可抑制图案的位置偏移的防护膜组件。为了解决上述课题，而制成具备防护膜框架14、防护膜12、包含掩模粘接剂的掩模粘接剂层15的防护膜组件10。掩模粘接剂包含tanδ峰值温度为-20℃～30℃的热塑性弹性体（A）100质量份和增粘树脂（B）20质量份～150质量份，热塑性弹性体（A）为选自由苯乙烯系热塑性弹性体、(甲基)丙烯酸酯系热塑性弹性体和烯烃系热塑性弹性体所组成的组中的至少一种，掩模粘接剂的tanδ峰值温度为-10℃～30℃。
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公开(公告)号：CN102511019A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201080041077.3
申请日：2010-10-06
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09J123/10 , C08L23/10 , C08L23/142 , C08L23/145 , C08L23/18 , C08L2205/02 , C08L2666/06 , C08L2666/08 , C09J153/025 , G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有适度的柔软度且从掩模剥离后的糊残留少、处理性良好的掩模粘接剂层的薄膜；尤其在于提供一种能够抑制双图案化时的图形的位置偏差的薄膜。本发明的薄膜是具有薄膜框、配置于前述薄膜框的一端面的薄膜的膜和配置于前述薄膜框的另一端面的掩模粘接剂层的薄膜，前述掩模粘接剂层含有相对于100质量份的苯乙烯系树脂(A)为35质量份以上170质量份以下的含有聚丙烯(b1)和丙烯系弹性体(b2)的硬度调整剂(B)，在前述掩模粘接剂层的电子显微镜照片中观察到苯乙烯系树脂(A)的连续相和硬度调整剂(B)的分散相的相分离结构。
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公开(公告)号：CN115136072A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180015498.7
申请日：2021-03-24
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本公开的目的在于提供一种具有平坦性良好的粘着剂层的防护膜组件、及用于再现性良好地制造该防护膜组件的方法。所述目的通过如下的防护膜组件来达成，所述防护膜组件具有：防护膜组件框、铺设于防护膜组件框的一端面的防护膜以及设置于防护膜组件框的另一端面的粘着剂层，粘着剂层包含树脂组合物的固化物，所述树脂组合物包含固化性聚合物(A)、固化剂(B1)以及固化剂(B2)，固化剂(B1)及固化剂(B2)为固化条件不同的固化剂。
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公开(公告)号：CN102959468B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201180030269.9
申请日：2011-06-29
Applicant: 三井化学株式会社
Inventor： 河关孝志
CPC classification number: G03F1/62
Abstract: 本发明的目的是更简便地制造抑制了由于光刻曝光所致的光劣化或光分解的防护膜。具体而言，提供一种防护膜，是含有非晶质氟聚合物的光刻用防护膜，其含有5～800质量ppm的氟系溶剂。另外，提供一种防护膜的制造方法，其包括：使包含非晶质氟聚合物与氟系溶剂的溶液形成涂布膜的工序A；以及除去上述涂布膜中的氟系溶剂的工序B，在上述工序B中，使上述涂布膜中残留5～800质量ppm的氟系溶剂。
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公开(公告)号：CN102472960A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080031601.9
申请日：2010-07-06
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: G03F1/64 , Y10T428/265 , Y10T428/31511 , Y10T428/31529
Abstract: 本发明的目的在于提供硫酸根离子或脱气的产生少、并且具有适度的膜强度和高的耐药品性的防护膜组件。本发明为支持防护膜的外周的防护膜框架，在所述防护膜框架的表面形成有环氧系树脂的涂装膜，在所述环氧系树脂的涂装膜的红外吸收光谱中，在1450～1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在1200～1275cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为0.5～3，并且在1450～1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在905～930cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为1以上且小于7。
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公开(公告)号：CN1711502B
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200380103262.0
申请日：2003-11-13
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/14 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/62
Abstract: 提供一种薄膜，通过预先从薄膜本身排除会导致生成析出物的物质，即使是采用KrF或是ArF受激准分子激光来进行曝光，在激光照射时、以及在保管中，也可以防止在光罩上形成异物析出物，能够长时间维持正确的图案精度。在薄膜的制造过程中，通过将所使用的构件或是成品加热或是置于减压下等，以预先除去从所使用的构件或是成品发生的物质。
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公开(公告)号：CN1711502A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380103262.0
申请日：2003-11-13
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/62
Abstract: 提供一种薄膜，通过预先从薄膜本身排除会导致生成析出物的物质，即使是采用KrF或是ArF受激准分子激光来进行曝光，在激光照射时、以及在保管中，也可以防止在光罩上形成异物析出物，能够长时间维持正确的图案精度。在薄膜的制造过程中，通过将所使用的构件或是成品加热或是置于减压下等，以预先除去从所使用的构件或是成品发生的物质。
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