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公开(公告)号：CN106662806B
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN201580046947.9
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN109416503A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780038819.9
申请日：2017-07-03
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
IPC: G03F1/62 , C01B32/162
Abstract: 本发明提供EUV透射性进一步高的防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件。此外，提供能够以此进行高精度的EUV光刻的、曝光原版、半导体装置的制造方法。一种曝光用防护膜，是铺设在支撑框的开口部的曝光用防护膜，上述防护膜的厚度为200nm以下，上述防护膜包含碳纳米管片，上述碳纳米管片具备由多个碳纳米管形成的捆，上述捆的直径为100nm以下，上述捆在上述碳纳米管片中进行面内取向。
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公开(公告)号：CN107003602A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201680003768.1
申请日：2016-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 防护膜组件存在如下的问题：在制造过程中由于各种各样的原因而被尘埃等污染，特别是在修整时、对防护膜组件膜进行各种加工时，尘埃等附着的风险高。对此，本发明提供一种使尘埃等的附着减少的EUV用防护膜组件的制造方法。一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整基板，以及在修整后至少去除基板的一部分。此外，在去除基板的一部分之前，至少去除附着于防护膜组件膜表面的粒子。
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公开(公告)号：CN105189623A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480019213.7
申请日：2014-04-01
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09D179/08 , B29C37/0025 , B29C41/02 , B29C41/46 , B29K2079/08 , B29K2995/0018 , B29K2995/0097 , B29L2007/008 , B29L2031/3475 , C08G73/1064 , C08G73/1071 , C08G73/1078 , C08G73/1082 , C08G73/14 , C08J5/18 , C08J2379/08
Abstract: 本发明的课题在于提供一种将厚度方向的相位差Rth控制在所期望的范围、且透明性高的聚酰亚胺膜、及用于获得该聚酰亚胺膜的聚酰胺酸、清漆。为了解决上述课题，制成一种聚酰亚胺膜，其包含使四羧酸二酐及二胺反应而成的聚酰亚胺，(a)厚度方向的相位差Rth每10μm厚度为-5nm以上100nm以下，(b)波长为400nm的光线透射率为80％以上，(c)雾度为3％以下，且(d)玻璃化转变温度为250℃以上。
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公开(公告)号：CN117270314A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311217958.1
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
IPC: G03F1/62 , G03F7/20 , C01B32/168 , C01B32/17 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法。一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116609996A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310651908.8
申请日：2017-07-03
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 本发明提供EUV透射性进一步高的防护膜及其组件和组件框体、以及组件制造方法。此外，提供能够以此进行高精度的EUV光刻的、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法。本发明的防护膜是铺设在支撑框的开口部的曝光用防护膜，上述防护膜的厚度为200nm以下，上述防护膜包含碳纳米管片，上述碳纳米管片具备由多个碳纳米管形成的捆，上述捆的直径为100nm以下，上述捆在上述碳纳米管片中进行面内取向，上述防护膜的碳纳米管片的膜厚方向的峰强度与碳纳米管片的面内方向的峰强度之比RB为0.40以上。
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公开(公告)号：CN115398334A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180027875.9
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
Abstract: 一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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公开(公告)号：CN111919171A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022551.9
申请日：2019-03-15
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种支撑框，其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔，粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框，具备：贯通孔，其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔；以及过滤器，其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部，并且从上述防护膜离开地配置。
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公开(公告)号：CN105073851B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201480019214.1
申请日：2014-04-01
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08G73/1067 , B32B3/08 , B32B27/281 , B32B2457/20 , C08G73/1071 , C08G73/126 , C08J5/18 , H01L27/323 , H01L51/0035 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的课题是提供一种厚度方向的相位差小、且线膨胀系数低的聚酰亚胺膜、和用于获得该聚酰亚胺膜的聚酰胺酸或清漆。为了解决上述课题，而提供一种聚酰亚胺膜，其包含使二胺成分和四羧酸二酐成分反应而成的聚酰亚胺，且线膨胀系数在100℃～200℃为35ppm/K以下，厚度方向的相位差的绝对值在厚度为10μm时为200nm以下，玻璃化温度为260℃以上，总透光率为85％以上。
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公开(公告)号：CN106796391A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580046926.7
申请日：2015-09-18
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：配置有防护膜的第1框体；支持上述第1框体的第2框体；贯通上述第1框体的贯通孔；以及在上述第1框体的配置有上述防护膜的面侧覆盖上述贯通孔的过滤器。上述贯通孔可以贯通上述防护膜，上述过滤器可以配置在上述防护膜上。此外，上述过滤器可以与上述防护膜相邻地配置在上述第1框体上。
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