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公开(公告)号：CN109963812B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201780064070.5
申请日：2017-10-25
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种菱沸石型沸石，其即使涂布于蜂窝状物等基材，也不易剥离，发挥优异的耐久性。本发明涉及具备下述(A)～(D)的基材涂布用的菱沸石型沸石。(A)含有Si、Al；(B)SiO2/Al2O3摩尔比为5＜SiO2/Al2O3＜10的范围；(C)平均结晶尺寸为0.05μm＜平均结晶尺寸＜1μm的范围；(D)在利用27Al‑NMR测定的光谱中，该光谱中的全部的峰的面积(ATotal)与归属于除4配位Al以外的Al的峰的面积(ANFA)的比率(ANFA/ATotal)为20％≤(ANFA/ATotal)≤70％的范围。
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公开(公告)号：CN109963812A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780064070.5
申请日：2017-10-25
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种菱沸石型沸石，其即使涂布于蜂窝状物等基材，也不易剥离，发挥优异的耐久性。本发明涉及具备下述(A)～(D)的基材涂布用的菱沸石型沸石。(A)含有Si、Al；(B)SiO2/Al2O3摩尔比为5＜SiO2/Al2O3＜10的范围；(C)平均结晶尺寸为0.05μm＜平均结晶尺寸＜1μm的范围；(D)在利用27Al‑NMR测定的光谱中，该光谱中的全部的峰的面积(ATotal)与归属于除4配位Al以外的Al的峰的面积(ANFA)的比率(ANFA/ATotal)为20％≤(ANFA/ATotal)≤70％的范围。
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公开(公告)号：CN106366702B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201610687192.7
申请日：2012-12-21
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: C09D7/62 , C01P2006/22 , C08K9/06 , C09C1/00 , C09C1/0096 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/3607 , C09C1/3623 , C09C1/3676 , C09C1/3684 , C09C1/3692 , C09C1/40 , C09C3/006 , C09C3/041 , C09C3/063 , C09C3/10 , C09C3/12 , C09D17/00 , C09D201/00 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过掺入到用于形成涂膜的涂料，与作为涂布涂膜的基质成分的有机硅化合物或树脂的反应性优良，可表现出优良涂膜性能的表面处理微粒。一种低聚物修饰微粒，它是无机氧化物微粒的表面被来源于下式(1)所表示的金属醇盐的低聚物所修饰的低聚物修饰微粒，RnM1(OR')z‑n(1)M1：选自Si、Ti、Zr、Al的1种以上的元素，R、R'：选自碳数1～8的烷基、芳基或者乙烯基的一种以上的基，n：0～(z‑2)的整数，z：M1的价数，其特征在于，该低聚物的聚合度为3以上，且该低聚物的重均分子量在1000～10000的范围内。
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公开(公告)号：CN106029798B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201580008556.8
申请日：2015-02-12
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D201/00 , C09D5/02 , C09D7/61
CPC classification number: C09D5/028 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08K3/22 , C08K3/2279 , C08K3/36 , C08K2003/2227 , C08K2003/2231 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C08K2003/2296 , C09D5/006 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D7/70 , C09D201/00
Abstract: 本发明的用于形成透明被膜的涂布液中，无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。涂布液的全部固体成分浓度为0.03～70重量％，涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(CP)以固体成分计在0.0009～56重量％的范围内，树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计在0.006～68重量％的范围内。另外，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me2O，Me＝Li、Na、K)计在1000ppm以下。即使将该涂布液涂布在基材上之后对基材进行拉伸、或是一边拉伸基材一边进行涂布，也能够不出现斑点、膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。
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公开(公告)号：CN109155246A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780024719.0
申请日：2017-04-05
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C01B33/149 , C01B33/18 , C09K3/14
Abstract: 本发明的目的在于，提供即使是二氧化硅膜、Si晶圆、难加工材料也可以以高速进行研磨，同时可以达成高面精度(低擦痕等)，可以优选用于半导体基板、布线基板等半导体装置的表面的研磨的二氧化硅系复合微粒分散液。通过含有二氧化硅系复合微粒的二氧化硅系复合微粒分散液来解决上述问题，所述二氧化硅系复合微粒在将非晶质二氧化硅作为主要成分的母颗粒的表面上具有将结晶性二氧化铈作为主要成分的子颗粒、且具备下述特征。前述二氧化硅系复合微粒的二氧化硅与二氧化铈的质量比为100:11～316。前述二氧化硅系复合微粒供于X射线衍射时，仅检出二氧化铈的结晶相。前述二氧化硅系复合微粒供于X射线衍射进行测定得到的前述结晶性二氧化铈的微晶粒径为10～25nm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105102123B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201480019501.2
申请日：2014-03-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: B01J32/00 , B01J27/19 , B01J35/10 , B01J37/02 , B01J37/04 , B01J37/20 , C01B33/00 , C01B35/10 , C01G23/00 , C10G45/08
CPC classification number: B01J27/19 , B01J21/063 , B01J21/12 , B01J23/85 , B01J27/188 , B01J35/002 , B01J35/1019 , B01J35/1042 , B01J35/1061 , B01J37/0009 , B01J37/036 , B01J37/20 , B01J2523/00 , C01B33/26 , C01B35/10 , C01G23/003 , B01J2523/305 , B01J2523/31 , B01J2523/47 , B01J2523/51 , B01J2523/68 , B01J2523/845 , B01J2523/41
Abstract: 一种包含氧化铝系复合氧化物的氢化处理催化剂用载体，通过透射式傅里叶变换红外吸收光谱测定装置(FT‑IR)测定的归因于酸性OH基的该载体每单位表面积的吸光度(OHAS)在0.04～0.10m‑2的范围内，通过前述FT‑IR测定的归因于碱性OH基的该载体每单位表面积的吸光度(OHBS)在0.01～0.02m‑2的范围内。
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公开(公告)号：CN104011148B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201280063294.1
申请日：2012-12-21
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09C3/10 , C09C1/00 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/40 , C09C3/12 , C09D7/12 , C09D17/00 , C09D201/00
CPC classification number: C09D7/62 , C01P2006/22 , C08K9/06 , C09C1/00 , C09C1/0096 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/3607 , C09C1/3623 , C09C1/3676 , C09C1/3684 , C09C1/3692 , C09C1/40 , C09C3/006 , C09C3/041 , C09C3/063 , C09C3/10 , C09C3/12 , C09D17/00 , C09D201/00 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过掺入到用于形成涂膜的涂料，与作为涂布涂膜的基质成分的有机硅化合物或树脂的反应性优良，可表现出优良涂膜性能的表面处理微粒。一种低聚物修饰微粒，它是无机氧化物微粒的表面被来源于下式(1)所表示的金属醇盐的低聚物所修饰的低聚物修饰微粒，RnM1(OR')z‑n(1)M1：选自Si、Ti、Zr、Al的1种以上的元素，R、R'：选自碳数1～8的烷基、芳基或者乙烯基的一种以上的基，n：0～(z‑2)的整数，z：M1的价数，其特征在于，该低聚物的聚合度为3以上，且该低聚物的重均分子量在1000～10000的范围内。
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公开(公告)号：CN107431202A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680013716.2
申请日：2016-03-04
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 满足下述(1)～(5)的条件的非水电解质二次电池用的正极活性物质。(1)包含Li、Mn、Ni，具有尖晶石结构。(2)Ni与Mn的摩尔比(Ni/Mn)处于0.10～0.43的范围。(3)Li与Mn的摩尔比(Li/Mn)处于0.70～1.80的范围。(4)X射线衍射图案中，在2θ＝19.7～22.5°的范围具有峰。(5)在将正极活性物质按照规定的方法制成半电池时测定的初次的dQ/dV曲线(放电)中，在下述电压V1具有至少1个峰，在V2的范围具有至少2个峰。V1＝2.72～2.90[V]V2＝4.50～4.80[V]。
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公开(公告)号：CN107428544A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680019610.3
申请日：2016-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/146 , B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即便是二氧化硅膜、Si晶片、难以加工的材料也可以高速研磨，同时可以实现高表面精度(低划痕等)，进而由于不含杂质，因此能够在半导体基板、布线基板等的半导体器件的表面的研磨中优选使用的二氧化硅系复合微粒分散液。本发明通过一种二氧化硅系复合微粒分散液来解决上述课题，其包含二氧化硅系复合微粒，该二氧化硅系复合微粒在以无定形二氧化硅为主要成分的母颗粒的表面上结合有以结晶性二氧化铈为主要成分的子颗粒，进而具有覆盖这些颗粒的二氧化硅覆膜，且具备下述特征。母颗粒与子颗粒的质量比为特定范围。当供于X射线衍射时，仅检测到二氧化铈的结晶相。结晶性二氧化铈的(111)面(2θ＝28度附近)的微晶直径为特定范围。Na等的含有率低。二氧化硅覆膜的Si原子数％相对于Ce原子数％的比为特定范围。
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公开(公告)号：CN106660034A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580032054.9
申请日：2015-05-22
Applicant: 沙特阿拉伯石油公司 , 一般财团法人JCCP国际石油气体合作机关 , 日挥触媒化成株式会社
IPC: B01J35/10 , C10G11/05 , C01B37/00 , B01J29/89 , C01B39/24 , C10L1/06 , B01J21/12 , B01J21/16 , C10G11/18
CPC classification number: B01J29/89 , B01J21/12 , B01J21/16 , B01J29/005 , B01J35/1023 , B01J2229/183 , B01J2229/186 , B01J2229/20 , B01J2229/36 , B01J2229/37 , B01J2229/42 , C01B39/065 , C01B39/24 , C10G11/05 , C10G11/18 , C10G2400/20 , C10L1/06 , C10L2270/023
Abstract: 本发明涉及一种用于流化催化裂化烃油的催化剂，其含有骨架取代的沸石‑1，其中锆原子和/或铪原子形成超稳定Y型沸石的骨架的一部分。
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