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公开(公告)号：CN116300328A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310063548.X
申请日：2023-01-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种激光直写光源和激光直写装置，包括控制器、激光器组、单模光纤组以及光学端口，所述激光器组包括多个激光器且所有所述激光器均电连接至所述控制器，所述单模光纤组包括与所述激光器数量相同的单模光纤，所述单模光纤的一端连接至对应的所述激光器，所述单模光纤的另一端连接至所述光学端口。激光器组通过单模光纤组在光学端口处形成了激光点阵。控制器对每个激光器分别控制能量大小和通断，由此控制光学端口中激光点阵的形状和各个激光点的能量大小，从而更加方便地进行激光直写。各个激光点是由各个激光器独立产生，激光点之间不需要进行匹配，因此激光点阵的控制和改变也就特别容易和精准，在进行直写过程中也就更加稳定。
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公开(公告)号：CN116300310A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310020668.1
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的方法，通过在光刻胶单体中加入的光引发剂7‑二乙基氨‑3‑(2‑噻吩基)香豆素(DETC)，利用边缘光抑制效应(PPI)，可以实现高精度激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，及其存在的本征受激辐射效应，还可以实现超分辨受激辐射损耗显微成像(STED)。本发明利用DETC这些特性，在同一个装置中同时构建激光直写系统和显微成像系统，同时实现高精度刻写与超分辨成像。相比于掺杂荧光染料的方式，简化了光刻胶的成分，在一个系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，将刻写系统中的抑制光光路复用于成像系统中的损耗光路，有效简化了系统。本发明还包括一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的装置。
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公开(公告)号：CN115980999A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310243262.X
申请日：2023-03-14
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种基于光学系统的光束自动校准装置及方法，通过运用前置运算放大器、高精度模数转换芯片ADC电路采集探测器的信号，经过模数转换后在逻辑芯片进行算法实现；其后逻辑芯片再输出一组新的信号，经过后置运算放大器、高精度数模转换芯片DAC、变压器等处理，再输送至后端设备，可实现光束校准。本发明使用当前性能较高的集成电路，对光束校准测量的精度把控更精准，响应速度较快，整个装置低成本、低功耗，算法植入后全自动运作，并且可通过上位机的软件实时关注装置的工作状态。本发明采用独立芯片来采集信号、处理模数、数模转换，或者是算法运行，无论从精度上、或者是运行效率上，都高于传统设计。
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公开(公告)号：CN113909698B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202111248661.2
申请日：2021-10-26
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，包括步骤：1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；2)基于多通道声光调制器输出刻写波形，首先只输出第Nbeams束光的刻写波形；3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形；4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形；5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
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公开(公告)号：CN115839936A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211589202.5
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于锁相探测的结构光照明超分辨显微成像重构方法，包括：1)获取不同相位、不同方向的结构光照明原始图像；2)估算出条纹的调制频率和相位参数；3)进行锁相解调提取出样品的在焦信息并滤除离焦信息；4)将锁相探测得到的结果作为原始输入进行传统超分辨重构，重建出具有层切能力、高信背比的超分辨图片，本发明在保证重构的图片具有较高分辨率的同时，能有效去除离焦的背景信息干扰。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115327867B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
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公开(公告)号：CN115343263A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210932851.4
申请日：2022-08-04
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种集成光学超振激发和阵列探测接收的超分辨显微方法及系统，利用振幅、相位和偏振调制照明光束，获得由中心焦斑和旁瓣环带构成的光学超振场；通过光束二维扫描实现中心焦斑和旁瓣环带的双模式调制照明，激发不同空间频带范围的荧光信号；利用阵列探测器接收被调制的荧光信号；根据荧光信号在激发和探测端的时空调制特性，通过算法重构双模式调制照明产生的两幅图像，最后重构出光学超振调制激发对应的超分辨图像。本发明利用低强度双模式光学超振激发，由荧光线性效应提供图像对比度，可以更好适用于长时程、多色、快速和超分辨活细胞成像。
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公开(公告)号：CN115248538A
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN114755884B
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202210663716.4
申请日：2022-06-14
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种有机‑无机杂化飞秒激光直写光刻胶，按质量百分比计，由4‑6wt%的酸A、2‑3wt%的单体B、2‑3wt%硫醇化合物C、0.2‑1.0wt%光引发剂D及87‑91.8wt%溶剂E组成。酸A为锆基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或两者的混合物，作为飞秒激光直写光刻胶的固态成膜树脂，可以在光刻胶涂膜后将光刻胶固态化，由此降低加工过程中活性种的扩散以提高精度和分辨率，同时提升光刻胶的力学强度，降低体积收缩率等。所述硫醇化合物C与酸A、单体B可以通过巯基烯点击反应高效快速的交联形成网络结构。同时硫醇化合物C具有抗氧阻聚的作用，可高效地的提升飞秒激光直写的速度。
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公开(公告)号：CN115046744A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210975776.X
申请日：2022-08-15
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于SLM生成光斑点阵的焦面检测及调倾方法与装置，所述方法在SLM上加载n×n圆形点阵，入射光束依次经过三角棱镜第一反射面、SLM、三角棱镜第二反射面、二分之一波片、偏振分束镜、四分之一波片、透镜、物镜，入射到样品表面；经样品表面反射后，反射光依次经过物镜、透镜、四分之一波片和偏振分束镜后，分束为第一光束和第二光束；其中，第一光束入射到第一CCD相机进行成像，第二光束入射到第二CCD相机进行成像，记录两个CCD相机上的光斑点阵的直径；基于两光斑点阵的直径的差值计算离焦量，进而获得焦点位置；并计算样品的倾斜度，从而对焦面进行调倾。本发明解决焦面倾斜问题，装置简单，成本低。
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