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公开(公告)号：CN100495215C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN101290371A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810123710.8
申请日：2008-05-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述透明基底和介质光栅之间，设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层，提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上，采用纳米压印技术加工制作，制作过程简便易操作，不需要刻蚀工艺，降低了加工成本。
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公开(公告)号：CN101030027A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039275.6
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有全息柱面透镜结构的投影屏，包括屏幕主体，设置于屏幕主体一侧表面的菲涅尔透镜层，设置于屏幕主体另一侧表面的全息柱面透镜阵列层，其特征在于：所述全息柱面透镜阵列上附带有散斑信息结构，所述散斑信息结构是以经过全息柱面透镜和散斑屏的出射光为物光，与参考光干涉成像获得的，全息柱面透镜阵列及附带于其上的散斑信息结构由其制备光路条件限定。本发明采用全息柱面透镜与散斑屏相结合，控制出射光线竖直和水平方向的视场，从而压缩竖直方向视场、增大水平方向视场，获得了高亮度、大视场的全息投影屏，且可方便地实现三维投影。
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公开(公告)号：CN101016634A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200610155974.2
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作，不需要进行平版卷绕拼接，不会产生拼缝，且可以获得高硬度的浮雕微结构，因而特别适用于高速连续滚动式模压复制；同时，金属光栅深度可以得到控制。
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公开(公告)号：CN1994178A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200610155979.5
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种激光全息金银币的制造方法，首先制作激光全息模具，再通过冷冲模方式将模具表面的全息微结构转移到金银币表面，形成激光全息金银币，其特征在于：所述激光全息模具采用冷作模具钢制作，表面硬度在洛氏硬度48～65HRC之间，在所述冷作模具钢的表面通过刻蚀方法制备所述全息微结构。本发明通过刻蚀方法制备激光全息模具，简化了工艺过程，可以批量制作全息金银币(章)，降低了成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110795968B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN201810869947.4
申请日：2018-08-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G06V40/13
Abstract: 本发明涉及生物特征识别技术，特别涉及用于获取指纹图像的装置。按照本发明一个方面的用于获取指纹图像的装置包含：第一光波导；设置于所述第一光波导下方的光源单元，其配置为提供以一定角度入射到所述第一光波导的平行光束，所述角度设定为当所述第一光波导的上表面未有物体覆盖时，使得所述平行光束在所述第一光波导内不满足全反射条件；设置于所述第一光波导表面的第一光耦合输出单元，其配置为当所述第一光波导的上表面有物体覆盖时，将所述第一光波导内发生全反射的光束引导到所述第一光波导外部并进行成像；以及设置于所述第一光耦合输出单元的成像位置处的图像接收单元。
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公开(公告)号：CN118057242A
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN202211445687.0
申请日：2022-11-18
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写方法、控制设备及激光直写系统，属于激光直写光刻技术领域，该方法包括：设定光刻的灰阶等级N、扫描像素步距M、灰阶曝光循环次数Q；将待加工的灰阶图像划分为复数个等宽度的图像条带；设定曝光时滑动提取窗口的大小；对于每个图像条带，根据N、M和Q进行滑动提取窗口灰阶提取和数据重组，得到新的图像条带；运动平台在Y方向上完成一个新的图像条带曝光后，在X方向移动一个移动步距XStep，移动步距XStep为图像条带宽度W与光学分辨率R的乘积，并对下一个新的图像条带进行曝光，直至完成对所有新的图像条带的曝光，X方向与Y方向正交；可以提高扫描速度、激光直写效率，实现灰阶的额外灰阶曝光循环次数。
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公开(公告)号：CN113296364B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202010113358.0
申请日：2020-02-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻控制方法、装置及存储介质，属于微纳加工技术领域，该方法包括：获取光刻任务；对光刻任务中的所有光刻网点进行分层处理得到n层光刻网点；对每层光刻网点进行区域划分，得到区域内的光刻网点数据；按照每层每个区域内的光刻网点数据进行光刻，直至完成光刻任务；判断是否还有下一个光刻任务，若无，则结束；若有则再次执行光刻任务；可以解决拼接平台自身的定位精度误差无法消除，导致光刻后的目标出现周期暗纹、区域不均的现象的问题；由于不同层光刻网点所属的层区域存在交集，因此，对于需要拼接光刻的部分通过不同层的交集部分可以重新进行振镜扫描，实现拼接部分的过渡，减少平台自身定位精度带来的误差影响。
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公开(公告)号：CN112799286B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN113495432A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
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