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公开(公告)号：CN102175133A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN201110046521.7
申请日：2011-02-25
Applicant: 清华大学
IPC: G01B7/06
CPC classification number: G01B7/10 , G01B1/00 , G01B7/105 , G01R1/00 , H01L2221/00
Abstract: 本发明为一种全局金属膜厚度测量装置，包括底座，底座上固定有转台和直线单元，转台包括定子部分和转子部分，定子部分固定在底座上，转子部分上固定工作台，工作台内有真空管路，转子部分的旋转接头与所述真空管路相连，直线单元包括导轨和可沿导轨滑动的滑块，导轨固定在底座上，滑块上固定连接水平的悬臂，悬臂的另一端设置有测头，测头内设电涡流探头；滑块也可以与悬臂铰接，滑块上固定电磁铁，悬臂一端下方固定铁块，另一端设置测头，测头内设电涡流探头和竖直的通气孔及节流孔，通气孔和节流孔同轴相连后贯通测头，本发明能够实现探头与被测工件之间提离高度的自适应，不受设备机械运动精度的影响；能够实现探头与被测工件之间较小的提离高度，而探头与工件不会接触。
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公开(公告)号：CN102049732A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010266786.3
申请日：2010-08-30
Applicant: 清华大学
CPC classification number: G01B7/06 , B24B37/013 , B24B49/105 , G01B7/105 , G06F17/10
Abstract: 一种硅片边缘膜厚测量方法属于化学机械抛光膜厚测量技术领域。通过本发明中的数学模型可以对边缘膜厚测量曲线进行修正，使其尽可能与真实边缘膜厚曲线一致，使用本发明后测量得到的边缘膜厚值可作为真实边缘膜厚值。本发明解决了电涡流测量硅片膜厚存在的所测边缘膜厚失真的问题，优点在于不用改变硬件设施，只需对数学模型进行修改；使用时，仅需进行简单的离线标定，不会影响化学机械抛光的产量。
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公开(公告)号：CN101972978A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN201010266634.3
申请日：2010-08-30
Applicant: 清华大学
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种新型化学机械抛光装置。该装置的结构包括：由电机驱动旋转的抛光盘，固定于抛光盘上方的抛光液输送口，位于抛光盘上方的抛光头，以及安装于抛光头下表面具有曲线轮廓的抛光垫；待抛光的硅片安置在抛光盘上，并随抛光盘旋转，抛光液输出口直接向硅片输送抛光液，抛光头带动抛光垫一起做高频振动，对硅片进行抛光。本发明中，抛光盘的尺寸仅为旋转式化学机械抛光机的一半，材料去除率能达到旋转式化学机械抛光机的40％以上，而设备的占地面积小，仅为旋转式化学机械抛光机的1/4，面积利用率高，能够提高单位面积下设备的产量。
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公开(公告)号：CN210456537U
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201921171357.0
申请日：2019-07-24
Applicant: 清华大学天津高端装备研究院 , 清华大学
IPC: B65G47/90
Abstract: 本实用新型提供了一种保温砖自动插板系统，包括机械手、来料平台、转运平台、保温板自动插入设备和保温板自动排序设备；来料平台上设有运送保温砖的托盘，转运平台上设有装有保温砖的转运架，机械手用于在来料平台和转运平台之间进行保温砖的转运；转运架上方设有保温板自动插入设备，保温板自动插入设备包括插板模具，插板模具上方设有多个第一气缸；保温板自动插入设备的一侧设有保温板自动排序设备，保温板自动排序设备包括可移动到插板模具上方的保温板排序模具板。本实用新型配合使用插板模具和气缸，在插板过程中采用多组气缸定距插入的方式，实现保温板自动插入至保温砖内，极大的提高生产效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN202479968U
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201220059903.3
申请日：2012-02-21
Applicant: 清华大学
IPC: B24B53/017
Abstract: 本实用新型公开了一种抛光垫修整头和具有该抛光垫修整头的抛光垫修整器。所述抛光垫修整头包括：环形固定件；导向轴，导向轴的上端穿过环形固定件，其中导线轴内设有第一通气孔，第一通气孔的第一端和第二端均与外界连通；环形安装件；柔性环，柔性环的内端密封地设在环形固定件上且柔性环的外端密封地设在环形安装件上；环形弹性盘，环形弹性盘的内端密封地设在导向轴上且环形弹性盘的外端密封地设在环形安装件上；和夹持盘，夹持盘固定在环形安装件的下表面上且通过球铰链与导向轴的下端相连，其中球铰链的球部设在夹持盘的上表面上且球铰链的杆部与导向轴的下端相连。通过利用根据本实用新型实施例的抛光垫修整头，可以大大地提高修整效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN201833275U
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201020283455.6
申请日：2010-08-05
Applicant: 清华大学
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 本实用新型公开一种化学机械抛光机，包括：工作平台，抛光盘，修整器和抛光液输送装置，装卸平台，抛光头，机械手，和抛光头支架，所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽，所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸，所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板，其中水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端，所述悬臂端伸到所述抛光盘的上方。本实用新型的化学机械抛光机结构简单，加工方便，生产效率高。本实用新型还提出具有上述化学机械抛光机的化学机械抛光设备。
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公开(公告)号：CN202178243U
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN201120298531.5
申请日：2011-08-16
Applicant: 清华大学
IPC: H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本实用新型公开了一种用于晶圆交换装置的晶圆托架和具有该晶圆托架的晶圆交换装置。所述用于晶圆交换装置的晶圆托架包括本体，所述本体的上表面上设有凹槽，所述本体设有通孔，所述通孔的第一端与所述凹槽相连通且所述通孔的第二端适于与负压源相连通。根据本实用新型实施例的晶圆托架可以快速地卸载晶圆，从而大大地节省晶圆的卸载时间、大大地提高工作效率。
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公开(公告)号：CN201833261U
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201020283470.0
申请日：2010-08-05
Applicant: 清华大学
IPC: B24B29/00
Abstract: 本实用新型公开一种化学机械抛光机的抛光头支架，包括：水平基板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽，所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸；和支撑侧板，所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板，其中所述水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端。根据本实用新型的抛光头支架，结构简单，易于加工，成本低，并且安装精度要求降低，使用该抛光头支架的化学机械抛光机控制精度要求降低，提高了抛光效率。
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公开(公告)号：CN201946573U
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201020518137.3
申请日：2010-09-03
Applicant: 清华大学
Abstract: 本实用新型公开了一种用于晶圆的刷洗装置，包括机架；支撑部件，所述支撑部件设置在所述机架上以支撑晶圆；清洗液供给单元，所述清洗液供给单元设置在机架上用于向晶圆的表面施加清洗液；以及一对刷子，所述一对刷子包括刷子主体和设置于刷子主体表面上的多个毛束，且所述一对刷子可旋转地设置在所述机架上以将晶圆夹在它们之间刷洗晶圆表面同时在晶圆上产生驱动所述晶圆转动的扭矩。根据本实用新型实施例的用于晶圆的刷洗装置，由毛刷对晶圆产生的扭矩驱动晶圆转动，因此不需另设晶圆驱动装置，且结构简单可靠，降低了设备设计制造成本。而且由于刷子旋转、晶圆转动和支撑滚轮转动之间是“柔性”的随动关系，不易发生因转动失衡而碎片的情况。
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