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公开(公告)号：CN108710025A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201810502299.9
申请日：2016-01-22
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: G01R23/02 , B24B37/005
Abstract: 本发明公开了基于波形匹配的石英晶片研磨控制与测频方法，能在石英晶片研磨过程中稳定实时地测量从5M到70MHZ的频率；本系统可以显示晶片研磨生产过程中的各种状态并提出建议，在线测频过程中实时监控石英晶片研磨状态，若出现异常情况实时关停研磨机，防止超频事件的发生，用户可根据触摸屏上显示的这些状态有效提高生产效率；加入“跳频约束策略”彻底解决ALC系统“在某些频段发生测频值跳变”的问题；提供晶片研磨实时平均频率、研磨速率和散差等多样化统计参数，为更换研磨砂和维修研磨盘面提供科学依据，解决ALC系统“无法监控研磨机状态”的缺陷。
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公开(公告)号：CN108705442A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201810500285.3
申请日：2016-01-22
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: B24B37/005
Abstract: 本发明公开了基于波形优化匹配的石英晶片研磨控制方法，能在石英晶片研磨过程中稳定实时地测量从5M到70MHZ的频率；本系统可以显示晶片研磨生产过程中的各种状态并提出建议，在线测频过程中实时监控石英晶片研磨状态，若出现异常情况实时关停研磨机，防止超频事件的发生，用户可根据触摸屏上显示的这些状态有效提高生产效率；加入“跳频约束策略”彻底解决ALC系统“在某些频段发生测频值跳变”的问题；提供晶片研磨实时平均频率、研磨速率和散差等多样化统计参数，为更换研磨砂和维修研磨盘面提供科学依据，解决ALC系统“无法监控研磨机状态”的缺陷。
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公开(公告)号：CN105666310B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201610045507.8
申请日：2016-01-22
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: B24B37/005
Abstract: 本发明公开了一种基于波形匹配方法的石英晶片研磨控制方法，能在石英晶片研磨过程中稳定实时地测量从5M到70MHZ的频率；本系统可以显示晶片研磨生产过程中的各种状态并提出建议，在线测频过程中实时监控石英晶片研磨状态，若出现异常情况实时关停研磨机，防止超频事件的发生，用户可根据触摸屏上显示的这些状态有效提高生产效率；加入“跳频约束策略”彻底解决ALC系统“在某些频段发生测频值跳变”的问题；提供晶片研磨实时平均频率、研磨速率和散差等多样化统计参数，为更换研磨砂和维修研磨盘面提供科学依据，解决ALC系统“无法监控研磨机状态”的缺陷。
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公开(公告)号：CN107877355A
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201711377317.7
申请日：2017-12-19
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: B24B37/013 , B24B37/005 , B24B49/10
CPC classification number: B24B37/013 , B24B37/005 , B24B49/10
Abstract: 本发明公开了一种高可靠的研磨机关停控制装置，包括测频系统研磨机控制电路模块、连接口、两个串联的研磨机关停控制器、研磨机；所述测频系统控制电路模块与两个串联的研磨机关停控制器通过连接口连接，所述研磨机与两个串联的研磨机关停控制器通过电性连接；所述研磨机关停控制器为固态继电器或光电耦合器；所述测频系统控制电路模块包括研磨机控制输出自检模块、研磨机控制自检模块和关停研磨机控制模块；本发明提供了一种可靠性高、结构简单合理、制作方便、基于双路控制和带自检功能的适用于石英晶片研磨在线测频系统关停研磨机的控制装置及其方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105666310A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201610045507.8
申请日：2016-01-22
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: B24B37/005
CPC classification number: B24B37/005
Abstract: 本发明公开了一种基于波形匹配方法的石英晶片研磨控制方法，能在石英晶片研磨过程中稳定实时地测量从5M到70MHZ的频率；本系统可以显示晶片研磨生产过程中的各种状态并提出建议，在线测频过程中实时监控石英晶片研磨状态，若出现异常情况实时关停研磨机，防止超频事件的发生，用户可根据触摸屏上显示的这些状态有效提高生产效率；加入“跳频约束策略”彻底解决ALC系统“在某些频段发生测频值跳变”的问题；提供晶片研磨实时平均频率、研磨速率和散差等多样化统计参数，为更换研磨砂和维修研磨盘面提供科学依据，解决ALC系统“无法监控研磨机状态”的缺陷。
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公开(公告)号：CN105588980A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201610044815.9
申请日：2016-01-22
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: G01R23/02
CPC classification number: G01R23/02
Abstract: 本发明公开了一种基于波形匹配方法的石英晶片研磨在线测频的方法，能在石英晶片研磨过程中稳定实时地测量从5M到70MHZ的频率；本系统可以显示晶片研磨生产过程中的各种状态并提出建议，在线测频过程中实时监控石英晶片研磨状态，若出现异常情况实时关停研磨机，防止超频事件的发生，用户可根据触摸屏上显示的这些状态有效提高生产效率；加入“跳频约束策略”彻底解决ALC系统“在某些频段发生测频值跳变”的问题；提供晶片研磨实时平均频率、研磨速率和散差等多样化统计参数，为更换研磨砂和维修研磨盘面提供科学依据，解决ALC系统“无法监控研磨机状态”的缺陷。
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公开(公告)号：CN211178317U
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN202020003191.8
申请日：2020-01-02
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: G01B11/00
Abstract: 一种高度可调的激光辅助标定装置，包括箱体、相机、调节架、点光源、调节台以及标定板；所述相机、调节架以及调节台设置于箱体；所述点光源设置于调节架；所述标定板设置于调节台；所述标定板设置于调节台；所述点光源为半导体激光器；点光源至少为三个，一个调节架上设置一个点光源；本实用新型通过设置点光源辅助以及调节台，可对各种不同高度，不同外观的零件的检测面进行准确的标定。
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公开(公告)号：CN210604779U
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201921058634.7
申请日：2019-07-08
Applicant: 浙江大学台州研究院
IPC: G01R23/06
Abstract: 本实用新型公开了一种石英晶片抛光研磨在线测频系统，包括DDS信号模块、射频功率放大模块、π网络接口电路模块、阻抗匹配模块、信号处理模块、MCU控制系统模块和用于为以上模块提供工作电压的电源模块，所述DDS信号模块根据MCU控制系统模块发出指定的扫频指令产生指定频率范围和扫频速度，输出功率的正弦扫频信号，经过射频功率放大模块把DDS信号模块产生的谐振信号进行功率放大，功率放大后的信号连接到π网络接口电路模块，正弦扫频信号通过π网络作用在晶片上使其产生机械振动，同时晶片的机械振动又产生交变电场，当外加的正选扫频信号频率为某一特定值的时候，振幅明显增大，当产生振幅明显增大的信号时，再去捕获有效信号。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN217605688U
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202123039015.3
申请日：2021-12-06
Applicant: 浙江大学台州研究院
Abstract: 本实用新型为一种用于卷材检测的散热相机模块及卷材检测装置，其中相机模块，包括相机模块包括相机外壳、风扇以及线扫相机，其中线扫相机和风扇均设置于相机外壳的内部；在相机外壳上对应线扫相机镜头的部位设置有玻璃；相机外壳内设置有四个风扇，其中以两个风扇为一组，分别设置于线扫相机的上下部位，位于线扫相机的上部的风扇组用于为线扫相机降温，位于线扫相机的下部的风扇组用于防止线扫相机的镜头落灰以及外壳底部的玻璃的内侧落灰通过在相机模块中设置风扇，并且四个风扇分别负责进气和出气，保证线扫相机得到高效的冷却。
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