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公开(公告)号：CN101846890A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010170978.4
申请日：2010-05-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种并行光刻直写系统，包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台，其特征在于：还设有聚焦伺服系统，所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置，所述光学系统由微缩系统和检测光路构成，其中的微缩系统采用双远心光学系统，检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件，检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上，反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收，控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作，实现伺服聚焦。本发明通过结合聚焦成像伺服系统，可以实现亚微米尺度微结构的精确光刻。
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公开(公告)号：CN101510053A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910028297.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头，其特征在于：由物方透镜组A和像方透镜组B两组透镜组成，A组透镜由A3、A2、A1三片透镜组成，B组透镜由B1、B2、B3、B4四片透镜组成；光线传播方向依次为A3、A2、A1、B1、B2、B3、B4；其中，A1、B1为弯月型凹透镜，A2、B2为双凸透镜，A3、B3、B4为弯月型凸透镜。本发明的像方透镜采用四片结构设计，因而其数值孔径大，干涉条纹的结构精细；限定物方数值孔径，可以减少透镜数量，降低实际加工的累积工艺误差，并且便于与干涉镜头物方的衍射光栅配合；可以在激光干涉直写系统上实现亚波长结构的制作。
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公开(公告)号：CN101477326A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910028296.7
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多视角图形输入的三维图形直写方法，包括下列步骤：(1)获得三维物体的分视角平面数字图像；(2)对每幅图像进行分色并分割成子图，在各图像中对应位置相同的子图为一组；(3)取一组子图，分别采用迭代傅里叶变换原理，计算每一子图在远场的光场分布，提取位相信息，按视角排列，编码成H1；(4)用空间光调制器显示H1，并放置于透镜的前焦面，在透镜后焦面上形成多视角图像再现，引入干涉光，通过干涉光路在记录材料上记录再现图像；(5)对应下一组子图的位置，移动记录材料的位置；(6)重复上述步骤至所有子图记录完毕，实现三维图形的记录。本发明用激光直写的方式制作三维图形，图形具有丰富的信息表达特征。
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公开(公告)号：CN101131537A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101034252A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101030028A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN1834731A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610038417.2
申请日：2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B27/42
Abstract: 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法，包括下列步骤：(1)制备一种二元光学元件，其远场衍射光场是一条狭缝；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成两个条形光场，经透镜组成像后，在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元，获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法，使消色差变色银衍射图像进入实用，可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果，以解决环保问题。
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公开(公告)号：CN1252529A
公开(公告)日：2000-05-10
申请号：CN99116873.9
申请日：1999-09-13
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种全息窄带带阻滤光片,玻璃基片(2)上涂敷有一层介质层,该介质层为带有反射全息衍射层的重铬酸明胶层(1),所述的重铬酸明胶层(1)上涂敷有环氧树脂层(3),所述的环氧树脂层(3)上粘结固定有封片玻璃(4),其特征在于:由重铬酸明胶层(1)制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按公式分布,按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下,光密度可达6D以上。
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公开(公告)号：CN119644495A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202311200848.4
申请日：2023-09-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种衍射光波导及显示模组。衍射光波导包括波导基底，波导基底包括耦入区域和耦出区域；自耦入区域向耦出区域的方向为第一方向，耦出区域包括第一子耦出区域和第二子耦出区域；第一子耦出区域包括沿第一方向依次设置的至少两个第一耦出块，且至少两个第一耦出块的效率调制功能沿第一方向呈递进趋势；在垂直于第一方向的方向上，第二子耦出区域包括沿远离第一子耦出区域的方向依次设置的至少两个第二耦出块，且至少两个第二耦出块的效率调制功能沿远离第一子耦出区域的方向呈递进趋势。本发明的衍射光波导能够通过分别对第一子耦出区域和第二子耦出区域进行效率分区，从而提升眼盒范围内不同观察图像亮度均匀性。
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公开(公告)号：CN119335731A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410886685.8
申请日：2024-07-03
Abstract: 本发明属于图像处理技术领域，提供了一种基于复振幅调制的图像处理超表面设计方法，包括一类介电超表面，由二氧化硅衬底以及衬底上的α‑S i纳米柱构成，采用基于几何相位物理概念的介电纳米柱排列方法，使超表面的点扩散函数等于特定的卷积核，利用图像经过系统的响应对应于图像与系统点扩散函数卷积的原理，进行图像处理操作；本发明通过采用基于几何相位物理概念的介电纳米柱排列方法，使得超表面的点扩散函数等于特定的卷积核，利用图像经过系统的响应对应于图像与系统点扩散函数卷积的原理，进行边缘检测、二阶微分图像处理操作，该方法大大减少了光学卷积层的尺寸，提高了集成度和运算速度。
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