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公开(公告)号：CN1834731A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610038417.2
申请日：2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B27/42
Abstract: 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法，包括下列步骤：(1)制备一种二元光学元件，其远场衍射光场是一条狭缝；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成两个条形光场，经透镜组成像后，在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元，获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法，使消色差变色银衍射图像进入实用，可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果，以解决环保问题。
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公开(公告)号：CN1343572A
公开(公告)日：2002-04-10
申请号：CN01134125.4
申请日：2001-10-29
Abstract: 一种击打式光学可变图像制作方法,用具有热压敏特征的塑性材料作为打印介质,用光栅头作为打印头,用加热的打印头对打印介质加压,在打印介质上生成浮雕型光栅,控制打印头和打印介质的相对位置进行打印,即获得整个光学可变图像。其打印装置,包括打印头、打印头驱动部分、打印介质驱动部分和计算机控制系统,所述打印头驱动部分包括转动机构、Z轴运动机构和加热控制器,所述打印头为浮雕型光栅头,打印介质可以相对于打印头运动,各运动驱动机构和加热控制器由计算机控制系统提供控制信号。本发明不需要激光器和感光材料,排除了大面积洁净光刻胶涂布的难题,适合于制作大面积的光学可变图像;同时大大缩短了光学可变图像的制作时间。
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公开(公告)号：CN1252529A
公开(公告)日：2000-05-10
申请号：CN99116873.9
申请日：1999-09-13
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种全息窄带带阻滤光片,玻璃基片(2)上涂敷有一层介质层,该介质层为带有反射全息衍射层的重铬酸明胶层(1),所述的重铬酸明胶层(1)上涂敷有环氧树脂层(3),所述的环氧树脂层(3)上粘结固定有封片玻璃(4),其特征在于:由重铬酸明胶层(1)制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按公式分布,按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下,光密度可达6D以上。
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公开(公告)号：CN119644495A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202311200848.4
申请日：2023-09-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种衍射光波导及显示模组。衍射光波导包括波导基底，波导基底包括耦入区域和耦出区域；自耦入区域向耦出区域的方向为第一方向，耦出区域包括第一子耦出区域和第二子耦出区域；第一子耦出区域包括沿第一方向依次设置的至少两个第一耦出块，且至少两个第一耦出块的效率调制功能沿第一方向呈递进趋势；在垂直于第一方向的方向上，第二子耦出区域包括沿远离第一子耦出区域的方向依次设置的至少两个第二耦出块，且至少两个第二耦出块的效率调制功能沿远离第一子耦出区域的方向呈递进趋势。本发明的衍射光波导能够通过分别对第一子耦出区域和第二子耦出区域进行效率分区，从而提升眼盒范围内不同观察图像亮度均匀性。
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公开(公告)号：CN119335731A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410886685.8
申请日：2024-07-03
Abstract: 本发明属于图像处理技术领域，提供了一种基于复振幅调制的图像处理超表面设计方法，包括一类介电超表面，由二氧化硅衬底以及衬底上的α‑S i纳米柱构成，采用基于几何相位物理概念的介电纳米柱排列方法，使超表面的点扩散函数等于特定的卷积核，利用图像经过系统的响应对应于图像与系统点扩散函数卷积的原理，进行图像处理操作；本发明通过采用基于几何相位物理概念的介电纳米柱排列方法，使得超表面的点扩散函数等于特定的卷积核，利用图像经过系统的响应对应于图像与系统点扩散函数卷积的原理，进行边缘检测、二阶微分图像处理操作，该方法大大减少了光学卷积层的尺寸，提高了集成度和运算速度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118057242B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202211445687.0
申请日：2022-11-18
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写方法、控制设备及激光直写系统，属于激光直写光刻技术领域，该方法包括：设定光刻的灰阶等级N、扫描像素步距M、灰阶曝光循环次数Q；将待加工的灰阶图像划分为复数个等宽度的图像条带；设定曝光时滑动提取窗口的大小；对于每个图像条带，根据N、M和Q进行滑动提取窗口灰阶提取和数据重组，得到新的图像条带；运动平台在Y方向上完成一个新的图像条带曝光后，在X方向移动一个移动步距XStep，移动步距XStep为图像条带宽度W与光学分辨率R的乘积，并对下一个新的图像条带进行曝光，直至完成对所有新的图像条带的曝光，X方向与Y方向正交；可以提高扫描速度、激光直写效率，实现灰阶的额外灰阶曝光循环次数。
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公开(公告)号：CN110531459B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN201810513235.9
申请日：2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B6/00 , G02F1/13357 , G02B30/27 , H04N13/31
Abstract: 本发明涉及显示技术，特别涉及背光板和包含其的显示装置。按照本发明一个方面的背光板包含：导光板，其包含位于导光板上表面、下表面或内部的第一微结构，该第一微结构具有周期性分布的第一单元，所述光源发出的光束经所述第一微结构散射至导光板的外部；以及光学膜，其设置于经第一微结构散射至导光板外部的光束的传播方向上并且包含位于光学膜表面的第二微结构，该第二微结构具有周期性分布的第二单元，经所述第一微结构散射至导光板的外部的光束经第二微结构变换为准直光束或会聚光束。
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公开(公告)号：CN114466578B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202011245589.3
申请日：2020-11-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，该方法包括：提供一自支撑金属网栅；提供银纳米线；利用迈耶棒将所述银纳米线刮涂在所述自支撑金属网栅的两面，形成复合网栅；在空气中平放晾干后，将所述复合网栅放入烘箱中高温烘烤，得到复合结构电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种复合结构电磁屏蔽膜，包括自支撑金属网栅、设置在所述自支撑金属网栅两侧表面的银纳米线。通过上述方法，有效地增强了复合结构电磁屏蔽膜柔性、适应范围，提升了复合结构电磁屏蔽膜的屏蔽效果。
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公开(公告)号：CN118778253A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202310346830.9
申请日：2023-04-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/01
Abstract: 本申请公开一种抬头显示模组及车辆，包括：第一波导模组、第二波导模组和反射层；第一波导模组与所述第二波导模组平行交错设置；经第一波导模组耦出的第一光线，形成第一光线区域；经第二波导模组耦出的第二光线，形成第二光线区域，其中，第一光线与第二光线的方向相同，第一光线区域与第二光线区域无缝隙拼接或部分重叠；反射层位于与第一光线以及第二光线相反方向的预设位置，反射层用于将射向反射层的光线反射至第一光线区域和第二光线区域。本申请提供的一种抬头显示模组及车辆，可以通过组合使用两个尺寸较小的波导模组，能够延续衍射波导方案具有体积小、轻薄的特点，还能够支持大视场角的显示性能以及能够降低制造难度。
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公开(公告)号：CN118584744A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202310197236.8
申请日：2023-03-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种压印设备及压印方法，该压印设备包括模具、上胶装置和压印组件，压印组件包括对位调整装置、导向辊、压辊和平移辊组，通过移动平移辊组将薄膜带张紧在模具的一侧，使模具上第一图案与薄膜带上第二图案初步对位，然后通过对位调整装置精确调整模具与薄膜带之间的相对位置，实现第一图案与第二图案的精准对位；之后缩小模具与薄膜带之间的距离，使薄膜带、胶层和第一图案接触，利用压辊滚压薄膜带，使薄膜带、胶层和模具紧密贴合；平移辊组反向移动实现揭膜。本发明可以在连续卷材上实现微米级高精密多层图形的UV光转印。
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