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公开(公告)号：CN103513316A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310456357.6
申请日：2013-09-29
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种选择吸收滤光结构，包括：基底，位于基底上的介质微纳单元，位于介质微纳单元上的金属层，金属层全覆盖在介质微纳单元上，即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层，所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。该滤光结构具有较高的吸收效率，且对入射光的角度和偏振态不敏感。同时制备工艺简单，易于实现。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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公开(公告)号：CN101937115B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201010224529.3
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B32B38/06 , B29C59/04 , B32B37/203 , B32B2551/00 , B32B2590/00 , G02B6/0036 , G02B6/0065
Abstract: 一种导光膜制作装置，用于制作卷积筒状的导光膜，包括放料辊、收料辊、分离装置、压印装置和复合装置，其中该导光膜先经分离装置将保护层和基材层分离，然后通过该压印装置在该基材层的待加工面上压印出导光网点，再经过复合装置将剥离的保护层重新复合到基材层上，最后经收料辊回收形成完整的导光膜。本发明的导光膜制作装置，具有产量高、制作尺寸大以及成本低廉的特点。
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公开(公告)号：CN103317229A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310291009.8
申请日：2013-07-11
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种标签签注方法和签注系统，通过在原有的激光签注光路和记录材料之间增设一块会聚透镜，依赖会聚透镜对光线角度的改变，只需将会聚透镜物面侧的签注图像进行平移，就能在像面侧得到不同入射角度下的成像效果。不仅控制简单、成像效果好，而且能够利用该签注方法实现多种形式的签注，为个性化激光签注带来了新的应用。
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公开(公告)号：CN103196962A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310136507.5
申请日：2013-04-18
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于化学还原氧化石墨烯薄膜立式微纳结构的气敏传感器及其制备方法，首先将氧化石墨烯在溶剂中分散，通过控制还原条件在基底上自组装得到具有立式微纳结构的还原氧化石墨烯薄膜，再采用微加工和剥离技术在石墨烯表面制备金属电极，从而得到与基底结合较好的基于化学还原氧化石墨烯薄膜立式微纳结构的气敏传感器；本发明所得到的具有立式微纳结构的化学还原氧化石墨烯薄膜气敏传感器可实现对气体分子检测性能的提高，其制备方法工艺简单，适合于气敏传感器的批量制备。
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公开(公告)号：CN102937727A
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201210517067.3
申请日：2012-12-05
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种滤光结构，用于可见光波段。该滤光结构由金属光栅-介质-金属膜三层结构构成，产生完美吸收的物理机制是由于激发了局域电磁共振，导致整个结构在宽波段范围内的等效阻抗与真空阻抗匹配，反射电磁被抑制，且由于金属膜的厚度较厚，电磁波也无法透射，从而形成宽带近完美吸收结构。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102879849A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210419189.9
申请日：2012-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，第一金属层位于介质光栅的脊部，第二金属层位于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，第一金属层的宽度大于介质光栅的脊部宽度，第二金属层的宽度小于介质光栅的沟槽宽度，介质光栅的脊部高度大于第一金属层的高度和第二金属层的高度。与现有的双层金属光栅结构相比，本发明中第一金属层的宽度大于介质光栅的脊部宽度，第二金属层的宽度小于介质光栅的沟槽宽度，使得更多的能量集中在第一金属层与第二金属层之间，最终提高了宽波段、大入射角度范围TM偏振光的透射效率。
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公开(公告)号：CN102568031A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110284726.9
申请日：2011-09-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公
IPC: G06T17/00
Abstract: 本发明公开了一种三维图像并行数字构建方法，获取三维物体的多个分视角数字图像，其特征在于：采用计算机集群进行并行处理；包括，对图像的规整性处理、分色处理，并按设定的大小分割为子图，主计算节点将各子图按照其视场顺序排列；以同一视场位置的子图为一组处理对象，任务节点并行处理，对图像进行傅立叶逆变换、中心变换处理和迭代傅里叶变换，得到该组子图的夫琅禾费衍射光场分布，并将结果返回至主计算节点；主计算节点汇总后得到全息图H1；利用干涉光和空间光调制器再现三维图像。本发明成功地利用多进程机制进行位相信息的提取，大大减少了算法的运行时间，提高三维成像的效率，为三维图像的工业化印刷提供了可能性。
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公开(公告)号：CN102063951A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010533228.9
申请日：2010-11-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , H05K3/1258 , H05K3/1283 , H05K2203/0108 , H05K2203/1131
Abstract: 本发明提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括透明基底和导电金属，其中在透明基底上利用纳米压印技术压制出用于埋设导电金属颗粒的凹槽以及用于透光的网格，通过设计凹槽的线宽和深度以及占整个透明导电膜的比重，得到了一种透光率高且导电性好的透明导电膜。同时，由于导电金属部分被镶嵌在透明基底内部，不易脱落和氧化，并且可以采用柔性材料作为透明基底，开发出能在更多场合下应用的透明导电膜。同时本发明还提供了该透明导电膜的制作方法。
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公开(公告)号：CN101377555B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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公开(公告)号：CN101131537B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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