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公开(公告)号：CN103755317A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410025088.2
申请日：2014-01-21
Applicant: 中国地质大学(北京) , 北京华油冠昌环保能源科技发展有限公司
IPC: C04B32/00
Abstract: 本发明公开了一种强化聚晶立方氮化硼复合超硬材料的制备方法，在PCBN材料中添加了如立方碳氮化硼c-BC2N、碳化硼（B4C）和纳米孪晶立方氮化硼（nt-CBN）等超硬材料的增强相，是一种高温高压烧结合成超硬复合材料的新方法，属于超硬材料领域。其步骤为将硬度极高的材料切割成增强芯柱体，在粉料中埋入增强芯柱体后放入叶腊石块在高温高压的条件下合成，得到具有增强芯的PCBN材料。本发明制备的强化PCBN复合超硬材料兼具有PCBN的韧性，和媲美天然金刚石材料的超高硬度，解决了现代机械加工行业对刀具越来越高的要求以及某些极超硬材料在应用方面的尴尬局面，拓宽了超硬材料的应用领域。
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公开(公告)号：CN103737008A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201410025089.7
申请日：2014-01-21
Applicant: 中国地质大学(北京) , 北京华油冠昌环保能源科技发展有限公司
Abstract: 本发明公开了一种新型聚晶金刚石复合片超硬材料的制备方法，包括：a、制备超硬材料增强芯；b、粉体压制；c、合成和d、后处理步骤。本发明在PDC中添加了如氮化硼、碳氮化硼、碳化硼和纳米氮化硼聚晶材料作为增强芯，是一种在高温高压条件下合成复合超硬材料的新方法，属于超硬材料领域。本发明提出的一种具有增强芯的PDC复合超硬材料的制造方法，使其同时有聚晶材料的韧性，又有媲美天然金刚石的超高硬度，并且在切削过程中形成凸台状犁削被切削物而避免磨削导致的低切削效率和高磨损率，提高了PDC复合材料的性能，拓宽超硬材料的应用领域。
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公开(公告)号：CN102120943B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201010143673.4
申请日：2010-04-12
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: C10M161/00 , C10M177/00 , C10N30/06
Abstract: 本发明涉及一种含层状硅酸盐矿物质的磨损自修复润滑剂组合物及其制备方法。本发明提供的润滑剂组合物，包括的组分和各组分质量配比如下：层状硅酸盐矿物10-20；表面修饰剂0.1-5；金属催化物0.1-5；性能调节剂组合物1-10；基础润滑剂70-80。制备方法如下：将层状硅酸盐矿物粉按比例混合、研磨，优选出颗粒度D90≤3μm，之后加入到按表面修饰剂、金属催化物、性能调节剂不同比例配制的基础润滑剂中，进行研磨。使用方法是将其按0.2-1wt.％加入到设备现有的润滑剂系统中。本发明提供的润滑剂组合物具有良好的自修复效果、明显的节能降耗效果，摩擦表面形成的修复层提高了基体的硬度，降低了粗糙度。
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公开(公告)号：CN102703858B
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201210193088.4
申请日：2012-06-13
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明公开了一种含金属类金刚石薄膜制备方法，所述方法为采用多离子束辅助沉积系统（IBAD）、通过调节溅射靶材的溅射气体压力、脉冲基体负偏压和靶电流，采用在基体中加入非碳化物形成元素，制备类金刚石薄膜，所得到的类金刚石薄膜在保持高硬度的同时改善了薄膜的结合力，提高了薄膜的韧性。本发明是在金属基体上沉积一种含非碳化物形成元素(如：Ag)的类金刚石薄膜，用以克服中频磁控溅射镀膜方法带来的载能粒子能量及流量不能精确控制的缺点，并使该薄膜具有高硬度、低摩擦系数、良好膜基结合力等优点，并能保持一定韧性，有效减少薄膜在工作过程中产生裂纹，起皱和分层的现象。
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公开(公告)号：CN102660355A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201210173762.2
申请日：2012-05-29
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: C10M141/10 , C10N30/06 , C10N40/02 , C10N40/04
Abstract: 本发明提供一种用于渗氮钢的抗磨添加剂组合物，它包含(A)一定量的矿物油，或合成油作为稀释油，含量为0～15wt％；(B)至少一种含磷的抗磨添加剂，含量为20～90wt％；(C)至少一种含硼的极压抗磨剂，含量为3～20wt％；(D)至少一种含钨的抗磨添加剂，含量为1～15wt％；(E)至少一种二烷基二硫代磷酸锌极压抗磨剂，含量为5～20wt％。将上述添加剂组合物按0.6～1.4wt％加入到基础油中，制备的抗磨润滑油在渗氮钢表面的抗磨性能优于基础油在渗氮钢表面的抗磨性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102643086A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210041132.X
申请日：2012-02-22
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: C04B35/457 , C04B35/622
Abstract: 本发明涉及一种新型二氧化锡基压敏电阻材料及制备方法，属于电子陶瓷制备及应用技术领域。本发明提供此种材料的组分及含量，包括主相SnO270～99.95mol％，非线性形成氧化物Ta2O50.01～8mol％，非线性增强剂ZnO、TiO2各0.02～10mol％，并含有CoO、Cr2O3、Fe2O3、CuO、MnO、NiO中的一种或者多种添加剂0～2mol％。所述材料制备方法依次包括“混料、高能球磨、烘干、预烧、研磨、过筛、模压成型、烧结和被银”工艺步骤。用上述材料和制备方法所制得的压敏电阻片，其电位梯度E(电流密度为1mA/cm2时对应的电位梯度值)为400～1200V/mm，非线性系数α[根据公式α＝1/log(E10mA/E1mA)计算]为10～40，漏电流IL(75％E所对应的电流密度值)为10～100μA/cm2，综合性能优良。可用于手机、家用电器以及高压避雷器等领域。
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公开(公告)号：CN101367645B
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200810117838.3
申请日：2008-08-06
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: C04B35/26 , C04B35/622
Abstract: 本发明涉及一种铁氧体陶瓷软磁材料制备方法，属于电子陶瓷制备及应用技术领域。所述陶瓷为纯相尖晶石相铁氧体。所述材料制备方法包括“配料→高能球磨→烘干→混合整粒→过筛→压制成型→烧结”等工艺步骤。与传统铁氧体材料制备方法相比，所述方法只需一次烧结，简称“一步合成法”；由于制备工艺更简单，降低了设备和工艺成本，提高了工艺可靠性和可控性；采用高纯高耐磨氧化锆磨介，可精确控制掺杂元素比例；采用特殊烧结助熔剂，烧结温度低。由于材料组成精确可控、晶粒大小均匀可控、缺陷少，所得铁氧体材料磁学性能优异，高频特性好，品质因素高，可广泛用于高质量高频器件制备和生产。本发明也可用于其他类型电子陶瓷材料等。
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公开(公告)号：CN101818332A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN201010130135.1
申请日：2010-03-23
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明涉及一种工具涂层材料及制备方法，属于材料制备及应用技术领域。所述材料为具有超硬自润滑特性的金刚石/类金刚石复合多层涂层材料。所述方法其特征在于，首先利用酸、碱混合液分别对基体进行预处理，然后采用热丝化学气相沉积在基体上合成超高硬度、晶形良好的金刚石作为复合涂层的主体，再利用磁过滤真空阴极电弧在金刚石主体上沉积高硬度的类金刚石薄膜作为自润滑表层。为了提高金刚石薄膜和基体、类金刚石薄膜和金刚石薄膜之间的结合力，各层之间分别镀制了一层过渡层。所述方法具有工艺简单、合成条件精确可控、成膜质量高、产品收率高、成本低廉等优点，所获得的金刚石/类金刚石复合多层材料具有超高硬度、极低摩擦因数和极低磨损率，表现出优异的自润滑抗摩擦磨损性能，对工具或模具在苛刻服役条件下的应用具有重要意义。
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公开(公告)号：CN101787520A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN201010132904.1
申请日：2010-03-24
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: C23C16/27 , C23C14/35 , C23C16/513 , C23C16/02
Abstract: 钨钛共掺杂类金刚石(DLC)涂层材料及其制备技术，特征是首先利用超声波清洗去除工件表面污染层，利用辉光放电对工件表面进行氩离子刻蚀清洗，获得原子级的清洁表面；然后利用反应磁控溅射沉积方法制备梯度过渡层，最后在过渡层上利用磁控溅射+辉光放电等离子体增强化学气相沉积方法制备钨钛共掺杂DLC涂层，合成的DLC涂层同时含有碳、钨和钛等元素，其中钨含量为2-5％，钛含量为0.1-2.0％，具有优异的膜/基结合力和低的摩擦系数及磨损率。
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公开(公告)号：CN101787518A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN201010132905.6
申请日：2010-03-24
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 一种制备掺杂类金刚石(DLC)涂层的多离子束溅射沉积方法，特征是首先利用超声波清洗去除工件表面污染层，利用离子源产生的氩离子束对工件表面进行离子束轰击清洗，获得原子级的清洁表面；然后利用离子束辅助溅射沉积方法制备梯度过渡层；最后在梯度过渡层上利用多离子束溅射+低能离子束辅助沉积合成多元掺杂DLC涂层。利用多离子束溅射+低能离子束辅助沉积合成多元掺杂DLC涂层的过程中，在溅射离子源轰击石墨靶和金属靶产生的碳粒子和金属粒子沉积到工件表面的同时，辅助沉积离子源产生的气体离子持续轰击生长的膜层表面，调控膜层微观结构和实现多元素掺杂。
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