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公开(公告)号：CN104185410B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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公开(公告)号：CN106842606A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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公开(公告)号：CN106683795A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710121197.8
申请日：2017-03-02
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B13/00
CPC classification number: H01B13/00 , B05D2350/60 , H01B13/0026
Abstract: 本发明公开了一种透明导电膜的涂布方法及用于形成疏水疏油物质的装置，所述涂布方法包括以下步骤：步骤①：在基板的表面制作网格状凹槽；步骤②：在基板的凹槽面形成一层疏水疏油物质；步骤③：在凹槽内填充导电材料；步骤④：将多余的导电材料刮擦干净。本发明主要目的是解决刮涂之后的清洁问题。通过在凹槽及基板表面预留一定的防污染材料(疏水疏油的物质)，在刮涂过程中，导电材料就不会残留在基板的表面，从而不需要清洁，大大提高了效率，同时解决了由于清洁导致的划伤，异色，短路等问题。
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公开(公告)号：CN106547397A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201610907841.X
申请日：2016-10-19
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , G06F2203/04103
Abstract: 一种透明导电膜的制作方法、透明导电膜和触控屏，制作方法包括：利用模具在透明绝缘衬底的一面上压印形成连续的凹槽；在透明绝缘衬底的一面上涂覆胶状物，利用模具对远离透明绝缘衬底的一面进行压印，使其固化后形成凹槽；向凹槽中填充导电材料，形成导电层，即内线路；在与导电层接触的一面形成外线路；按照预设图形对内线路和外线路去除不必要的导电材料，以形成绝缘通道和绝缘线路，完成透明导电膜的制作。本发明将丝网印刷与埋入式纳米压印相结合，统一的网格填充作为一个通用的模具，该模具可以适用于多个机种，只要根据不同的规格进行丝印和镭射即可，可以有效降低费用和开发周期。
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公开(公告)号：CN106526730A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611040561.X
申请日：2016-11-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种宽视角波导镜片及制作方法和头戴式三维显示装置，利用具有能实现会聚光场视角放大功能即光栅透镜功能的纳米光栅结构，实现三维虚拟信息的视角放大，并在人眼前投射，通过宽视角波导镜片实现虚拟物体与现实景物的完美融合，由于视角得以放大，使得人眼观察虚拟物体和现实景物融合的场景时难以察觉这是融合景象，使得体验更加真实，同时基于全息原理，可以方便的将计算全息与纳米结构功能光场镜片相结合，从而实现无视觉疲劳的、高亮度的、头戴式3D增强现实显示方案和装置、也可方便的实现支持3D显示图像的动态聚焦。
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公开(公告)号：CN105374467B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号：CN106371687A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201610907776.0
申请日：2016-10-19
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G06F3/044
CPC classification number: G06F3/044
Abstract: 本发明公开了一种透明导电膜及电容触控传感器及触控显示装置，所述透明导电膜包括网格结构，所述网格结构包括多个凹槽单元，相邻的凹槽单元之间形成交叉结构，导电材料填充在凹槽内形成导电网格，其特征在于，所述交叉结构呈T字形。本发明的透明导电膜结构简单，通过这种类T字形结构设计，网格交叉点处的槽深宽比提高，从而导电材料可以充分纳入网格凹槽内。能够大幅度提升制程的良率、稳定性及抗静电性能，降低成本。
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公开(公告)号：CN104467526B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201410719489.8
申请日：2014-12-01
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种实现单向运动的惯性粘滑式跨尺度运动平台，以配重块、压电陶瓷致动器及主质量块间互相结合，当在压电陶瓷致动器正负极间施加正向或反向电压时，其在长度方向作微小的伸长或缩短并带动配重块及主质量块运动，从而实现毫米级行程、纳米级定位精度。相比其它运动平台，其具有结构简单、能够实现快速大行程的精密定位和容易实现多自由度驱动的优点，并且不需要专门的位置保持装置。
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公开(公告)号：CN104467525B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410719389.5
申请日：2014-12-01
Applicant: 苏州大学
IPC: H02N2/02
Abstract: 本发明公开了一种可调预紧力式惯性粘滑驱动跨尺度精密定位平台，平台包括外壳、与外壳固定安装的椭圆放大机构、位于椭圆放大机构上方的钳位机构、位于钳位机构上方的驱动机构、以及导向机构，导向机构为交叉滚柱导轨，驱动机构为驱动压电陶瓷，钳位机构包括与驱动机构粘接的钳位块和位于钳位块下方的钳位导轨，椭圆放大机构包括与钳位导轨相连的椭圆框架及位于椭圆框架内的钳位压电陶瓷，驱动压电陶瓷两端输入有用于控制钳位块左右运动的第一电压信号，钳位压电陶瓷两端输入有用于控制钳位导轨上下运动的第二电压信号。本发明集导向、钳位、驱动于一体，系统集成度高、体积小，适用于对尺寸有要求的高精密定位场合。
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公开(公告)号：CN105538726A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610090877.3
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于薄膜基底的三维成型装置及方法，该装置包括送料机构、曝光机构、支撑机构及分离机构，通过送料机构将感光材料层送入相应的曝光区域中，由曝光机构对感光材料层进行曝光，实现对每层指定图形的固化生成，每层图形叠加在一起，在支撑机构上形成所需零件，而分离过程与曝光过程同步进行，随着分离机构向右移动，在张力的作用下，薄膜基底材料层逐渐与支撑机构上已成型零件的顶面分离，而未被曝光的感光材料层也同时被剥离于支撑机构外，曝光和分离动作同时进行，可以提升工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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