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公开(公告)号：CN116731338A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310708189.9
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液。所述基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法包括如下步骤：A：图案化ZrO2薄膜的制备；B：UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液的制备；C：UiO系列无机膜的制备。本发明提供了一种用于制备UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液，其通过如下方法制备：将有机配体和调节剂溶解在DMF中，制备得到凝胶化配体溶液；所述的调节剂为三乙胺或氢氧化钾；所述的有机配体为下列化合物a‑c中的一种。本发明采用凝胶法旋涂制备图案化UiO系列无机膜，不仅减少了溶剂用量，而且有效降低反应温度，能够获得微米尺度的图案化UiO系列无机膜。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116719209A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310709968.0
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶含有100份的马来酰亚胺化合物、10‑30份的丙烯酸多环戊烯基酯和20‑50份的高折射率芴系活性交联剂。本发明的基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶避免了常规双光子引发剂的使用，从而可以避免普通光刻胶中残留的光引发剂及光解碎片存在着迁移渗透和进一步光化学反应的可能；丙烯酸多环戊烯基酯的阻氧效应可以保证光刻胶在空气中正常使用；而高折射率芴系活性交联剂则可以有效调节光刻胶的折射率以提升刻写效果。该光刻胶经飞秒激光刻写、显影后，能够得到特征尺寸在百纳米级的二维线条，也能够刻写出数百微米的三维结构。
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公开(公告)号：CN116719207A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310699369.5
申请日：2023-06-13
Abstract: 本发明公开了一种可调折射率的含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备以及基于该光刻胶的图案化方法。所述含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备方法包括以下步骤：S1：得到杂多酸溶液；S2：得到成膜树脂溶液；S3：得到含有光引发剂的活性单体溶液；S4：取适量活性单体溶液与杂多酸溶液混合均匀，再将成膜树脂溶液缓慢滴加至混合溶液中，先缓慢摇晃，再静置至溶液分层现象消失，得到含有杂多酸的激光直写光刻胶。本发明将杂多酸分散在光刻胶中，无需另加分散剂促进分散，所得光刻胶折射率在1.4‑1.8范围内可调；胶膜在目标区域内的透光率大于90％；填料均匀分散且粒径小，表面粗糙度低；利用双光子光刻可以制作2D和3D不同形状的结构。
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公开(公告)号：CN116560059A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310017454.9
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法，通过在光刻胶中掺杂可以闪烁的荧光染料，利用边缘光抑制效应的双光束实现高精度激光直写，以及利用随机光重构显微方法进行超分辨成像。一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置包括进行高精度激光直写的两个光源和进行超分辨显微成像的另两个光源；其中，前者两个光源分别为使光刻胶产生光聚合过程的激发光光源和对光刻胶产生抑制聚合的抑制光源；后者两个光源分别为对染料进行活化的激活光和激发荧光染料发荧光的激发光。本发明通过在一个系统中集成激光直写与光学显微成像，进而同时实现超分辨刻写与成像两个功能，实现刻写结构的无损、非侵入直写光学成像，操作简便，节约成本。
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公开(公告)号：CN116554391A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310708192.0
申请日：2023-06-15
IPC: C08F220/14 , G03F7/20 , C08F220/18 , C08F212/08 , C08F220/20 , G03F7/038 , G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光直写光刻胶成膜树脂、负性飞秒激光直写光刻胶及其图案化方法。所述飞秒激光直写光刻胶成膜树脂的化学结构式如式(I)所示，该飞秒激光直写光刻胶成膜树脂为无规共聚物，重均分子量Mw在1.7‑2.2kDa之间，分布指数D在1.4‑2之间。本发明提供的负性飞秒激光直写光刻胶包括3‑5wt％所述的成膜树脂、5‑10wt％活性单体、0.1‑1wt％双光子引发剂和85‑91wt％溶剂。本发明所述的成膜树脂可以提高负性光刻组合物的抗刻蚀性，提升胶膜与晶圆的附着力，从而提高光刻图形的分辨率，改善图形形貌。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116540503A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310797264.3
申请日：2023-07-03
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种激光直写样品的固定装置及工作方法，固定装置包括样品台框架，还包括能够可拆卸地设于所述样品台框架上的适配常规刻写模式的第一固定组件，或适配大尺寸浸入式刻写模式的第二固定组件，或适配光纤端面刻写模式的第三固定组件；第一固定组件为边沿限位式定位槽结构；第二固定组件为三层叠套筒式定位槽结构，以此实现晶圆的定位及光刻胶装载；第三固定组件为双板夹角式定位槽结构，以此实现光纤夹持定位。与现有技术相比，本发明提供了一种结构简单，普适性高，易于操作的一种激光直写样品的固定装置及其工作方法，以实现不同形状、尺寸激光直写样品的固定和定位，适配多种加工场景，可广泛应用于激光直写光刻领域。
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公开(公告)号：CN116540494A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310563509.6
申请日：2023-05-18
Abstract: 本发明公开一种液态金属导电光刻胶及基于该光刻胶的双光子图案化方法。所述液态金属导电光刻胶的组成包括液态金属、活性单体、成膜树脂、分散剂、双光子光敏剂及溶剂。本发明还提供了一种基于该液态金属导电光刻胶的双光子图案化方法。本发明将液态金属引入到光刻胶中，在光刻胶聚合交联的同时将液态金属固定下来，可以实现液态金属的锚定及图案化；光刻胶中的其他组分可以与液态金属形成弱键相互作用，可以充分分散液态金属，获得纳米级分散程度，有利于液态金属的高精度图案化加工。本发明基于双光子聚合光刻技术实现了液态金属光刻胶的图案化，加工精度显著提高，同时保持了良好的电导率，极大提升了液态金属微纳器件的集成度。
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公开(公告)号：CN116500869A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310572492.0
申请日：2023-05-18
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光刻写方法、装置和系统。所述方法包括：获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数；根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据；将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数，拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据；获取位移台的位置信息；基于所述位置信息，将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列，以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写。采用本方法能够在大幅提升扫描速度的同时，还实现了表面粗糙度的提升，有效改善了传统3D激光直写方法刻写速度与刻写质量难以兼顾的问题。
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公开(公告)号：CN115639729B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202211053614.7
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法和系统，本发明将一水平偏振方向的激光入射至空间光调制器的液晶面元，所述的空间光调制器加载不同的全息相位图实现对入射光束的分束并调整分束后各个子光束的位置，从而实现良好地耦合进光纤阵列。光纤阵列通过光开光模块实现每一路光的开关。通过每路光的开关以及三维位移台的移动，实现三维大面积的微纳结构直写，本发明的直写效果更加丰富，直写效率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN113189846B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202110388124.1
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20 , G03F1/68 , B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/066 , B23K26/067
Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
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