公开(公告)号：CN117826544A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202410195677.9

申请日：2020-03-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 吉田亮平 ,  井田真高 ,  吉田大辅 ,  野嶋琢己 ,  松桥佑介 ,  渡辺畅章

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，可防止第二区域与第一区域之间的经转印的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置，包括：照明光学系统，包含具有多个透镜元件的复眼透镜；投影光学系统；照度变更构件，相对于对第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域进行曝光的照明光的照度，以第二区域以外的第一区域的照度相对地变低的方式，覆盖对第一区域进行曝光的照明光穿过的区域；以及控制部，控制照度变更构件的相对于透镜元件的相对移动；通过相对移动，而变更由照度变更构件覆盖的区域，且在维持与扫描方向正交的非扫描方向上的第一区域的曝光量分布的状态下，变更非扫描方向上的第二区域的曝光量分布。

公开(公告)号：CN113439225B

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN201980092279.1

申请日：2019-12-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 山田智士 ,  浜崎拓司 ,  岸本崇

IPC: G02B7/04

公开(公告)号：CN110709793B

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN201880035547.1

申请日：2018-03-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 原笃史 ,  坂田晃一 ,  桥场成史

IPC: G05D3/12 ,  H01L21/68 ,  G03F7/20 ,  G05D3/00

公开(公告)号：CN117651911A

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202280047477.8

申请日：2022-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野仁 ,  水野恭志

IPC: G03F7/20

Abstract: 为了提高曝光装置的生产量，提供一种相对于物体曝光与描绘数据对应的、由空间光调制器生成的图案光的曝光装置，该曝光装置具备：向所述空间光调制器照射照明光的照明光学系统；向所述物体投影所述图案光的投影光学系统；保持所述物体的第1移动体，其配置在所述投影光学系统的下方；第1驱动部，其使所述第1移动体向在与所述投影光学系统的光轴正交的规定平面内彼此正交的第1方向和第2方向移动；保持所述空间光调制器的第2移动体；使所述第2移动体移动的第2驱动部；测量部，其得到包括所述物体的位置信息和所述第1移动体的位置信息的至少一项来作为测量结果；以及控制部，其基于利用所述测量部得到的所述测量结果控制所述第2移动体的驱动和所述投影光学系统的调节的至少一方，控制所述图案光的曝光位置。

公开(公告)号：CN117616338A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202280045554.6

申请日：2022-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野恭志 ,  中岛利治 ,  川户聪

IPC: G03F7/20

Abstract: 图案曝光装置(EX)包括：空间光调制元件(10)，其具有基于描绘数据被选择性驱动的多个微镜；照明单元(ILU)，其以规定的入射角向空间光调制元件照射照明光；以及投影单元(PLU)，其使来自空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光入射并投影到基板上，图案曝光装置(EX)将与描绘数据对应的图案投影曝光到基板上，照明单元包括：聚光光学构件，其将来自成为照明光的光源的规定形状的面光源的光聚光并倾斜照射到空间光调制元件上，且沿着相对于投影单元的光轴以入射角倾斜的光轴来配置，使面光源与投影单元的光瞳光学共轭；以及修正光学构件，其使面光源的轮廓的形状变形，以对由来自空间光调制元件的打开状态的微镜的反射光在投影单元的光瞳上形成的面光源的像的轮廓根据入射角而变形为椭圆状的情况进行修正。

公开(公告)号：CN117579835A

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202311512979.6

申请日：2019-01-16

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 安藤一郎 ,  高桥昌也

IPC: H04N19/46 ,  H04N19/85 ,  H04N5/202 ,  H04N9/64 ,  H04N9/68 ,  H04N1/407

Abstract: 编码装置具备：校正部，其基于伽玛系数和光学黑体的值，对来自具有所述光学黑体的摄像元件的RAW图像数据进行灰度校正；以及编码部，其对由所述校正部进行灰度校正而得到的灰度校正RAW图像数据进行编码。解码装置具备：获取部，其获取对基于伽玛系数和光学黑体的值被进行了灰度校正的灰度校正RAW图像数据进行编码而得到的编码RAW图像数据；解码部，其将由所述获取部获取的编码RAW图像数据解码为所述灰度校正RAW图像数据；以及反向校正部，其基于所述伽玛系数和所述光学黑体的值对由所述解码部解码得到的所述灰度校正RAW图像数据进行反向灰度校正，输出灰度校正前的RAW图像数据。

公开(公告)号：CN117561482A

公开(公告)日：2024-02-13

申请号：CN202280045409.8

申请日：2022-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  长谷川启佑 ,  中岛利治 ,  水野恭志

IPC: G03F7/20

Abstract: 图案曝光装置具备：照明单元，其对具有以基于描绘数据切换成打开状态或关闭状态的方式被驱动的多个微镜的空间光调制元件照射照明光；以及投影单元，其入射来自所述空间光调制元件的成为打开状态的微镜的反射光来作为成像光束，将与所述描绘数据对应的图案的像投影至基板。图案曝光装置具备：控制单元，其将与根据所述空间光调制元件的打开状态的微镜的分布密度而产生的所述成像光束的角度变化有关的信息与所述描绘数据一并保存为制程信息；以及调节机构，其在基于所述制程信息驱动所述空间光调制元件而在所述基板上曝光图案时，根据与与所述角度变化有关的信息，对所述照明单元或者所述投影单元内的至少一个光学构件的位置或者角度、或者所述空间光调制元件的角度进行调节。

公开(公告)号：CN114258506B

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202080059072.7

申请日：2020-08-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大竹史哲

IPC: G02B13/04 ,  G02B13/06 ,  G02B13/18 ,  G02B15/20

Abstract: 光学系统由在光轴上排列配置的多个透镜组构成，所述多个透镜组包含前方透镜组、第1对焦透镜组以及第2对焦透镜组，所述前方透镜组相比所述第1对焦透镜组配置于物体侧，所述第2对焦透镜组相比所述第1对焦透镜组配置于像面侧。第1对焦透镜组具有正的光焦度，在从无限远物体向近距离物体进行对焦时沿着光轴向像面侧移动，第2对焦透镜组具有负的光焦度，在从无限远物体向近距离物体进行对焦时沿着光轴向物体侧移动，在第1对焦透镜组与所述第2对焦透镜组之间，具有包含至少一个透镜的中间透镜组。

公开(公告)号：CN117413213A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202280039622.8

申请日：2022-03-04

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 幸岛知之 ,  横井规和 ,  石川贵博

IPC: G02B15/20

Abstract: 变倍光学系统(ZL)具备沿着光轴从物体侧依次排列的具有正的光焦度的第1透镜组(G1)、具有负的光焦度的第2透镜组(G2)、具有正的光焦度的第3透镜组(G3)、具有负的光焦度的第4透镜组(G4)及具有负的光焦度的第5透镜组(G5)，在进行变倍时，相邻的各透镜组之间的间隔变化，第4透镜组(G4)是对焦透镜组，该对焦透镜组在进行对焦时沿着光轴移动，该变倍光学系统(ZL)满足以下条件式：0.11

公开(公告)号：CN117337410A

公开(公告)日：2024-01-02

申请号：CN202280033607.2

申请日：2022-04-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 坂本祐辅 ,  大石末之

IPC: G03B5/00

Abstract: 为了降低在锁定环驱动时产生的声音，抖动校正装置具备：透镜保持框，保持透镜；保持框，将所述透镜保持框以能够移动的方式保持；第1驱动部，相对于所述保持框而在与所述光轴交叉的方向上驱动所述透镜保持框；锁定构件，在锁定位置与解除位置之间移动，所述锁定位置是限制所述透镜保持框的移动的位置，所述解除位置是解除所述限制的位置；以及检测部，检测所述锁定构件的移动量。