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公开(公告)号：CN101976020A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN201010503788.X
申请日：2010-10-12
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。
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公开(公告)号：CN101943859A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010224532.5
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法，该装置包括传输装置、涂布装置、预固化装置、压印装置和强固化装置，该涂布装置将紫外光胶均匀的涂布于由传输装置传输的待压印材料上，经预固化装置流平和半固化之后，送至压印装置进行压印，最后通过强固化装置硬化成型。相对于现有的纳米压印技术，本发明的压印装置具有更高的生产效率和良率。本发明还揭示了一种利用上述装置实现卷对卷紫外纳米压印的方法。
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公开(公告)号：CN101016634B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200610155974.2
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作，不需要进行平版卷绕拼接，不会产生拼缝，且可以获得高硬度的浮雕微结构，因而特别适用于高速连续滚动式模压复制；同时，金属光栅深度可以得到控制。
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公开(公告)号：CN100578289C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200710153957.X
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置，采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源，激光束满足干涉要求，由分束元件产生分束光，通过光学透镜组将光点会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值，以形成干涉条纹刻蚀，通过扫描控制，实现衍射光变色图形的打标。所述的装置，采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头，形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应，提高图像的分辨率；获得衍射变色的激光打标图样。
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公开(公告)号：CN100552538C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200710039275.6
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有全息柱面透镜结构的投影屏，包括屏幕主体，设置于屏幕主体一侧表面的菲涅尔透镜层，设置于屏幕主体另一侧表面的全息柱面透镜阵列层，其特征在于：所述全息柱面透镜阵列上附带有散斑信息结构，所述散斑信息结构是以经过全息柱面透镜和散斑屏的出射光为物光，与参考光干涉成像获得的，全息柱面透镜阵列及附带于其上的散斑信息结构由其制备光路条件限定。本发明采用全息柱面透镜与散斑屏相结合，控制出射光线竖直和水平方向的视场，从而压缩竖直方向视场、增大水平方向视场，获得了高亮度、大视场的全息投影屏，且可方便地实现三维投影。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101526194A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910029411.2
申请日：2009-04-13
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州大学
IPC: F21V8/00 , H01H13/83 , F21Y101/02
Abstract: 本发明公开了一种用于按键背光的导光膜及背光组件，所述导光膜包括一透明导光膜层，在所述导光膜层上分布有导光网点，其特征在于：在所述导光膜上开设有1至2个导光孔。所述背光组件采用该导光膜配合顶发光LED构成，每一导光孔的中心位置与对应的顶发光LED的中心位置一致。本发明通过在导光膜上开设导光孔，可以采用1～2颗顶发光LED配合导光膜实现背光组件，符合手机等电子产品的按键背光均匀性要求，为手机等中小尺寸电子产品的按键背光提供了一种低成本的方案，同时也能够实现产品的超薄与低能耗。
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公开(公告)号：CN100468205C
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200510095777.1
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种消色差光变图像的制作方法，构建定向散斑生成器，以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场，采用迭代傅里叶变换算法计算得到的具有定向衍射特性的二元位相结构，作为光变图像的微结构；根据所需生成的光变图像，用上述定向散斑生成器进行数字化表达，获得光变图像的散斑位相结构；通过空间光调制器，用激光成像系统进行激光直写，获得所需的消色差光变图像。本发明不需要利用干涉等方法来获取散斑，可以利用激光成像系统直写出散斑结构的光变图像，分辨率高，实现了消色差的精密光变图像设计与制作；同时，其适合于热压复制工艺，为制造消色差微光变图像提供了一种新方法。
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公开(公告)号：CN1837992A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200610038418.7
申请日：2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03H1/04
Abstract: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置，包括下列步骤：(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成四束光，经透镜组成像后，在记录材料表面形成干涉条纹单元，所述激光光源采用短相干长度的激光器；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元，逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求；同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果，还可与数字化光变图像相互镶嵌。
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公开(公告)号：CN1786749A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095776.7
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置，包括：(1)构建低空频光栅数字模板，以光栅取向角度等间隔分布，对每一单元光栅用数据结构表达，记录在计算机数据库中；(2)根据所需刻制的微光变图像，从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构，利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上，形成缩小单元像；(3)改变光路和记录介质的相对位置，变换对应空频和取向的光栅图样，重复步骤(2)，依次刻录各个光栅单元，获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法，整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向，只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元，输入SLM上即可实现光栅线条的旋转，因此，精度高。
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公开(公告)号：CN1786748A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095775.2
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种衍射光变图像的高速激光直写方法，入射平行光经光阑、透镜成像到分束元件上，分束光分别经透镜组会聚，产生干涉条纹光场，依次光刻不同取向的干涉条纹形成不同取向的微光栅图像，其特征在于：由采用半导体泵浦的固态紫外激光器生成所述激光束，利用TTL信号控制，实现激光束的脉冲输出，两组分束光束具有零光程差；光学系统和光刻胶干板分别在相互垂直的两个一维方向上运动，采用连续运动、连续脉冲曝光方式进行光刻。本发明并以此实现了高速激光直写光刻系统，使大面积具有微米级条纹结构的衍射光变图像的原版制作缩短到数小时到17小时之间，真正进入工业化应用阶段，是激光全息技术领域数字化先进制造技术的重要突破。
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